一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备制造方法及图纸

本申请涉及一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备，该装置包括光罩放置平台，位于光刻机内部；抓取部件，用于在控制器的控制下抓取光罩；信息采集模块，包括位于所述光罩放置平台上方的摄像装置；微粒吹扫部件，包括至少一个吹扫气枪，位于所述光罩放置平台上方；控制器，用于确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制所述抓取部件抓取所述光罩并放置在所述光罩放置平台上，并控制所述摄像装置采集图片，根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。本申请自动放置有微粒的光罩至光罩放置平台并定位微粒位置，控制吹扫气枪对准并清除微粒，提高生产效率，降低光罩损耗率。低光罩损耗率。低光罩损耗率。

【技术实现步骤摘要】
一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备


[0001]本申请涉及半导体光刻
，尤其涉及一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备。

技术介绍

[0002]在半导体领域，将集成电路图设计在光罩上，通过曝光将光罩上的图案映射在晶圆上。在实际生产中，机台内部会产生一些微粒落在光罩上。在曝光过程中，这会造成晶圆上的电路图像与设计电路不符合，影响电路图功能的实现，导致产品良率下降，严重的话还会造成晶圆的报废。
[0003]目前光罩在曝光前，光刻机机台会主动对光罩进行一次检查。如果光罩上的微粒大于设定的阈值,机台会报错。工作人员需要手动将光罩取出，在强光灯下用气枪将微粒吹除，这样做不仅费时费力，而且操作不慎的话，还会对光罩造成损伤，也会影响到光刻机机台的工作效率。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种自动清除光罩微粒的方法、装置及设备，在光刻机机台检测到微粒后，可以自动定位光罩上的微粒并清除，提升生产效率。
[0005]第一方面，本申请提供一种自动清除光罩微粒的装置，包括：
[0006]光罩放置平台，位于光刻机内部，用于放置光罩；
[0007]抓取部件，用于在控制器的控制下抓取光罩；
[0008]信息采集模块，包括位于所述光罩放置平台上方的摄像装置；
[0009]微粒吹扫部件，包括至少一个吹扫气枪，位于所述光罩放置平台上方；
[0010]控制器，用于确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制所述抓取部件抓取所述光罩并放置在所述光罩放置平台上，并控制所述摄像装置采集图片，根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。
[0011]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0012]接触式压力传感器，位于所述光罩放置平台上，用于检测到光罩放置到所述光罩放置平台上时，给所述控制器发送指示信号；
[0013]电磁卡扣，位于所述光罩放置平台周围，用于接收所述控制器根据所述指示信号发送的锁定指令，将所述光罩锁定在所述光罩放置平台上。
[0014]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0015]与摄像装置连接的第一步进电机，所述控制器通过控制第一步进电机转动摄像装置，其中，在光罩放置到所述光罩放置平台上时，控制摄像装置转动至初始位置，在确定所述微粒的物理位置坐标后，控制所述摄像装置对焦所述微粒的坐标位置。
[0016]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0017]与所述吹扫气枪连接的第二步进电机，所述控制器通过控制所述第二步进电机控制所述吹扫气枪对准微粒的方向。
[0018]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0019]至少一个可伸缩式电动支撑杆，位于所述光罩放置平台下方，所述控制器通过调整所述可伸缩式电动支撑杆的高度，调整所述光罩放置平台的高度及倾斜角度。
[0020]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0021]微粒吸收装置，位于所述光罩放置平台四周，所述控制器通过控制所述微粒吸收装置在设定区间内摆动，吸收被吹扫掉的微粒。
[0022]在一个或多个实施例中，该装置还包括：
[0023]显示屏，用于显示所述光罩放置平台、所述信息采集模块、所述微粒清扫部件的工作状态；
[0024]手动控制模块，包括至少一个控制按钮，用于感应到触控信号时产生对应手动控制指令并发送到所述控制器，由所述控制器根据所述手动控制指令对所述光罩放置平台、信息采集模块、微粒清扫部件进行控制。
[0025]第二方面，本申请提供一种自动清除光罩微粒的方法，包括：
[0026]确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制抓取部件抓取所述光罩放置在光罩放置平台上；
[0027]控制摄像装置对放置在所述光罩平台上的光罩进行图片采集，并根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标；
[0028]根据所述微粒的物理位置坐标，控制至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。
[0029]在一个或多个实施例中，控制抓取部件抓取所述光罩放置在光罩放置平台上，包括：
[0030]接收接触式压力传感器检测到光罩放置到所述光罩放置平台上时发送的指示信号；
[0031]向电磁卡扣发送锁定指令，以控制所述电磁卡扣将所述光罩锁定在所述光罩放置平台上。
[0032]在一个或多个实施例中，控制摄像装置对放置在所述光罩平台上的光罩进行图片采集，并根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，包括：
[0033]通过调整可伸缩式电动支撑杆的高度，调整光罩放置平台到平台初始位置，通过控制第一步进电机控制摄像装置转动到初始采集位置；
[0034]控制所述摄像装置进行图片采集，并对所述图片进行解析确定微粒的像素位置；
