基板处理装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明专利技术，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理方法，包括步骤：提供基板；在基板上形成薄膜；以及在相同装置中利用激光构图薄膜。即，在基板处理装置和方法中可采用可由现有技术的光学光刻单元和蚀刻单元替换的激光光刻单元。因此，能够确保图案的三维均匀性，同时精确地形成和控制大基板上的图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，更具体地，涉及利用激光光刻的。
技术介绍
在常规构图方法中，光致抗蚀剂被涂覆在形成有薄膜的基板上，然后利用形成有预定图案的掩模在曝光对准器设备中用紫外线辐照。此时，在正光致抗蚀剂的情况下，用紫外线辐照的部分光致抗蚀剂固化，而在随后的显影处理期间借助于显影液除去光致抗蚀剂的其它部分，使得在薄膜上能形成预定的光致抗蚀剂图案。在薄膜上已形成光致抗蚀剂图案之后，利用蚀刻设备蚀刻没有形成光致抗蚀剂图案的部分薄膜，以便能在基板上形成所需图案。然而，随着在液晶显示器的情况下基板变得更大，设备的尺寸极大增加，会由于诸如空间限制、设备的不平坦和震动等因素而导致图案均匀性方面的问题。此外，由于形成图案的较长处理时间而会引起生产率降低的问题。
技术实现思路
构想出本专利技术以解决现有技术中的上述问题。因此，本专利技术的一个目的是提供一种利用可替代光学光刻单元和蚀刻单元的激光光刻单元的基板处理装置和方法，以确保图案的三维均匀性，同时精确地形成和控制大基板上的图案，并通过减少总的基板处理时间来节省制造成本。根据本专利技术实现所述目的的一方面，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，包括：用于在基板上形成薄膜的膜形成单元；以及用于在所述薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。

【技术特征摘要】
KR 2006-2-3 10826/061.一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元；以及用于在所述薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。2.如权利要求1所述的基板处理装置，还包括用于使基板被带进和带出的主运载单元，其中该主运载单元包括主运载工具。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其中该主运载工具安装为在该主运载单元中可动。4.如权利要求3所述的基板处理装置，还包括在所述膜形成单元和所述激光光刻单元之前、之后和/或之间在一个或更多位置设置的清洁单元。5.如权利要求4所述的基板处理装置，其中该膜形成单元、该激光光刻单元和该清洁单元以单行布置在所述基板处理装置内。6.如权利要求4所述的基板处理装置，其中该膜形成单元、该激光光刻单元和该清洁单元以两行布置在所述基板处理装置内。7.如权利要求4所述的基板处理装置，其中该膜形成单元、该激光光刻单元和该清洁单元以多层形式布置在所述基板处理装置中，且所述膜形成单元和所述激光光刻单元设置在所述清洁单元之下。8.如权利要求5至7中的任一项所述的基板处理装置，还包括用于连接所述膜形成单元、所述激光光刻单元和所述清洁单元的一个或更多辅助运载单元，其中所述辅助运载单元的每个包括辅助运载工具。9.如权利要求6所述的基板处理装置，还包括设置在所述基板处理装置的所述两行之间的辅助运载单元。10.如权利要求9所述的基板处理装置，其中所述辅助运载单元包括安装为在所述辅助运载单元中可动的辅助运载工具。11.如权利要求9所述的基板处理装置，其中该辅助运载单元包括设置在所述辅助运载单元内的一个或更多辅助运载工具，以及布置在所述辅助运载工具之间的至少一个缓冲器。12.如权利要求1所述的基板处理装置，其中所述薄膜包括选自含有栅极层、有源层、源极层、漏极层、无机钝化层和公共电极层的组的任一种。13.一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元；以及用于在所述薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。14.如权利要求13所述的基板处理装置，还包括用于使所述基板被带进和带出的主运载单元，其中所述主运载单元包括主运载工具。15.如权利要求14所述的基板处理装置，其中所述主运载工具安装为在所述主运载单元中可动。16.如权利要求15所述的基板处理装置，还包括设置在所述涂覆单元和所述激光光刻单元之间的干燥和固化单元。...

【专利技术属性】
技术研发人员：李泳范，李庸懿，金京燮，朴明一，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]