【技术实现步骤摘要】
本公开涉及半导体设备,特别是涉及一种基板位置校准装置、方法、系统、设备和存储介质。
技术介绍
1、传统技术中,化学气相沉积(cvd,chemical vapor deposition)机台,在对基板进行移交操作过程中,需要由机器人移动手臂承载基板进入到制程腔室。然而,传统技术中的基板放置位置的精准度较低且通过人肉眼进行观察,机器人移动手臂需要承载基板反复进入制程腔室内部,操作较为繁琐。
技术实现思路
1、基于此,有必要克服现有技术的缺陷,提供一种基板位置校准装置、方法、系统、设备和存储介质,便于基板中心轴线与基准单元中心轴线相互对位与校准,能提高基板放置位置的精准度和后续制程中的膜厚均匀度。
2、其技术方案如下:一种基板位置校准装置,所述基板位置校准装置包括:
3、支架,所述支架装设于基板处理机台上;以及
4、摄像器件,所述摄像器件与所述支架相连,所述摄像器件设于所述基板处理机台的制程腔室顶部的上方,所述摄像器件设有镜头,所述镜头朝向所述制程腔室的透视窗
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【技术保护点】
1.一种基板位置校准装置,其特征在于,所述基板位置校准装置包括:
2.根据权利要求1所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述镜头为放大镜头。
3.根据权利要求1或2所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述摄像器件包括相机,所述相机为工业相机。
4.根据权利要求3所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述摄像器件还包括镜筒、以及设置于所述镜筒中的反射镜组;所述镜筒的相对两端分别连接所述相机与所述镜头,所述反射镜组用于将所述镜头的图像反射至所述相机。
5.根据权利要求4所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述相机与所述支架相连
...【技术特征摘要】
1.一种基板位置校准装置,其特征在于,所述基板位置校准装置包括:
2.根据权利要求1所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述镜头为放大镜头。
3.根据权利要求1或2所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述摄像器件包括相机,所述相机为工业相机。
4.根据权利要求3所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述摄像器件还包括镜筒、以及设置于所述镜筒中的反射镜组;所述镜筒的相对两端分别连接所述相机与所述镜头,所述反射镜组用于将所述镜头的图像反射至所述相机。
5.根据权利要求4所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述相机与所述支架相连,所述相机设置于所述制程腔室顶部的中心位置的上方,所述镜筒与所述相机转动相连。
6.根据权利要求4所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述反射镜组包括第一反射镜与第二反射镜;所述镜筒包括依次相连的第一筒段、第二筒段与第三筒段;所述第一筒段与所述相机相连,所述第三筒段与所述镜头相连,所述第一筒段与所述第二筒段呈夹角设置,所述第二筒段与所述第三筒段呈夹角设置;所述第一反射镜设置于所述第一筒段与所述第二筒段的连接部位,所述第二反射镜设置于所述第二筒段与所述第三筒段的连接部位。
7.根据权利要求6所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述第二筒段为可伸缩调节的筒段。
8.根据权利要求1所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述支架包括用于与所述基板处理机台可拆卸连接的套筒、以及与所述套筒相连的支撑臂,所述支撑臂与所述摄像器件相连。
9.根据权利要求1所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述支架包括用于与所述基板处理机台可拆卸连接的安装板、以及与所述安装板相连的支撑臂,所述支撑臂与所述摄像器件相连。
10.根据权利要求8或9所述的基板位置校准装置,其特征在于,所述支撑臂设有可伸缩调节的臂段。
11.一种基板处理系统,其特征在于,所述基板处理系统包括如权利要求1至10任一项所述的基板位置校准装置,所述基板处理系统还包括基板处理机台、机器人移动手臂与控制器,所述基板处理机台设有制程腔室与缓存腔室,所述控制器分别与所述摄像器件、所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:邢玉芝,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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