【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及屏蔽薄膜及其制造方法、以及使用该薄膜的电路基片的制造方法。近年来,随着电子设备的小型化、高密度化,在产业用以及民用领域中,人们开始迫切要求电路基片的多层化。这种电路基片,需要新开发出在多层电路图形之间进行穿孔连接的制造方法、以及具有高可靠性的电路基片结构。关于双面电路基片的制造方法,有人提出了利用导电糊剂进行内部穿孔连接的电路基片制造方法。下面,对这种以往的电路基片的制造方法进行说明。图8所示为制造以往的电路基片所使用的屏蔽薄膜(mask film)之剖面图。图9是制造以往的电路基片用的屏蔽薄膜之立体图,该图表示张力较大的部位。以往的屏蔽薄膜22具有基体部件11和脱模层12,该脱模层设置在该基体部件11的整个表面上。基体部件11是用聚对苯二甲酸乙二醇酯制造的。双面电路基片的制造方法,是以脱模层12一侧位于预成型薄片(pre-preg sheet)表面的形式、将屏蔽薄膜粘贴在预成型薄片的两面上。预成型薄片具有基体部件和含浸在该基体部件内的树脂。接着,在粘贴了屏蔽薄膜22的预成型薄片的规定部位上形成贯通孔。然后,将导电糊剂填充在贯通孔内。填充导电糊 ...
【技术保护点】
一种用于制造电路基片的屏蔽薄膜,它包括基体部件(1)和设置在该基体部件(1)上的脱模层(2)以及非脱模部(3、4、5、6)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:竹中敏昭,近藤俊和,岸本邦雄,中村真治,越后文雄,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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