本发明专利技术提供一种处理液供给装置，其可以将传送处理液的配管和配管上设置的过滤器、阀和流量计的设置结构简化并使设置空间最小化的同时将过滤后的处理液以所设定的流量有效地供给到使用处。为此，本发明专利技术包括：供给部，对处理液进行加压；过滤器单元，配置在供给部的下游，去除从供给部传送的处理液内的异物；第一配管单元，连接供给部和过滤器单元；流量调节单元，配置在过滤器单元的下游，将从过滤器单元去除了异物的处理液以所设定的流量供给到使用处；第二配管单元，连接过滤器单元和流量调节单元；排泄单元，结合到过滤器单元的下部并支撑过滤器单元，将过滤器单元的内部存在的处理液排出到外部，流量调节单元包括第一阀部和流量测量部。和流量测量部。和流量测量部。
【技术实现步骤摘要】
处理液供给装置
[0001]本专利技术涉及一种处理液供给装置，详细地，涉及一种可以将传送处理液的配管和配管上设置的过滤器、阀和流量计的设置结构简化并使设置空间最小化的同时将过滤后的处理液以所设定的流量有效地供给到使用处的处理液供给装置。
技术介绍
[0002]在半导体或显示器制造工序等的精密制造领域中，使用纯水(Deionized water(去离子水)：DI)或超纯水(Ultrapure water：UPW)或各种化工药品等处理液。
[0003]这样的处理液必须通过供给泵加压并通过各种过滤器、传感器或流量计等，以使用处所需要的条件进行供给。
[0004]这里，处理液在通过各种过滤器、传感器和流量计或将它们连接的配管的过程中可能会发生变质，而如果变质的处理液直接被传送到衬底上，则会成为使衬底的质量下降的主要原因。
[0005]例如，处理液在通过配管的过程中，在通过配管本身、设置在配管上的各种阀、传感器和流量计的过程中可能会产生细微颗粒。
[0006]此外，处理液根据是否使用供给装置，会因配管内部存在的间隙或各种内部结构而可能无法保证稳定的流动，并且在供给装置的长时间未使用中，可能会残留或停滞在间隙中而导致细菌繁殖等污染。
[0007]另外，在由于配管内部存在的间隙或各种内部结构而无法保证稳定的流动的情况下，成为使设置在配管上的过滤器、传感器和流量计等的可靠性下降的主要原因。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010](专利文献1)韩国登记专利公报第0985726号(2010年10月7日公告)
技术实现思路
[0011]专利技术所要解决的技术问题
[0012]用于解决上述问题的本专利技术的目的在于提供一种处理液供给装置，其可以将传送处理液的配管和配管上设置的过滤器、阀和流量计的设置结构简化并使设置空间最小化的同时将过滤后的处理液以所设定的流量有效地供给到使用处。
[0013]用于解决问题的手段
[0014]用于解决上述问题的根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的特征在于，包括：供给部，对处理液进行加压；过滤器单元，配置在所述供给部的下游，用于去除从所述供给部传送的处理液内的异物；第一配管单元，连接所述供给部和所述过滤器单元；流量调节单元，配置在所述过滤器单元的下游，用于将从所述过滤器单元去除了异物的处理液以所设定的流量供给到使用处；第二配管单元，连接所述过滤器单元和所述流量调节单元；以及排泄单元，结合到所述过滤器单元的下部并支撑所述过滤器单元，用于将所述过滤器单元的
内部存在的处理液排出到外部，所述流量调节单元包括：第一阀部，连接到所述第二配管单元，调节从所述第二配管单元传送的处理液的流量；以及流量测量部，直接连接到所述第一阀部而成为一体，并且测量从所述第一阀部排出的处理液的流量。
[0015]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，所述第一阀部可以包括：柔性管部，具有弹性恢复力，与所述第二配管单元连通，并且具有内径大于所述第二配管单元的内径的扩管部；以及阀体，通过外部操作力沿所述柔性管部方向移动的同时对所述柔性管部加压而使其压缩变形，并且控制通过所述柔性管部的处理液的流动。
[0016]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，还可以包括接合单元，所述接合单元设置在所述第一配管单元和所述过滤器单元的连接部、所述过滤器单元和所述第二配管单元的连接部、以及所述第二配管单元和所述流量调节单元的连接部中的至少一处。
[0017]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，所述过滤器单元可以具有连接口，所述连接口从过滤器壳体的外表面朝向所述第一配管单元突出形成，并且在外周表面处形成有第一螺纹部，在这种情况下，所述接合单元可以包括：填密部件，配置在所述第一配管单元的端部和所述连接口之间；环部件，一部分插入到形成在所述第一配管单元的端部外周表面处的设置槽中；以及紧固部件，包括竖直紧固部和水平紧固部，所述竖直紧固部包围所述第一配管单元的端部，并且具有与所述环部件紧密结合的卡台，所述水平紧固部从所述竖直紧固部的边缘朝向所述连接口延伸形成，并且在内周表面处形成有与所述第一螺纹部螺纹结合的第二螺纹部。
[0018]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，所述排泄单元可以包括：排泄配管，与形成在所述过滤器单元的过滤器壳体的下部的排出口连接；以及排泄箱，结合到所述过滤器壳体的下部并支撑所述过滤器壳体，并且具有收纳所述排泄配管和从所述排泄配管排出或泄漏的处理液的排泄空间。
