基板处理装置、基板处理装置的控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术的基板处理装置（１００）具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室（２００Ａ、２００Ｂ等）；分别设置在所述各处理室中的排气系统（２２０Ａ、２２０Ｂ等）；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统（３１０），其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统（３２０）与非除害共同排气系统（３３０），除害共同排气系统（３２０）通过除害部件（３４０）对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统（３３０）不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件（４００），根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具备对在半导体晶片或液晶基板等的基板处理中被排出的排气进行除害的除害装置的基板处理装置、基板处理装置的控制方法、程序。
技术介绍
作为基板处理装置，有等离子体处理装置，对处理室内的被处理基板、例如半导体晶片(以下也简称为“晶片”)使用规定的气体，进行成膜处理或蚀刻处理或使用规定的气体进行处理室内的清洁等。由于有时从这种基板处理装置的处理室排出的排气中包含有害气体或对环境造成负担的气体，所以从保护环境的观点看，保持原样地排放到大气中是不适当的。因此，经过由热处理等除去(无害化)来自处理室的排气的除害装置排气。作为具备上述除害装置的基板处理装置，例如图24所示，在基板处理装置的每个处理室10A、10B中设置除害装置20A、20B，在这些除害装置20A、20B上分别连接各处理室10A、10B的排气系统12A、12B，使来自各处理室10A、10B的排出气体无害化。但是，其中需要处理室个数的除害装置，所以也必需这么多的设置面积，存在制造成本也增加的问题。为解决这些问题，例如还有如下技术如图25所示，将各处理室10A、10B的排气系统12A、12B连接于共同排气系统31，通过在该共同排气系统31中在各处理室10A、10B上连接共同的除害装置30，从而由一个除害装置30进行除去来自各处理室10A、10B的排出气体的处理。(例如参照专利文献1、2)。日本专利特开平11-8200号公报[专利文献2]日本专利特开平2004-95643号公报但是，在各处理室进行的处理中，例如在处理室内处理晶片之前，如从大气压状态粗抽出至规定压力的粗抽出排气处理那样，在高的压力状态下进行排气处理。并且，就这种粗抽出排气处理而言，由于还未将处理气体导入处理室内，所以不必进行排气的除害。但是，在图24、图25所示的方案中，无论各处理室中进行的处理种类如何，来自各处理室的排气全部经除害装置除害后进行排气，所以如上所述，在高的压力状态下排气，该排气的除害所必要的粗抽出排气处理等也经过除害装置除害后排气。因此，存在除害装置的负担变大、寿命也下降的问题。此外，近年来，晶片或液晶面板等的被处理基板自身的大型化显著，与此同时，处理室也大型化，来自处理室的排气量也大幅度增大，所以从这样的排气量的观点看，除害装置的负担也增大。并且，由于除害装置例如通过热处理等来除害处理排气，所以除害装置的数量越多，则排气处理所需的能量也越大。因此，设置基板处理装置的工厂的能量效率也下降，工厂整体的能量消耗量也增加。无论从工厂整体的能量效率化的观点还是成本的观点看，都期望以尽可能低的能量对排出气体进行除害。从这样的观点看，最好是除害装置的数量少，所以如图25所示，在各处理室中设置共同的除害装置比图24所示的在各处理室中分别设置除害装置好。但是，如图25所示，由于来自各处理室的排气被集中到共同的除害装置，所以如果例如由各处理室并行进行处理，则除害装置的负担因该处理的种类的不同而增大。
技术实现思路
因此，本专利技术鉴于上述问题作出，其目的在于提供一种基板处理装置、基板处理装置的控制方法、程序，可减轻进行排气除害的除害部件的负担，实现排气除害所需的能量或成本的降低。为了解决上述课题，根据本专利技术的观点，提供一种基板处理装置，其特征在于，具备导入气体并进行规定的处理的多个处理室；分别设置在上述各处理室中的排气系统；连接上述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统，其中，上述共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统和非除害共同排气系统，除害共同排气系统通过除害部件对来自上述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统不经过除害部件排出来自上述各处理室的排气系统的排气，还具有根据上述各处理室进行的处理的种类，进行上述除害共同排气系统与上述非除害共同排气系统的切换控制的控制部件。