基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，防止处理液经过基板向处理室外漏出。基板处理装置包括搬送机构（１）、具有向基板（Ｓ）供给显影液而对基板实施显影处理的处理室（１２１）的显影处理部（１２）以及对它们进行控制的控制器（６０）。在显影处理部内的上游侧的开口部（１５）附近，配设有能够检测基板的搬送状态的检测机构（７）。另外，在显影处理部旁边的上游侧配设有流出阻止装置（２０），该流出阻止装置具有能够对基板供给从上游侧吹向下游侧的高压气体的气体喷嘴（２１）。当基于检测机构对基板的搬送状态的检测结果判断为基板在开口部１５的位置停滞时，控制器使流出阻止装置动作，从而防止处理液经由基板而向处理室漏出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种向半导体晶片、光掩模用玻璃基板、液晶显示面板用玻璃基板、光盘用基板等基板上供给蚀刻液或漂洗液等各种处理液，从而对基板实施给定处理的基板处理装置。
技术介绍
到目前为止，针对如上所述的基板处理装置，如下的结构被人们所熟知，即，具有多个处理室、例如剥离处理室、清洗处理室以及干燥处理室，而且，通过辊式输送机的驱动搬送形成有薄膜的矩形玻璃基板的同时，对该基板依次实施剥离处理、漂洗处理以及干燥处理(例如专利文献1JP特开2001-57355号公报)。在该装置的剥离处理室内的上游端以及下游端，配置有检测有无基板的传感器，并且，通过该传感器检测到基板之后，若在预先设定的定时器时间内基板没有通过，也就是说，即使超过定时器时间，也继续处于由该传感器检测到基板的状态时，执行给定的处理，例如视为发生了搬送不良而发出警告且使装置停止等。在如上所述的以往的装置中，即使在传感器检测到基板之后立即停止基板，也会发生响应延迟现象，即，经过了定时器时间而仍不执行异常处理。因此，在因搬送故障而有一张基板横跨停止在装载器(卸载器)和处理室之间时，在执行异常处理之前，会向其局部(基板的前端部分)供给处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括：检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以 及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；控制装置，其在判定为所述基板停滞时，控制所述处理液供给装置停止所述处理液的供给。

【技术特征摘要】
JP 2006-6-22 2006-1725701.一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；控制装置，其在判定为所述基板停滞时，控制所述处理液供给装置停止所述处理液的供给。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具有流出阻止装置，该流出阻止装置阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出，所述判定装置判定所述基板停滞时，所述控制装置控制所述流出阻止装置动作，以阻止所述处理液向所述处理室外流出。3.一种基板处理装置，其包括有处理室，该处理室具有将基板以水平或倾斜的姿势搬送的搬送装置和处理液供给装置，并且对由所述搬送装置搬送的基板供给处理液，从而对该基板实施给定的处理，其特征在于，包括检测装置，其设置在所述处理室的基板搬入用以及搬出用的开口部的至少一侧开口部附近，并对基板的搬送状态进行检测；判定装置，其基于所述检测装置的检测结果，判定所述基板是否停滞；流出阻止装置，其阻止在所述开口部的位置停滞的基板上的处理液向处理室外流出；控制装置，其在所述判定装置判定基板停滞时，控制所述流出阻止装置动作。4.如权利要求3所述的基板处理装...

【专利技术属性】
技术研发人员：原田明，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]