基板处理装置制造方法及图纸

基板处理装置，通过将基板从处理液中移动到溶剂环境中来干燥基板，该装置包括：贮留处理液的处理槽；围绕在处理槽周围的处理腔室；保持基板并可在处理槽内的处理位置与在处理腔室内处于处理槽上方的干燥位置之间升降的保持机构；将溶剂的蒸汽供给到处理腔室的供给部；在处理腔室外回收从处理槽排出的处理液的缓冲罐；使处理腔室内减压的第一减压泵；使缓冲罐内减压的第二减压泵；以及控制部，控制部通过供给部使处理腔室内形成为溶剂环境，通过保持机构将基板从处理位置移动到干燥位置，通过第一减压泵将处理腔室内减压到第一压力，并操作第二减压泵，直到将处理槽内的处理液排放到缓冲罐内为止，将缓冲罐内的压力调整到第一压力以下的第二压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对半导体晶片或液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称为基 板)等基板进行干燥处理的基板处理装置，特别是涉及在将处于溶剂环境的 处理腔室内减压后的状态下将基板从处理液中移动到溶剂环境中进行干燥 的技术。
技术介绍
以往，作为这种装置，有具备贮留纯水的处理槽、围绕在处理槽周围的 处理腔室、在处理槽内的处理位置与处理槽上方的干燥位置之间使基板升降的保持机构、向处理腔室内供给异丙醇蒸汽(IPA)的喷嘴、使处理腔室内 减压的真空泵和从处理槽向处理腔室的外部排放纯水的排放管的处理装置 (例如参照日本特开平11-87302号公报)。在这样构成的装置中，首先，在将升降臂移动到处理位置的状态下，用 纯水洗净基板；从喷嘴供给异丙醇的蒸汽并使处理腔室内成为溶剂环境之 后，使保持机构移动到干燥位置；然后，用真空泵使处理腔室内减压，使附 着在基板上的异丙醇干燥，从而将基板干燥。但是，具有这样构成的现有例存在如下问题。艮P，现有的装置如果是正在减压的处理腔室内的处理槽中贮留了纯水的 状态，恐怕会对基板的干燥处理产生坏的影响，所以在使处理腔室内减压之 前，必须在大气压的状态下排出处理槽内的纯水。总之，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其通过使基板从处理液中移动到溶剂环境中而对基板进行干燥，该基板处理装置包括：贮留处理液的处理槽；围绕在所述处理槽周围的处理腔室；保持机构，其用于保持基板，并可在所述处理槽内的处理位置与在所述处理腔室 内处于所述处理槽上方的干燥位置之间进行升降；将溶剂的蒸汽供给到所述处理腔室内的供给单元；在所述处理腔室外回收从所述处理槽排出的处理液的缓冲罐；对所述处理腔室内进行减压的第一减压单元；对所述缓冲罐内进行减压的第 二减压单元；以及控制单元，其通过所述供给单元使所述处理腔室内成为...

【技术特征摘要】
JP 2006-6-26 2006-1753311.一种基板处理装置，其通过使基板从处理液中移动到溶剂环境中而对基板进行干燥，该基板处理装置包括贮留处理液的处理槽；围绕在所述处理槽周围的处理腔室；保持机构，其用于保持基板，并可在所述处理槽内的处理位置与在所述处理腔室内处于所述处理槽上方的干燥位置之间进行升降；将溶剂的蒸汽供给到所述处理腔室内的供给单元；在所述处理腔室外回收从所述处理槽排出的处理液的缓冲罐；对所述处理腔室内进行减压的第一减压单元；对所述缓冲罐内进行减压的第二减压单元；以及控制单元，其通过所述供给单元使所述处理腔室内成为溶剂环境，通过所述保持机构将基板从处理位置移动到干燥位置，通过所述第一减压单元将所述处理腔室内减压到第一压力，同时操作所述第二减压单元，直到将所述处理槽内的处理液排放到所述缓冲罐内为止，将所述缓冲罐内的压力调整到所述第一压力以下的第二压力。2. 根据权利要求1记载的基板处理装置，其特征在于，所述控制单元在 将所述处理腔室内减压到第一压力之前，预先将所述缓冲罐内的压力调整到 第二压力。3. 根据权利要求1记载的基板处理装置，其特征在于，所述处理槽具有 用于注入处理液的注入管，所述第一减压单元也从所述注入管进行减压。4. 根据权利要求2记载的基板处理装置，其特征在于，所述处理槽具有 用于注入处理液的注入管，所述第一减压单元也从所述注入管进行减压。5. 根据权利要求1 4中任一项记载的基板处理装置，其特征在于，在所 述处理腔室的上部设置有供给惰性气体的惰性气体喷嘴。6. 根据权利要求1或2记载的基板处理装置，其特征在于，所述处理腔 室具有用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：相原友明，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]