液体化学品供应模块和基底处理设备制造技术

提供了一种液体化学品供应模块和包括所述液体化学品供应模块的基底处理设备，所述液体化学品供应模块包括：主供应器，用于将液体化学品从液体化学品罐供应到至少一个基底处理设备；以及至少一个分配供应器，用于连接在所述主供应器和任何一个基底处理设备之间，以将通过所述主供应器供应的所述液体化学品分配到所述任何一个基底处理设备，其中，所述分配供应器包括：分配管线，从所述主供应器的主管线分支；第一循环管线，从所述分配管线分支并且连接在所述分配管线和所述主管线之间；以及第二循环管线，从所述分配管线分支并且连接在所述分配管线和所述主管线之间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种液体化学品供应模块和一种包括液体化学品供应模块的基底处理设备，更具体地，涉及一种能够将用于处理基底的液体化学品供应到基底处理设备的液体化学品供应模块和一种包括液体化学品供应模块的基底处理设备。

技术介绍

1、执行诸如光刻、蚀刻、灰化和沉积的各种工艺，以制造半导体装置或液晶显示器。在这些工艺中，由于基底上的电路图案的小型化，装置特性和产量更容易受颗粒和污染物的影响。这样，在每道工序之前或之后，执行用于去除颗粒和污染物的清洁工艺。多种化学品供应、冲洗和干燥工艺可以在腔室中作为清洁工艺顺序执行，并且在清洁工艺中产生的污染物或颗粒和烟雾可以通过在清洁工艺期间在腔室中引起清洁空气的向下流动而被排放到外部。

2、当清洁基底时，可以使用各种类型的液体化学品来去除基底上的污染物，并且每种液体化学品可以通过位于基底上方的喷射喷嘴喷射到基底上。通过喷射喷嘴喷射以清洁基底的液体化学品，可以通过连接到液体化学品罐的液体化学品供应模块控制到适工艺条件的流速，然后该液体化学品被供应到基底处理设备的喷射喷嘴。

3、用于将液体化学品从液体化学品罐本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种液体化学品供应模块，包括：

2.根据权利要求1所述的液体化学品供应模块，其中，所述主供应器包括：

3.根据权利要求2所述的液体化学品供应模块，其中，所述主供应器还包括压力传感器，所述压力传感器安装在所述BPV和所述分配管线之间的所述主管线上，以感测在所述BPV之后的所述主管线中流动的所述液体化学品的所述压力。

4.根据权利要求2所述的液体化学品供应模块，其中，所述分配管线包括流量控制阀(FCV)，所述FCV安装在所述分配管线上，以控制供应到所述任何一个基底处理设备的所述液体化学品的流速。

5.根据权利要求4所述的液体化学品供应模块，...

【技术特征摘要】

1.一种液体化学品供应模块，包括：

2.根据权利要求1所述的液体化学品供应模块，其中，所述主供应器包括：

3.根据权利要求2所述的液体化学品供应模块，其中，所述主供应器还包括压力传感器，所述压力传感器安装在所述bpv和所述分配管线之间的所述主管线上，以感测在所述bpv之后的所述主管线中流动的所述液体化学品的所述压力。

4.根据权利要求2所述的液体化学品供应模块，其中，所述分配管线包括流量控制阀(fcv)，所述fcv安装在所述分配管线上，以控制供应到所述任何一个基底处理设备的所述液体化学品的流速。

5.根据权利要求4所述的液体化学品供应模块，其中，所述分配管线还包括第一开/关阀，所述第一开/关阀相对于所述液体化学品流过所述分配管线的所述方向安装在所述fcv之后的所述分配管线上，以打开或关闭所述分配管线。

6.根据权利要求4所述的液体化学品供应模块，其中，所述第一循环管线相对于所述液体化学品流过所述分配管线的所述方向在所述fcv之后从所述分配管线分支，并且相对于所述液体化学品流过所述主管线的所述方向在所述bpv之前连接到所述主管线。

7.根据权利要求6所述的液体化学品供应模块，其中，所述第一循环管线包括第二开/关阀，所述第二开/关阀安装在所述第一循环管线上，以打开或关闭所述第一循环管线。

8.根据权利要求6所述的液体化学品供应模块，其中，所述第二循环管线相对于所述液体化学品流过所述分配管线的所述方向在所述fcv之前从所述分配管线分支，并且相对于所述液体化学品流过所述主管线的所述方向在所述bpv之前连接到所述主管线。

9.根据权利要求8所述的液体化学品供应模块，其中，所述第二循环管线包括安全阀，所述安全阀安装在所述第二循环管线从所述分配管线分支的位置处，以当在所述分配管线中流动的所述液体化学品的所述压力超过预设的特定分配压力时，使在所述分配管线中流动的所述液体化学品的至少一部分循环回到所述主管线。

10.根据权利要求9所述的液体化学品供应模块，其中，所述第二循环管线还包括第三开/关阀，所述第三开/关阀安装在所述第二循环管...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁承太，朴尚禹，韩泳遵，金圣贤，崔气勋，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：