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本发明涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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