真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法，该真空蒸镀装置能够防止蒸镀中的热变形，从而高精度地以所希望的图案成膜。一种真空蒸镀装置，其在蒸镀室(1)中设置有蒸发源(2)和蒸发源移动机构或者基板移动机构，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，所述蒸发源移动机构在进行蒸镀时使所述蒸发源(2)相对于所述基板相对移动，所述基板移动机构在进行蒸镀时使所述基板相对于所述蒸发源相对移动，其中，所述蒸发源移动机构或所述基板移动机构构成为：在对所述基板开始蒸镀之前，利用所述蒸发源(2)进行所述掩模的预先加热。

【技术实现步骤摘要】
真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法本申请是申请日为2016年06月14日、专利技术名称为“真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法”、申请号为201610416499.3的中国专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法。
技术介绍
一种蒸镀装置，其使从蒸发源蒸发的成膜材料隔着形成有规定的掩模图案的掩模堆积在基板上而形成薄膜，在该蒸镀装置中存在这样的情况：掩模在蒸镀中(成膜中)从蒸发源受热而发生热变形，由于该掩模的热变形而导致掩模与基板的位置发生偏移，从而使得形成在基板上的薄膜的图案从所希望的位置偏移。特别是，在手机或电视等的显示面板等有机电子器件的制造中，使用了具有高精细的图案的掩模，因此热变形的影响较大。因此，例如如专利文献1所公开的，为了抑制热变形，提出了使用由作为低热膨胀材料的因瓦合金材料构成的掩模这一方案，但是，即使对掩模使用低热膨胀材料，也难以使线膨胀系数为0，在这样的情况下，热变形有时依然会成为问题。专利文献1：日本特开2004-323888号公报
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述的现状而完成的，目的在于提供一种能够抑制掩模在蒸镀中的热变形从而高精度地以所希望的图案成膜的真空蒸镀装置。参照附图对本专利技术的主旨进行说明。本专利技术的第1形态涉及真空蒸镀装置，其在蒸镀室1中设置有蒸发源2和蒸发源移动机构或者基板移动机构，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，所述蒸发源移动机构在进行蒸镀时使所述蒸发源2相对于所述基板相对移动，所述基板移动机构在进行蒸镀时使所述基板相对于所述蒸发源相对移动，其特征在于，所述蒸发源移动机构或所述基板移动机构构成为：在对所述基板开始蒸镀之前，利用所述蒸发源2进行所述掩模的预先加热。另外，涉及一种真空蒸镀装置，其特征在于，在用于使从所述蒸发源2蒸发出来的成膜材料的成膜速度稳定的蒸镀前的预热中，利用从该蒸发源2发出的热进行所述掩模的预先加热。另外，涉及一种真空蒸镀装置，其特征在于，该真空蒸镀装置构成为，在所述蒸发源2上设有挡板7，在闭合该挡板7的状态下使所述蒸发源与所述掩模的相对位置关系变化来进行所述掩模的预先加热。另外，涉及一种真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源移动机构构成为，使所述连续蒸镀中的最初进行蒸镀的基板与掩模的位置对准和所述掩模的预先加热同时进行。另外，涉及一种真空蒸镀装置，其特征在于，在所述蒸镀室1中，在与所述蒸发源的移动方向垂直的方向上并排设置有多个用于对所述基板进行蒸镀的蒸镀区域3、4，针对多个所述蒸镀区域3、4，在所述蒸镀区域外分别设有使所述蒸发源退避的退避区域，所述蒸发源移动机构构成为，使所述蒸发源2在与所述蒸镀区域3、4的并排设置方向相同的方向上移动而能够从一个蒸镀区域移动到另一个蒸镀区域，所述蒸发源移动机构构成为：在对分别配置于多个所述蒸镀区域3、4中的掩模进行预先加热时，在对配置在一个蒸镀区域中的掩模加热后，使所述蒸发源2在不退避到所述退避区域中的情况下在所述蒸镀区域3、4的并排设置方向上移动，从而移动至另一个蒸镀区域。本专利技术的第2形态涉及蒸镀膜的制造方法，其特征在于，该蒸镀膜的制造方法具有如下工序：将基板设置于蒸镀室中的工序；对收纳于蒸发源中的成膜材料加热并使成膜速度稳定的工序；以及隔着掩模使所述成膜材料的蒸气附着在所述基板上的工序，在使所述成膜速度稳定的工序的期间，使所述蒸发源与所述基板的相对位置关系变化，并利用所述蒸发源的热来加热所述掩模。