本发明专利技术构思提供一种边缘曝光装置，其用于通过将光照射在基板的边缘区域处来执行边缘曝光工艺。所述边缘曝光装置包括：支撑单元，其被配置为支撑所述基板；光照射单元，其具有光源，以用于将所述光照射到所述基板上；和控制单元，其被配置为控制所述光源的输出，并且其中所述控制单元包括：测量单元，其被配置为根据所述光源的所述输出测量照度值；和输出控制单元，其被配置为在由所述测量单元测量的照度值当中设定参考照度值，并基于所设定的参考照度值控制所述光源的所述输出。度值控制所述光源的所述输出。度值控制所述光源的所述输出。
【技术实现步骤摘要】
边缘曝光装置及光源输出控制方法
[0001]本文描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种边缘曝光装置和一种光源输出控制方法。
技术介绍
[0002]平板显示器(FPD)，例如液晶显示(LCD)设备和等离子体显示面板(PDP)设备等广泛用作图像显示设备。
[0003]FPD的制造包括各种工艺，包括：在基板(例如晶圆)上形成各种图案，形成隔室、模块等。具体而言，执行光刻工艺以在基板上形成各种图案。光刻工艺顺序地执行：在基板上涂敷感光液体(例如光刻胶液体)的涂敷工艺；使用限定待形成的图案的光掩模来曝光所涂覆的感光膜的曝光工艺；和选择性地去除所涂覆的光刻胶膜的部分的显影工艺。在本文中，在涂敷工艺和显影工艺之前和/或之后执行焙烧工艺，以用于对基板进行热处理。在显影工艺之前，单独执行边缘曝光工艺，以曝光基板的边缘的预定宽度。在下文中，用于执行边缘曝光工艺的单元可以称为边缘曝光晶圆(EEW)单元。
[0004]图1是示出传统EEW单元的实施方式的视图。
[0005]照相设备中所使用的EEW单元是通过使用ArF、KrF、i线等照射UV曝光晶圆边缘部分的单元。参照图1，EEW包括：灯外壳，其具有光源(短弧灯(例如，高压汞灯、高压氙灯等))，以用于施加曝光能量；光学系统，其用于照射晶圆表面的预定区块；和可选的光导，其用于将灯外壳的光能量传送到光学系统。参照图1，灯外壳可以包括：灯；椭圆反射器，其用于会聚灯的光能量；快门和光圈，其用于以物理方式控制灯的光能量；和控制器单元，其用于控制功率等。灯外壳中所使用的灯是高压汞灯或氙灯，并且所使用的功率是200W至250W。这些灯以所使用的每个功率中的最大功率(额定功率)固定地操作，其中，250W灯的寿命范围从1000到3000小时，并且200W灯的寿命范围从1000到4000小时。
[0006]传统EEW灯的传统操作是在初始阶段保持最大功率(额定功率)，并且然后逐渐降低亮度强度，这样可能缩短灯寿命。
技术实现思路
[0007]本专利技术构思的实施方式提供一种能够增加边缘曝光装置中的光源的寿命的光源输出控制方法。
[0008]本专利技术构思的技术目的不限于上述技术目的，并且其他未提及的技术目的据以下描述将对于本领域技术人员变得显而易见。
[0009]本专利技术构思提供一种用于边缘曝光装置的、控制用于曝光基板的光源的输出的方法。所述方法包括：根据所述光源的输出值测量照度值；在所测量的照度值当中设定参考照度值；以及基于所述参考照度值控制所述光源的所述输出。
[0010]在一个实施方式中，所述方法还包括：检查所设定的参考照度值是否满足电稳定性。
[0011]在一个实施方式中，所述检查所设定的参考照度值是否满足电稳定性包括：检查所设定的参考照度值处的照度值百分比是否为70％或更高。
[0012]在一个实施方式中，所述参考照度值是所测量的照度值当中具有与所述曝光所需的目标照度值最接近的值的照度值。
[0013]在一个实施方式中，所述方法还包括：实时测量所述光源的所述输出。
[0014]在一个实施方式中，所述方法还包括：当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度值的误差范围偏离时，控制光圈。
[0015]在一个实施方式中，所述方法还包括：当即使在控制所述光圈之后实时测量的所述光源的所述输出也从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，增加所述光源的所述输出。
[0016]在一个实施方式中，所述增加所述光源的所述输出包括：以1W为单位增加所述光源的所述输出。
[0017]在一个实施方式中，所述方法还包括：在所述光源的所述输出增加之后，当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，进一步增加所述光源的所述输出。
[0018]本专利技术构思提供一种边缘曝光装置，其用于通过将光照射到基板的边缘区域执行边缘曝光工艺。所述边缘曝光装置包括：支撑单元，其被配置为支撑所述基板；光照射单元，其具有光源，以用于将所述光照射到所述基板上；和控制单元，其被配置为控制所述光源的输出，并且其中所述控制单元包括：测量单元，其被配置为根据所述光源的所述输出测量照度值；和输出控制单元，其被配置为在由所述测量单元测量的照度值当中设定参考照度值，并基于所设定的参考照度值控制所述光源的所述输出。
[0019]在一个实施方式中，所述输出控制单元检查所设定的参考照度值是否满足电稳定性。