[0035]根据预先标定的校验图片中不同像素位置与物理位置坐标的对应关系，确定所述微粒的像素位置对应的物理位置坐标；
[0036]其中，所述校验图片为将预先将光罩放置平台调整到平台初始位置，利用所述摄像装置在初始采集位置对光罩放置平台采集的图片。
[0037]在一个或多个实施例中，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫，包括：
[0038]根据确定的微粒的物理位置坐标，通过控制第一步进电机控制摄像装置转动至对焦到其中一个微粒的物理位置坐标；
[0039]通过控制第二步进电机调整吹扫气枪对准微粒的方向，并对所述微粒进行吹扫；
[0040]在吹扫过程中，通过摄像装置再次进行图片采集并解析，确定微粒被清除时，控制通过控制第一步进电机控制摄像装置转动至对焦到另一个微粒的物理位置坐标，重复上述过程至吹扫完所有微粒。
[0041]在一个或多个实施例中，控制第一步进电机控制摄像装置转动至对焦到其中一个微粒的物理位置坐标，包括：
[0042]重复执行以下交替控制至满足控制结束条件：
[0043]控制第一步进电机控制摄像装置转动至对焦到其中一个微粒的物理位置坐标；
[0044]通过调整可伸缩式电动支撑杆的高度，调整光罩放置平台的高度和倾斜方向，至所述摄像装置的方向与所述微粒的方向垂直；
[0045]其中，所述控制结束条件为所述摄像装置既对焦到所述其中一个微粒的物理位置坐标且方向与所述微粒的方向垂直。
[0046]在一个或多个实施例中，通过控制第一步进电机控制摄像装置转动至对焦到其中一个微粒的物理位置坐标，包括：
[0047]将当前摄像装置对焦的物理位置坐标与其中一个微粒的物理位置坐标的差值作为偏差量，将第一步进电机的转动作为控制量，利用PID算法控制所述第一步进电机控制所述摄像装置转动。
[0048]在一个或多个实施例中，通过调整所述可伸缩式电动支撑杆的高度，调整光罩放置平台的高度和倾斜方向，包括：
[0049]将当前光罩放置平台下摄像装置的方向与微粒的方向的角度与90度角度的差值作为偏差量，将所述可伸缩式电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动清除光罩微粒的装置，其特征在于，包括：光罩放置平台，位于光刻机内部，用于放置光罩；抓取部件，用于在控制器的控制下抓取光罩；信息采集模块，包括位于所述光罩放置平台上方的摄像装置；微粒吹扫部件，包括至少一个吹扫气枪，位于所述光罩放置平台上方；控制器，用于确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制所述抓取部件抓取所述光罩并放置在所述光罩放置平台上，并控制所述摄像装置采集图片，根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，控制所述至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述光罩上的微粒。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：接触式压力传感器，位于所述光罩放置平台上，用于检测到光罩放置到所述光罩放置平台上时，给所述控制器发送指示信号；电磁卡扣，位于所述光罩放置平台周围，用于接收所述控制器根据所述指示信号发送的锁定指令，将所述光罩锁定在所述光罩放置平台上。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：与摄像装置连接的第一步进电机，所述控制器通过控制第一步进电机转动摄像装置，其中，在光罩放置到所述光罩放置平台上时，控制摄像装置转动至初始位置，在确定所述微粒的物理位置坐标后，控制所述摄像装置对焦所述微粒的坐标位置。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：与所述吹扫气枪连接的第二步进电机，所述控制器通过控制所述第二步进电机控制所述吹扫气枪对准微粒的方向。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：至少一个可伸缩式电动支撑杆，位于所述光罩放置平台下方，所述控制器通过调整所述可伸缩式电动支撑杆的高度，调整所述光罩放置平台的高度及倾斜角度。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：微粒吸收装置，位于所述光罩放置平台四周，所述控制器通过控制所述微粒吸收装置在设定区间内摆动，吸收被吹扫掉的微粒。7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：显示屏，用于显示所述光罩放置平台、所述信息采集模块、所述微粒清扫部件的工作状态；手动控制模块，包括至少一个控制按钮，用于感应到触控信号时产生对应手动控制指令并发送到所述控制器，由所述控制器根据所述手动控制指令对所述光罩放置平台、信息采集模块、微粒清扫部件进行控制。8.一种自动清除光罩微粒的方法，其特征在于，包括：确定光刻机中的光罩上存在微粒时，控制抓取部件抓取所述光罩放置在光罩放置平台上；控制摄像装置对放置在所述光罩平台上的光罩进行图片采集，并根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标；根据所述微粒的物理位置坐标，控制至少一个吹扫气枪对准所述微粒吹扫以清除所述
光罩上的微粒。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，控制抓取部件抓取所述光罩放置在光罩放置平台上，包括：接收接触式压力传感器检测到光罩放置到所述光罩放置平台上时发送的指示信号；向电磁卡扣发送锁定指令，以控制所述电磁卡扣将所述光罩锁定在所述光罩放置平台上。10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，控制摄像装置对放置在所述光罩平台上的光罩进行图片采集，并根据采集的图片确定所述微粒的物理位置坐标，包括：通过调整可伸缩式电动支撑杆的高度，调整光罩放置平台到平台初始位置，通过控制第一步进电机控制摄像装置转动到初始采集位置；控制所述摄像装置进行图片采集，并对所述图片进行解析确定微粒的像素位置；根据预先标定的校验图片中不同像素位...

【专利技术属性】
技术研发人员：李佳佳，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：