本发明专利技术提供一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，该处理液罐具有过滤器部，简化供给配管的结构并使供给配管和配管连接部最小化，可以提高设备的可靠性和容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。为此，本发明专利技术公开的处理液罐储存用于处理衬底的处理液，包括：罐主体，隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；过滤器部，设置在罐主体的内部，过滤处理液中包含的异物，过滤器部包括：过滤器主体，设置在第一分离带，其上侧流入部配置在上侧储存部供处理液流入，其下侧排出部配置在下侧储存部供过滤后的处理液排出；过滤器壳体，设置在上侧储存部，覆盖上侧流入部的上部，上侧储存部的处理液流入内部，使上侧流入部浸没在处理液中。没在处理液中。没在处理液中。
【技术实现步骤摘要】
处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置
[0001]本专利技术涉及一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，具体涉及这样一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，该处理液罐在内部具有过滤器，简化连接处理液罐和腔室的供给配管的结构并且使露出到外部的供给配管和配管连接部最小化，从而通过确保优异的气密性来提高设备的可靠性，可以容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。
技术介绍
[0002]在半导体或显示器制造工序等精密制造领域中，使用纯水(Deionized water:DI，去离子水)、超纯水(Ultrapure water:UPW)或各种化工药品等处理液。
[0003]图1是用于说明常规的衬底处理装置的主视示意图，图2是用于说明常规的衬底处理装置的侧视示意图。
[0004]参照图1和图2，通常，衬底处理装置构成为包括：处理衬底1的腔室10；处理液罐20，连接到腔室10和回收配管30，回收并储存在腔室10中使用的处理液；以及处理液供给部40，用于对储存在处理液罐20中的处理液进行加压并再次供给到腔室10。
[0005]处理液供给部40包括将处理液罐20和设置在腔室10的内部的喷射模块46连接的供给配管41，这种供给配管41根据处理液罐20和配置在腔室10的内部的喷射模块46的数量和位置而具有非常复杂的配管结构。而且，在供给配管41上设置有：用于压送处理液的泵42、用于调节处理液流量的流量调节部45、用于过滤处理液内异物的过滤器44、以及用于检测处理液的温度或泄漏等的传感器等各种设备。
[0006]这样，常规的衬底处理装置由于露出到外部的复杂结构的供给配管41而过度地占用处理衬底1的腔室10的下部空间，从而存在整体衬底处理装置的尺寸变大的问题。此外，设置在供给配管41处的大量各种装置而需要许多配管连接部，并且由于在这种配管连接部区域中可能会发生的处理液的泄漏而给安全管理方面带来诸多困难。
[0007]另外，在衬底处理工序中对衬底上的特定膜进行蚀刻的蚀刻工序中，经常使用蚀刻液(Etchant)之类的强酸性的处理液，而这种强酸性的处理液在泄漏或飞散时非常容易起火或爆炸，因而在设备和维护管理方面要求更高的安全管控。
[0008]作为现有技术文献，有韩国登记专利公报第1403510号(2014年6月9日公告)
技术实现思路
[0009]专利技术所要解决的技术问题
[0010]用于解决上述问题的本专利技术的课题在于，提供一种处理液罐和包括该处理液罐的衬底处理装置，所述处理液罐在内部具有过滤器，简化连接处理液罐和腔室的供给配管的结构并且使露出到外部的供给配管和配管连接部最小化，通过确保优异的气密性来提高设备的可靠性，可以容易地执行针对泄漏引发问题的安全管理。
[0011]此外，本专利技术提供一种衬底处理装置，该衬底处理装置将包括流量调节部的供给
配管的一部分配置在腔室的内部，可以进一步简化连接处理液罐和腔室的供给配管的结构，并且可以使露出到外部的供给配管和配管连接部最小化。
[0012]本专利技术所要解决的问题不限于上述技术问题，本专利技术所属领域的技术人员可以通过以下描述明确地理解未提及的其他的技术问题。
[0013]用于解决问题的手段
[0014]用于解决上述问题的根据本专利技术的实施例的处理液罐储存用于处理衬底的处理液，其特征在于，包括：罐主体，其内部空间隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；以及过滤器部，设置在所述罐主体的内部空间中，过滤利用从外部供给的输送压力从所述上侧储存部输送到所述下侧储存部的处理液中包含的异物，所述过滤器部包括：过滤器主体，设置在所述第一分离带处，其上侧流入部配置在所述上侧储存部处供处理液流入，其下侧排出部配置在所述下侧储存部处供过滤后的处理液排出；以及过滤器壳体，设置在所述上侧储存部处，设置成覆盖所述上侧流入部的上部，所述上侧储存部的处理液流入其内部而使所述上侧流入部浸没在处理液中。