[0020]在一个实施方式中，所述输出控制单元检查所设定的参考照度值处的照度值百分比是否为70％或更高。
[0021]在一个实施方式中，所述参考照度值是所测量的照度值当中具有与曝光所需的目标照度值最接近的值的照度值。
[0022]在一个实施方式中，所述测量单元实时测量根据所述输出控制单元控制的所述光源的所述输出。
[0023]在一个实施方式中，所述控制单元还包括光圈，其用于以物理方式调整所述光源的所述输出。
[0024]在一个实施方式中，当实时测量的所述光源的所述输出从目标照度值的误差范围偏离时，所述输出控制单元控制所述光圈。
[0025]在一个实施方式中，在所述控制所述光圈之后，当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度的所述误差范围偏离时，所述输出控制单元增加所述光源的所述输出。
[0026]在一个实施方式中，所述输出控制单元以1W为单位增加所述光源的所述输出。
[0027]在一个实施方式中，在所述光源的所述输出增加之后，当实时测量的所述光源的所述输出并未从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，所述输出控制单元保持所述光源的所述输出。
[0028]在一个实施方式中，在所述光源的所述输出增加之后，当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，所述输出控制单元进一步增加所述光源的所述输出。
[0029]根据本专利技术构思的实施方式，所述边缘曝光装置中包括的光源的寿命可以增加。
[0030]根据本专利技术构思的实施方式，可以通过减弱边缘曝光装置中包括的光源的发热温度稳定照度。
[0031]本专利技术构思的效果不限于上述效果，并且其他效果据以下描述将对于本领域技术人员变得显而易见。
附图说明
[0032]上述和其他目的和特征将参照以下附图据以下描述变得显而易见，其中，除非另有说明，否则相同附图标记贯穿各个附图指代相同部分，并且其中：
[0033]图1是示出传统EEW单元的实施方式的视图。
[0034]图2示出根据本专利技术构思的实施方式的基板处理装置。
[0035]图3是示出根据本专利技术构思的实施方式的边缘曝光装置的配置的框图。
[0036]图4是示出根据本专利技术构思的实施方式的控制单元的配置的框图。
[0037]图5是根据传统光源输出控制方法和根据本专利技术构思的光源输出控制方法的结果图线。
[0038]图6是使用根据本专利技术构思的控制方法测量寿命的图线。
[0039]图7示出使用灵敏显色方法测量寿命的结果本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于边缘曝光装置的、控制用于曝光基板的光源的输出的方法，所述方法包括：根据所述光源的输出值测量照度值；在所测量的照度值当中设定参考照度值；以及基于所述参考照度值控制所述光源的所述输出。2.根据权利要求1所述的方法，其还包括：检查所设定的参考照度值是否满足电稳定性。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述检查所设定的参考照度值是否满足电稳定性包括：检查所设定的参考照度值处的照度值百分比是否为70％或更高。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述参考照度值是所测量的照度值当中具有与所述曝光所需的目标照度值最接近的值的照度值。5.根据权利要求4所述的方法，其还包括：实时测量所述光源的所述输出。6.根据权利要求5所述的方法，其还包括：当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度值的误差范围偏离时，控制光圈。7.根据权利要求6所述的方法，其还包括：当即使在控制所述光圈之后、实时测量的所述光源的所述输出也从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，增加所述光源的所述输出。8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述增加所述光源的所述输出包括：使所述光源的所述输出以1W为单位增加。9.根据权利要求7所述的方法，其还包括：在所述光源的所述输出增加之后，当实时测量的所述光源的所述输出从所述目标照度值的所述误差范围偏离时，进一步增加所述光源的所述输出。10.一种边缘曝光装置，其用于通过将光照射到基板的边缘区域执行边缘曝光工艺，所述边缘曝光装置包括：支撑单元，其被配置为支撑所述基板；光照射单元，其具有光源，以用于将所述光照射到所述基板上；和控制单元，其被配置为控制所述光源的输出，并且其中，所述控制单元包括：测量单元，其被配置为根据所述光源的所述输出测量照度值；和输出控制单元，其被配置为在由所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：金光烈，殷吉洙，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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