衬底传送装置制造方法及图纸

技术编号:37632481 阅读:9 留言:0更新日期:2023-05-20 08:53
本发明专利技术提供这样一种衬底传送装置:从朝向在传送轴处设置的轴承部单独供给和调节润滑液的方式变更为统一供给和调节润滑液的集成方式,可以使与轴承部的浸渍容量均匀,并提高润滑和清洗质量,并且排除用于供给润滑液的动力模块,简化复杂的配管结构,从而可以减少泄漏风险。为此,本发明专利技术包括:轴承壳体,以轴承为媒介可旋转地支撑传送轴,并且具有润滑液收纳部,其中填充有第一液面高度的润滑液;以及润滑液供给部,将润滑液供给到所述润滑液收纳部。本发明专利技术公开了以下特征,即,所述润滑液供给部包括:供给罐,通过供给流路与所述润滑液收纳部连通,填充有第二液面高度的润滑液;以及液位调节部,使所述第一液面高度和所述第二液面高度保持相同。面高度保持相同。面高度保持相同。

【技术实现步骤摘要】
衬底传送装置


[0001]本专利技术涉及一种衬底传送装置,详细而言,涉及这样一种衬底传送装置:从朝向在传送衬底的传送轴处设置的轴承部单独供给和调节润滑液的方式变更为统一供给和调节润滑液的集成方式,从而可以使每个轴承的润滑液的浸渍(Dipping)容量均匀来提高润滑和清洗质量,并且可以排除用于供给润滑液的动力模块,简化复杂的配管结构,从而可以减少泄漏(Leak)风险。

技术介绍

[0002]平板显示装置要经过多种处理工序,例如经过用于在工序衬底上形成薄膜或图案的蒸镀工序、烘焙工序、抛光工序、显影工序以及蚀刻工序等。
[0003]在自动化和效率方面,在上述多种衬底处理工序中,必须具备用于将工序衬底传送到各处理工序和装置的衬底传送装置。
[0004]衬底传送装置基本上包括具有支撑衬底的传送辊的传送轴,这种传送轴使用轴承以减小旋转阻力。而且,轴承被设计成保持浸渍(Dipping)在润滑液中的状态以减少摩擦并清洗由摩擦而产生的异物。
[0005]图1是以常规的衬底传送装置的轴承壳体和润滑液供给部为中心示出的示意图。
[0006]参照图1,常规的衬底传送装置构成为包括:传送轴1;轴承壳体3,以轴承B为媒介可旋转地支撑传送轴1,并且填充有润滑液以用于轴承B的清洗和润滑;润滑液供给部4,将润滑液供给到轴承壳体3;以及润滑液排放部6,排出轴承壳体3的润滑液。
[0007]这种常规的衬底传送装置存在以下问题。
[0008]首先,将轴承壳体3和润滑液供给部4连接的供给流路5和将轴承壳体3和润滑液排放部6连接的排出流路7由复杂的配管结构构成,由于这种复杂的配管结构所具有的许多连接点,存在泄漏(Leak)风险性增加的问题,随之产生维护管理的困难。
[0009]此外,在配管连接点处,润滑液会泄漏或存在停滞区间,在这种情况下会在配管内产生细菌,由此可能会污染衬底。
[0010]此外,在将各个轴承壳体3和润滑液供给部4连接的供给流路5上分别设置有调节润滑液的流量的流量调节阀8,从而可以单独调节润滑液的流量。
[0011]同样地,在将各个轴承壳体3和润滑液排放部6连接的排出流路7上也分别设置有调节润滑液的流量的流量调节阀(未图示),从而可以单独调节润滑液的流量。
[0012]在这种情况下,难以控制在大量的轴承壳体3各自中所填充的润滑液的供给量,存在用于润滑液的供应量的调节及设定的工作量增加的问题。如果对每个轴承壳体3的润滑液供给量发生偏差,则可能会降低轴承B的润滑和清洗效果。
[0013]此外,若设置在传送轴1上的每个轴承B的润滑和清洗质量发生偏差,导致产生异物等而使耐久性下降,则在传送轴1上传送的衬底可能会被损坏或污染。
[0014]作为现有技术文献有韩国登记专利公报第1077486号(2011年10月27日公告)。

