光掩膜盒制造技术

本发明专利技术公开了一种光掩膜盒，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，数个沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。通过本发明专利技术的光掩膜盒，在进行光掩膜制作过程中，只需拿掉正在制作的光掩膜上面的盖子，不会使其他的光掩膜也同时暴露在空气中，减少了光掩膜制作过程中受尘粒的影响的可能性。可以增加产品的良率，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，尤其是一种光掩膜盒。
技术介绍
空气尘粒是光掩膜制造工艺中的一种非常敏感的因素。即便非常小的尘粒也可以使光掩膜报废。空气尘粒会降低光掩膜的良率，增加生产和制造成本，避免尘粒污染是制造光掩膜过程中的每一个步骤制都需要注意的。在制作光掩膜的过程中，当从曝光机台载出光掩膜时，数片掩膜放入同一个光罩盒。但是光掩膜的显影和蚀刻过程是一片一片进行的，因此每打开一次盒盖里面的光掩膜，该光掩膜盒里的所有光掩膜就会同时暴露在空气中一次。这意味着，当制作第二片光掩膜时，盒盖已经被打开过两次，以此类推，当制作第五片光掩膜时，盒子盖则已经被打开过五次。所以在第一片光掩膜之后，其余四片被环境中的尘粒污染的几率会大大提高。已有的光掩膜盒只有一个整体的盖子，在制作光掩膜过程中光掩膜被污染的可能性很大，大大的增加了制造光掩膜的成本，降低了光掩膜生产的效率。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种光掩膜盒，能够减少光掩膜制作过程中光掩膜被空气中的尘粒污染的几率，并且可以减少成本，提高生产效率。为解决上述技术问题，本专利技术一种光掩膜盒的技术方案是，包括将该光掩膜盒等分隔开的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光掩膜盒，其特征在于，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。

【技术特征摘要】
1.一种光掩膜盒，其特征在于，包括将该光掩膜盒等分隔开的掩膜隔板，沿着掩膜排列方向依次连续排列的宽度等于两个掩膜隔板之间距离的相互独立的盖子。2.根据权利要求1所述的光掩膜盒，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：周正，丁汉有，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]