掩模及其制法、掩模制造装置、发光材料的成膜方法制造方法及图纸

提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明专利技术的掩膜的制造方法，具有：准备已形成开口的基体材料和形成了多个贯通孔的掩膜构件的工序；对应于上述开口，将上述掩膜构件与上述基体材料接合的工序；和管理上述掩膜构件与上述基体材料的接合温度的工序。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及蒸镀法等中使用的掩膜及其制造方法、制造装置，以及电光学装置、电子仪器等。
技术介绍
作为做成比液晶显示器还薄的显示装置的自发光型显示器，使用了有机EL(electro luminescence电致发光)元件(在阳极与阴极之间设置了有机物构成的发光层的结构之发光元件)的有机EL显示器作为下一代技术被关注。作为有机EL元件的发光层材料，已知有低分子量的有机材料与高分子量的有机材料，其中由低分子量的有机材料构成的发光层是用蒸镀法成膜的。在用蒸镀法成膜发光层时，使用掩膜板(是具有与形成的薄膜图案对应的贯通孔的掩膜板，不锈钢等金属制造为主流。)，在被成膜面上直接形成与像素对应的薄膜图案。而且，由于与高清晰的像素的要求对应，故成为使用板厚薄且形成了以狭窄的间隔开贯通孔的图案的掩膜板，为了抑制伴随这种掩膜板的强度降低而产生的翘曲或挠曲等变形，例如有特开2001-237073号公报中揭示的将掩膜板与基体材料接合而加强的技术。由高清晰像素的显示器的要求，需要形成所谓无污点的发光层。因此，需要让发光层的形状与形成于掩膜上的贯通孔的形状大致相同，使掩膜板与被成膜面尽可能邻近，以使发光材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜的制造方法，其中，具有：准备已形成开口的基体材料和形成了多个贯通孔的掩膜构件的工序；对应于上述开口，将上述掩膜构件与上述基体材料接合的工序；和管理上述掩膜构件与上述基体材料的接合温度的工序。

【技术特征摘要】
JP 2003-3-7 2003-061355;JP 2003-3-7 2003-061356;JP1.一种掩膜的制造方法，其中，具有准备已形成开口的基体材料和形成了多个贯通孔的掩膜构件的工序；对应于上述开口，将上述掩膜构件与上述基体材料接合的工序；和管理上述掩膜构件与上述基体材料的接合温度的...

【专利技术属性】
技术研发人员：中楯真，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]