技术实现思路

[0015]专利技术所要解决的技术问题
[0016]用于解决上述问题的本专利技术的目的是提供这样一种衬底传送装置:从朝向在传送轴处设置的轴承部单独供给和调节润滑液的方式变为统一供给和调节润滑液的集成方式,从而可以使每个轴承的润滑液的浸渍容量均匀来提高润滑和清洗质量,并且可以排除用于供给润滑液的动力模块,简化复杂的配管结构,从而可以减少泄漏风险。
[0017]本专利技术所要解决的问题不限于上述技术问题,并且本专利技术所属领域的普通技术人员可以通过以下记载清楚地理解未提及的其他技术问题。
[0018]用于解决问题的手段
[0019]用于解决上述问题的根据本专利技术的实施例的衬底传送装置的特征在于,可以包括:传送轴,用于传送衬底;轴承壳体,以轴承为媒介可旋转地支撑所述传送轴,并且具有润滑液收纳部,其中填充有第一液面高度的用于清洗和润滑所述轴承的润滑液;以及润滑液供给部,将润滑液供给到所述润滑液收纳部,此时,所述润滑液供给部包括:供给罐,通过供给流路与所述润滑液收纳部连通,并且填充有第二液面高度的润滑液;以及液位调节部,使所述第一液面高度和所述第二液面高度保持相同。
[0020]在根据本专利技术的实施例的衬底传送装置中,所述液位调节部可以包括:补充罐,填充有润滑液;以及阀,设置在所述补充罐的排出口处,当填充在所述供给罐中的润滑液低于所述第二液面高度时,打开所述补充罐的排出口,将润滑液补充到所述供给罐。
[0021]此时,所述阀可以是浮阀。
[0022]在根据本专利技术的实施例的衬底传送装置中,还可以包括:润滑液排放部,具有通过排出流路与所述润滑液收纳部连通的排放罐,当填充在所述润滑液收纳部中的润滑液上升到高于所述第一液面高度时,排放润滑液。
[0023]在根据本专利技术的实施例的衬底传送装置中,还可以包括轴框架,所述轴框架支撑所述轴承壳体,此时,所述供给流路和所述排出流路可以形成在所述轴框架和所述轴承壳体的内部。
[0024]专利技术的效果
[0025]根据本专利技术,可以从朝向传送轴处设置的轴承部单独供给和调节润滑液的方式变更为统一供给和调节润滑液的集成方式,从而可以使每个轴承的润滑液的浸渍(Dipping)容量均匀来提高润滑和清洗质量。
[0026]根据本专利技术,利用虹吸原理将润滑液供给部的润滑液统一供给到轴承壳体侧,因而可以大幅缩小用于供给和排出润滑液的动力模块和阀单元,因此可以简化装置的结构并降低维护费用。
[0027]根据本专利技术,在使供给流路和排出流路简化的同时一体形成在轴框架和轴承壳体,因而可以简化复杂的配管结构并大幅减少泄漏风险,因此容易进行维护管理,并可以预防衬底的损坏和污染。
[0028]应当理解为,本专利技术的效果不限于上述效果,而是包括可以从本专利技术的详细说明或权利要求书中所记载的本专利技术的结构中推断出的所有效果。
附图说明
[0029]图1是以常规的衬底传送装置的轴承壳体、润滑液供给部和润滑液排放部为中心示出的示意图。
[0030]图2是示出根据本专利技术的一实施例的衬底传送装置的传送轴的示意图。
[0031]图3是以根据本专利技术的一实施例的衬底传送装置的轴承壳体和润滑液供给部为中心示出的示意图。
[0032]图4是以根据本专利技术的另一实施例的衬底传送装置的轴承壳体、润滑液供给部和润滑液排放部为中心示出的示意图。
[0033]图5是以根据本专利技术的另一实施例的衬底传送装置的轴承壳体和轴框架为中心示出的示意图。
[0034]附图标记说明
[0035]10:传送轴
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20:轴框架
[0036]30:轴承壳体
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40:润滑液供给部
[0037]50:供给流路
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60:润滑液排放部
[0038]70:排出流路
具体实施方式
[0039]以下,参考附图对可以具体实现上述要解决的问题的本专利技术的优选实施例进行说明。在对本实施例进行说明时,对于相同的结构,可以使用相同本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底传送装置,其特征在于,包括:传送轴,用于传送衬底;轴承壳体,以轴承为媒介可旋转地支撑所述传送轴,并且具有润滑液收纳部,其中填充有第一液面高度的用于清洗和润滑所述轴承的润滑液;以及润滑液供给部,将润滑液供给到所述润滑液收纳部,所述润滑液供给部包括:供给罐,通过供给流路与所述润滑液收纳部连通,并且填充有第二液面高度的润滑液;以及液位调节部,使所述第一液面高度和所述第二液面高度保持相同。2.根据权利要求1所述的衬底传送装置,其特征在于,所述液位调节部包括:补充罐,填充有润滑液;以及阀,设置在所述补充罐的排出口处,当填...

【专利技术属性】
技术研发人员:朴庸硕朴镐胤朴康淳
申请(专利权)人:显示器生产服务株式会社
类型:发明
国别省市:

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