基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板处理装置和基板处理方法。提供去除药液的残渣的技术。基板处理装置具备基板保持部、旋转驱动部、第1旋转环、第2旋转环以及第1喷嘴。基板保持部包括水平的底板和抓持基板的周缘的多个把持部，利用多个把持部以使基板从底板分离开的方式将基板保持为水平。旋转驱动部使基板保持部旋转。第1旋转环将在基板保持部保持的基板的下表面的周缘包围，与基板保持部一起旋转。第2旋转环设于第1旋转环的外侧，将在基板保持部保持的基板的上表面的周缘包围，与基板保持部一起旋转。第1喷嘴从在第1旋转环和第2旋转环之间形成的旋转流路的入口的上方，朝向旋转流路的入口喷出清洗液。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及基板处理装置和基板处理方法。

技术介绍

1、专利文献1所记载的基板处理装置具备：基板保持部，其将基板保持为水平；旋转驱动部，其使基板与基板保持部一起旋转；旋转杯，其围绕在基板保持部保持的基板，与基板保持部一起旋转；喷嘴，其向基板的上表面供给处理液；以及喷嘴，其向基板的下表面供给处理液。旋转杯具有：第1旋转环，其将从旋转着的基板的下表面甩出的处理液向斜下方引导；以及第2旋转环，其将从旋转着的基板的上表面甩出的处理液向斜下方引导。处理液包括药液和将药液从基板去除的冲洗液。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2007－335758号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开的一技术方案提供去除药液的残渣的技术。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一技术方案的基板处理装置具备基板保持部、旋转驱动部、第1旋转环、第2旋转环以及第1喷嘴。所述基板保持部包括水平的底板和抓持基板的周缘的多个把持部，利用多个本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

8.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，

10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，其中，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

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【专利技术属性】
技术研发人员：后藤大辅，东岛治郎，绪方信博，桥本佑介，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：