为了解决上述课题，根据本专利技术的另一观点，提供一种基板处理装置的控制方法，具备导入气体并进行规定的处理的多个处理室；分别设置在上述各处理室中的排气系统；和连接上述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统，上述共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统和非除害共同排气系统，除害共同排气系统通过除害部件对来自上述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统不经过除害部件排出来自上述各处理室的排气系统的排气，根据上述各处理室进行的处理的种类，进行上述除害共同排气系统与上述非除害共同排气系统的切换控制。根据本专利技术的装置或控制方法，由于可根据上述各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制，所以例如在高的压力状态下排气、不必进行该排气的除害的粗抽出排气处理等可不经过除害部件而通过非除害共同排气系统进行除害。由此，因为可减轻进行排气除害的除害部件的负担，所以实现排气除害所需的能量或成本的降低。此外，在上述装置或控制方法中，在连接于上述共同排气系统的上述多个处理室并行进行处理的情况下，当连接于上述共同排气系统的上述多个处理室并行进行处理时，上述控制部件进行规定的排他控制，使得将上述共同排气系统切换为上述非除害共同排气系统后进行处理所构成的第一处理(例如从排气中不必除害的大气压状态开始的粗抽出排气处理)和将上述共同排气系统切换为上述除害共同排气系统后进行处理所构成的第二处理(例如排气中需要除害的被处理基板的加工处理)之中的一个处理在上述多个处理室中的一个处理室进行处理的期间，上述多个处理室中的其它处理室不进行另一个处理。由此，可防止在不同的处理室中同时进行第一处理与第二处理。因此，可在减轻除害部件的负担的同时，确实防止不除害地排放必需除害的排气。此外，在上述装置或控制方法中，具备使用权预约信息存储部件，存储上述各处理室中的共同排气系统的使用权的预约信息，上述各处理室中的排他控制在连接于上述共同排气系统上的上述多个处理室中的一个处理室进行上述第一处理与上述第二处理中的一个的情况下，判断一个处理是否在连接于上述共同排气系统上的上述多个处理室中的其它处理室中进行，可以在判断为其它处理室不进行上述一个处理的情况下进行另一个处理，在判断为其它处理室进行上述一个处理的情况下，将另一个处理作为等待处理状态，并将上述共同排气系统的使用权预约信息存储在上述使用权预约信息存储部件中，之后，进行根据使用权预约信息存储部件的预约信息进行另一个处理的预约处理。此时，上述预约处理例如为在其它处理室的一个处理结束之后，进行上述等待处理状态的处理室的上述另一处理的处理。通过进行这样的预约处理，可自动进行处于等待处理状态的处理室中的处理。此外，可在上述预约处理在对多个处理室将上述共同排气系统的使用权预约信息存储于上述使用权预约信息存储部件中的情况下，按照该预约信息的存储顺序，进行上述另一处理。因此，即使多个处理室产生预约，也可按顺序进行处理。此外，在上述装置或控制方法中，上述第一处理例如是至少包含伴随不需要进行排气除害的并且上述处理室在规定压力以上的排气处理的处理，上述第二处理例如是至少包含伴随需要对排气进行除害排气处理的处理。由此，可防止经过除害部件排放高的压力下的排气，同时，可防止不经过除害部件排放必需除害的排气。因此，可减轻除害部件的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具备：　　　　导入气体并进行规定的处理的多个处理室；　　　　分别设置在所述各处理室中的排气系统；　　　　连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统，其中，所述共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统和非除害共同排气系统，除害共同排气系统通过除害部件对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，　　　　还具有根据所述各处理室进行的处理的种类，进行所述除害共同排气系统与所述非除害共同排气系统的切换控制的控制部件。

【技术特征摘要】