[0015]在根据本专利技术的实施例的处理液罐中，所述过滤器壳体可以包括空气排放部，所述空气排气部构造成随着所述上侧储存部的处理液流入内部而使填充在内部的空气排放到外部。
[0016]在根据本专利技术的实施例的处理液罐中，所述下侧储存部可以包括从连接到所述处理液供给部的一侧面朝向另一侧面向上部方向倾斜的底面。
[0017]在根据本专利技术的实施例的处理液罐中，可以设置有多个所述过滤器部，并且所述过滤器部可以从所述下侧储存部的一侧面朝向另一侧面以所设定的间隔分离配置。
[0018]在根据本专利技术的实施例的处理液罐中，所述上侧储存部可以在上部包括用于维护所述过滤器部的可开闭的窗。
[0019]用于解决上述问题的根据本专利技术的实施例的衬底处理装置包括：用于处理衬底的腔室；上述结构的处理液罐储存用于在所述腔室中处理衬底的处理液；以及处理液供给部，将储存在所述处理液罐内的处理液进行加压并提供到所述腔室。
[0020]在根据本专利技术的实施例的衬底处理装置中，所述腔室的内部空间可以隔着第二分离带划分为衬底处理部和配管设置部。
[0021]在根据本专利技术的实施例的衬底处理装置中，所述处理液供给部可以包括：供给配管，将所述处理液罐和所述腔室连接；泵，设置在所述供给配管处，将储存在所述处理液罐中的处理液进行加压并输送到所述腔室；喷射模块，在连接到所述供给配管的状态下配置在所述衬底处理部处，向所述衬底处理部的衬底喷射处理液；以及流量调节部，设置在所述供给配管处，用于调节流向所述喷射模块的处理液的流量，此时，包括所述流量调节部的所述供给配管的至少一部分可以配置在所述配管设置部处。
[0022]专利技术的效果
[0023]根据本专利技术，通过将因残留或泄漏而飞散的处理液而容易引起火灾或爆炸的过滤器部配置在处理液罐的内部，可以提高设备的安全性，可以使露出到外部的供给配管和配管连接部最小化，从而可以通过确保优异的气密性来提高设备的可靠性，并且可以容易地执行因泄漏引起的安全管理。
[0024]根据本专利技术，通过将包括流量调节部的供给配管的至少一部分配置在腔室的内
部，可以进一步减少露出到外部的供给配管和配管连接部，从而可以通过确保优异的气密性来进一步提高设备的可靠性，并且可以更容易执行针对泄漏引发问题的安全管理。
[0025]根据本专利技术，通过将容易泄漏的供给配管和供给模块的一部分配置在处理液罐或腔室的内部，从而如果处理液泄漏或飞散，则处理液罐或腔室可以执行阻止外部流出的二次保护功能，因而可以进一步提高设备的安全性。
[0026]根据本专利技术，通过将供给配管和供给模块的一部分配置在处理液罐或腔室的内部，可以简化处理液供给部的结构，可以大幅减少包括处理液供给部的衬底处理装置的占用空间。
[0027]根据本专利技术，通过将过滤器部配置在泵的前端即处理液罐的内部，可以减少流入供给配管和泵的异物并进一步提高设备的可靠性。
[0028]根据本专利技术，通过包括配置在处理液罐的内部的过滤器壳体，可以确保过滤器部的适当过滤，而与处本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种处理液罐，储存用于处理衬底的处理液，其特征在于，包括：罐主体，其内部空间隔着第一分离带划分为上侧储存部和下侧储存部；以及过滤器部，设置在所述罐主体的内部空间中，过滤利用从外部供给的输送压力从所述上侧储存部输送到所述下侧储存部的处理液中包含的异物，所述过滤器部包括：过滤器主体，设置在所述第一分离带处，其上侧流入部配置在所述上侧储存部处供处理液流入，其下侧排出部配置在所述下侧储存部处供过滤后的处理液排出；以及过滤器壳体，设置在所述上侧储存部处，设置成覆盖所述上侧流入部的上部，所述上侧储存部的处理液流入其内部而使所述上侧流入部浸没在处理液中。2.根据权利要求1所述的处理液罐，其特征在于，所述过滤器壳体包括空气排放部，所述空气排气部构造成随着所述上侧储存部的处理液流入内部而使填充在内部的空气排放到外部。3.根据权利要求1所述的处理液罐，其特征在于，所述下侧储存部包括从连接到所述处理液供给部的一侧面朝向另一侧面向上部方向倾斜的底面。4.根据权利要求3所述的处理液罐，其特征在于，设置有多个所述过滤器部，并且所述过滤器部从所...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴庸硕，朴镐胤，姜辰求，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：
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