【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种基板处理装置，具体地说，将用于进行显像、蚀刻、剥离工序的处理部和储存部构成一体结构，并在内部设置用于循环药液的抽吸装置，从而提高处理效率的基板处理装置。
技术介绍
通常，显示器装置制作工序中，在玻璃基板上形成电路图的工序由以下工序组成在基板表面涂敷感光树脂(photosensitive-polymer)，形成感光膜的工序；通过一定的电路图案将感光膜曝光、显像的工序；蚀刻基板表面的工序；蚀刻工序之后利用有机溶剂等进行剥离的工序。这些显示器装置制作工序中，上述蚀刻工序分为湿法蚀刻和干式蚀刻工序。即，湿法蚀刻是利用化学溶液进行蚀刻的工序，而干式蚀刻是利用等离子体等气体进行蚀刻的工序。这种湿法蚀刻及剥离装置，通常由以下部分组成进行蚀刻及剥离工序的处理部；独立于上述处理部设置，且储存药液的储存部；连接储存部，并向处理部供应药液的泵。因此，对基板进行蚀刻及剥离工序时，通过泵将储存在储存部的药液供应至处理部，并进行处理工序。但是，这种基板处理装置中，泵和处理部分开设置，以此来循环药液，因此在药液循环过程中易发生热损失，在蚀刻工序中药液难以维持适当的温度。而...
【技术保护点】
一种基板处理装置，包括：供应基板的箱体；与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；位于上述储存部的内部，并将药液循 环至上述处理部的抽吸装置；以及连接于上述抽吸装置，并将药液喷射至上述处理部上基板的喷射部。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴庸硕，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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