JP 2005-2-8 2005-032340;JP 2005-7-15 2005-2063761.一种基板处理装置，其特征在于，具备导入气体并进行规定的处理的多个处理室；分别设置在所述各处理室中的排气系统；连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统，其中，所述共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统和非除害共同排气系统，除害共同排气系统通过除害部件对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，还具有根据所述各处理室进行的处理的种类，进行所述除害共同排气系统与所述非除害共同排气系统的切换控制的控制部件。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于当连接于所述共同排气系统的所述多个处理室并行进行处理时，所述控制部件进行规定的排他控制，使得将所述共同排气系统切换为所述非除害共同排气系统后进行处理所构成的第一处理和将所述共同排气系统切换为所述除害共同排气系统后进行处理所构成的第二处理之中的一个处理在所述多个处理室中的一个处理室进行处理的期间，所述多个处理室中的其它处理室不进行另一个处理。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于具备使用权预约信息存储部件，存储所述各处理室中的共同排气系统的使用权的预约信息，所述各处理室中的排他控制在连接于所述共同排气系统上的所述多个处理室中的一个处理室进行所述第一处理与所述第二处理中的一个的情况下，判断一个处理是否在连接于所述共同排气系统上的所述多个处理室中的其它处理室中进行，在判断为其它处理室不进行所述一个处理的情况下进行另一个处理，在判断为其它处理室进行所述一个处理的情况下，将另一个处理作为等待处理状态，并将所述共同排气系统的使用权预约信息存储在所述使用权预约信息存储部件中，之后，进行根据使用权预约信息存储部件的预约信息进行另一个处理的预约处理。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于在所述其它处理室中的一个处理结束之后，所述预约处理进行所述处理等待状态的处理室的所述另一个处理。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于在对多个处理室将所述共同排气系统的使用权预约信息存储在所述使用权预约信息存储部件中的情况下，所述预约处理按照所述预约信息的存储顺序进行所述另一个处理。6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于所述第一处理是不需要排气除害的并且至少包含伴随所述处理室在规定压力以上的排气处理的处理，所述第二处理是至少包含伴随需要排气除害的排气处理的处理。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于所述第一处理是所述处理室的粗抽出排气处理或包含所述粗抽出排气处理的处理，所述第二处理是伴随所述处理室的排气的处理气体导入处理或包含所述处理气体导入处理的处理。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于所述第一处理是包含所述处理室的粗抽出排气处理的所述处理室的自动检查处理或维护处理。9.根据权利要求7或8所述的基板处理装置，其特征在于所述第二处理是包含所述处理室的处理气体导入处理的所述处理室的自动检查处理或维护处理。10.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于所述第一处理和所述第二处理均是所述处理室的粗抽出排气处理或包含所述粗抽出排气处理的处理。11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于通过导入处理气体的处理气体导入系统和导入惰性气体的惰性气体导入系统构成向所述处理室内导入气体的气体导入系统，所述惰性气体导入系统具备可以规定流量导入所述惰性气体的第一导入系统；和可以比所述第一导入系统大的流量导入所述惰性气体的第二导入系统。12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于在进行所述处理室的粒子降低处理时，至少通过所述第二导入系统导入所述惰性气体。13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于在进行所述处理室的粒子降低处理时，首先至少通过所述第二导入系统仅在规定时间内导入所述惰性气体，之后，仅通过所述第一导入系统供给所述惰性气体。14.一种基板处理装置的控制方法，具备导入气体并进行规定的处理的多个处理室；分别设置在所述各处理室中的排气系统；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统，所述共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统和非除害共同排气系统，除害共同排气系统通过除害部件对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，根据所述各处理室进行的处理的种类，进行所述除害共同排...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村博，小林俊之，早坂伸一郎，贝瀬精一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]