靶材以及该靶材所制造的薄膜制造技术

技术编号:3173337 阅读:171 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术主要提供一种靶材,其元素组成ⅠB↓[x]-ⅢA↓[y]-ⅥA↓[z];其中,ⅠB选自于以下群组中的至少一种:Cu及Ag;ⅢA选自于以下群组中的至少一种:In及Ga;ⅥA选自于以下群组中的至少一种:S、Se及Te;x、y、z分别为ⅠB、ⅢA、ⅥA含量的原子百分比,且0≤x<1、0≤y<1、0<z<1,x+y+z=1;该靶材的制作方法包含:形成预合金:将一靶材元素与靶材元素组成中一种以上的其它元素合成预合金;造粉:将预合金制成粉末;混粉:将所述粉末直接混合或再与其它元素或预合金粉末混合;烧结:混合粉末经烧结后形成靶材。本发明专利技术还提供一种用于太阳能电池的薄膜,其是使用上述的靶材溅镀制成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术主要是关于一种靶材,尤其是指一种具有IB-IIIA-VIA元素组成的靶材,其可应用于溅镀制造太阳能电池的薄膜。
技术介绍
在石化燃料逐渐缺乏的时代,加上全球气候变迁以及空气污染等问题日益严重,替代性能源的应用愈来愈受到人们重视,而其中太阳能电池(solar cell)因具有可提供低廉且源源不绝电力的潜力而受到注目。目前的产品中, 太阳能电池粗略可分为(1) 芯片型(wafer type)太阳能电池包含单晶(single crystal)硅及多晶 (polycrystalline)珪;以及(2) 薄膜型(thin film type)太阳能电池。虽然硅芯片型太阳能电池为目前市场主流,但因其为间接能隙(indirect energygap),因此需要较厚的硅材料做为吸收层(absorber);而薄膜型太阳能 电池中具有IB-IIIA-VIA元素组成(如CuInGaSe2, CIGS)的材料为直接能隙 (direct energy gap),且光的吸收效率很高,加上可藉由In/Ga成分的比例来 调整能隙的大小,因此仅需很薄一层材料即可产生高光电转换效率,故可 大幅节省材料,降低本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种靶材,其元素组成为ⅠB↓[x]-ⅢA↓[y]-ⅥA↓[z];其中,ⅠB选自于以下群组中的至少一种:Cu及Ag;ⅢA选自于以下群组中的至少一种:In及Ga;ⅥA选自于以下群组中的至少一种:S、Se及Te;x为ⅠB含量的原子百分比、y为ⅢA含量的原子百分比、z为ⅥA含量的原子百分比,且满足0≤x<1、0<y<1、0<z<1,x+y+z=1。

【技术特征摘要】
1. 一种靶材,其元素组成为IBx-IIIAy-VIAz;其中,IB选自于以下群组中的至少一种Cu及Ag;IIIA选自于以下群组中的至少一种In及Ga;VIA选自于以下群组中的至少一种S、Se及Te;x为IB含量的原子百分比、y为IIIA含量的原子百分比、z为VIA含量的原子百分比,且满足0≤x<1、0<y<1、0<z<1,x+y+z=1。2. 如权利要求1所述的靶材,其中的x为0, IIIA为In-Ga, VIA为Se。3. 如权利要求1所述的靶材,其中的IB为Cu、 Ag或Cu-Ag, IIIA为 In-Ga, VIA为Se。4. 如权利要求1所述的靶材,其中的IB为Cu、 Ag或Cu-Ag, IIIA为 Ga, VIA为Se。5. 如权利要求1所述的靶材,其中的IB为Cu、 Ag或Cu-Ag, IIIA为 In, VIA为Se。6. 如权利要求1所述的靶材,其中的x为0, IIIA为In, VIA为Se。7. 如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:李仲仁赵勤孝毛庆中
申请(专利权)人:光洋应用材料科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[]

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