[0019]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，所述过滤器单元可以包括第一过滤器单元和第二过滤器单元，在这种情况下，所述第一配管单元可以包括：第一主管部，连接到所述供给部；第一分支管部，从所述第一主管部分支并连接到所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元；以及第二阀部，设置在所述第一主管部上，用于调节流入所述过滤器单元的处理液的流入流量。
[0020]在根据本专利技术的实施例的处理液供给装置中，所述流量调节单元可以包括第一流量调节单元和第二流量调节单元，在这种情况下，所述第二配管单元可以包括：第二主管部，用于连接所述过滤器单元和所述流量调节单元；第二分支管部，用于将从所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元排出的处理液传送到所述第二主管部；第三分支管部，从所述第二主管部分支并连接到所述第一流量调节单元和所述第二流量调节单元；以及第三阀部，设置在所述第二主管部上，用于调节从所述过滤器单元排出的处理液的排出流量。
[0021]专利技术的效果
[0022]根据本专利技术，通过第一配管单元和第二配管单元以及与第一配管单元和第二配管单元连接的过滤器单元和流量调节单元的简单一体化的结构改善，可以使设置空间最小化，同时使装置的维护变得容易。
[0023]根据本专利技术，使通过配管单元和流量调节单元的处理液不会残留或滞留，由此可以防止由细菌引起的处理液的污染，能够进行具有可靠性的流量调节。
[0024]根据本专利技术，在衬底处理工序中使用的情况下，能够在防止处理液的变质和污染的同时进行准确的流量控制，可以提高所处理的衬底的质量。
附图说明
[0025]图1是根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的整体示意图。
[0026]图2是根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的主视示意图和后视示意图。
[0027]图3是示出根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的流量调节单元的主视示意图。
[0028]图4是沿图3的A
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A线截取的截面示意图。
[0029]图5是示出根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的第一配管单元和过滤器单元的连接部的截面示意图。
[0030]图6是示出根据本专利技术的实施例的处理液供给装置的排泄单元的侧视示意图。
[0031]附图标记说明
[0032]10：供给部
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20：第一配管单元
[0033]30：过滤器单元
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种处理液供给装置，其特征在于，包括：供给部，对处理液进行加压；过滤器单元，配置在所述供给部的下游，用于去除从所述供给部传送的处理液内的异物；第一配管单元，连接所述供给部和所述过滤器单元；流量调节单元，配置在所述过滤器单元的下游，用于将从所述过滤器单元去除了异物的处理液以所设定的流量供给到使用处；第二配管单元，连接所述过滤器单元和所述流量调节单元；以及排泄单元，结合到所述过滤器单元的下部并支撑所述过滤器单元，用于将所述过滤器单元的内部存在的处理液排出到外部，所述流量调节单元包括：第一阀部，连接到所述第二配管单元，调节从所述第二配管单元传送的处理液的流量；以及流量测量部，直接连接到所述第一阀部而成为一体，并且测量从所述第一阀部排出的处理液的流量。2.根据权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述第一阀部包括：柔性管部，具有弹性恢复力，与所述第二配管单元连通，并且具有内径大于所述第二配管单元的内径的扩管部；以及阀体，通过外部操作力沿所述柔性管部方向移动的同时对所述柔性管部加压而使其压缩变形，并且控制通过所述柔性管部的处理液的流动。3.根据权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括接合单元，所述接合单元设置在所述第一配管单元和所述过滤器单元的连接部、所述过滤器单元和所述第二配管单元的连接部、以及所述第二配管单元和所述流量调节单元的连接部中的至少一处。4.根据权利要求3所述的处理液供给装置，其特征在于，所述过滤器单元具有连接口，所述连接口从过滤器壳体的外表面朝向所述第一配管单元突出形成，并且在外周表面处形成有第一螺纹部，所述接合单元包括：填密部件，配置在所述第一配...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴庸硕，姜辰求，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：
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