本专利技术的第3形态涉及有机电子器件的制造方法，所述有机电子器件具备多个元件，所述元件在基板上具备被一对电极夹着的有机层，其特征在于，所述有机电子器件的制造方法具有如下工序：将形成有多个电极的基板设置在蒸镀室中的工序；使具备多个开口的掩模相对于所述基板位置对准的工序；对收纳在蒸发源中的成膜材料加热并使成膜速度稳定的工序；以及隔着所述掩模使所述成膜材料的蒸气附着在所述基板上从而形成所述有机层的至少一部分的工序，在使所述成膜速度稳定的工序的期间，使所述蒸发源与所述基板的相对位置关系变化，利用所述蒸发源的热来加热所述掩模。根据本专利技术，能够抑制掩模在蒸镀中的热变形，从而能够高精度地以所希望的图案成膜。附图说明图1是本实施例的概要说明立体图。图2是本实施例的概要说明俯视图。图3是本实施例的概要说明俯视图。图4是本实施例的概要说明俯视图。图5的(a)是使用本专利技术的真空蒸镀装置制作出的有机EL显示装置的立体图，(b)是沿(a)中的A-B线的剖视图。标号说明1：蒸镀室；2：蒸发源；3、4：蒸镀区域；7：挡板。具体实施方式根据附图对本专利技术的真空蒸镀装置的实施方式具体地进行说明。本专利技术的实施方式的真空蒸镀装置是在蒸镀室中具备下述部分的真空蒸镀装置：蒸发源(材料收纳部)，其隔着掩模对基板进行蒸镀；和蒸发源移动机构，其在进行蒸镀时使所述蒸发源相对于所述基板相对移动。该蒸发源移动机构具有如下功能：使蒸发源与基板的相对位置关系变化，更具体来说，使蒸发源和基板在与基板的成膜面平行的面方向上的相对位置关系变化。并且，以下述方式构成所述蒸发源移动机构：在维持所述蒸镀室的真空状态来对所述基板开始蒸镀之前，使所述蒸发源相对于所述掩模相对移动，利用从该蒸发源发出的热对所述掩模进行预先加热。在本实施方式中，通过蒸发源移动机构使蒸发源移动，由此使蒸发源与基板的相对位置关系变化，但也可以在蒸镀室中设置基板移动机构，通过使基板移动来改变蒸发源与基板的相对位置关系，也可以使基板和蒸发源都移动来改变蒸发源与基板的相对位置关系。因此，在此所说的蒸发源移动机构和基板移动机构也都能够称为蒸发源与基板的相对位置关系变化机构。在图1、2中示出了本专利技术的真空蒸镀装置的一个实施例。图1是以能够看到真空蒸镀装置的内部的方式将蒸镀室1的壁拆除一部分后的立体图，图2是从蒸镀室1的上表面侧观察的俯视图。在蒸镀室1中，在与成膜移动方向垂直的方向(蒸镀区域移动方向)上并排设置有多个用于对基板进行蒸镀的蒸镀区域3、4。并且，在所述蒸镀区域3、4之外，针对所述蒸镀区域3、4分别设置有用于使蒸发源2退避的退避区域。并且，在各蒸镀区域3、4中设置有分别保持掩模和基板的掩模座(省略图示)。从分别与各蒸镀区域3、4对应的各搬出搬入口8、9分别搬入的基板在通过设于各蒸镀区域3、4中的校准机构分别与掩模位置对准后，在与掩模重合地被固定的状态下分别设置并保持于掩模座。并且，蒸镀区域是指使从蒸发源2蒸发的成膜材料附着于基板上的区域。在本实施例中，为了使利用从所述蒸发源2释放出的蒸气形成的蒸镀膜的成膜速度稳定，以下述方式构成蒸发源移动机构：在蒸镀开始前的预热中，利用从该蒸发源2发出的热对所述掩模进行预先加热。具体来说，在蒸镀开始前，将基板的长度方向和宽度方向中的任意方向作为成膜移动方向，使蒸发源2在蒸镀区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀装置，其在蒸镀室中设置有蒸发源和蒸发源移动机构或者基板移动机构，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，所述蒸发源移动机构在进行蒸镀时使所述蒸发源相对于所述基板相对移动，所述基板移动机构在进行蒸镀时使所述基板相对于所述蒸发源相对移动，其特征在于，/n所述蒸发源移动机构或所述基板移动机构构成为：在对所述基板开始蒸镀之前，利用所述蒸发源进行所述掩模的预先加热。/n

【技术特征摘要】
20150618 JP 2015-122927;20160518 JP 2016-0993721.一种真空蒸镀装置，其在蒸镀室中设置有蒸发源和蒸发源移动机构或者基板移动机构，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，所述蒸发源移动机构在进行蒸镀时使所述蒸发源相对于所述基板相对移动，所述基板移动机构在进行蒸镀时使所述基板相对于所述蒸发源相对移动，其特征在于，
所述蒸发源移动机构或所述基板移动机构构成为：在对所述基板开始蒸镀之前，利用所述蒸发源进行所述掩模的预先加热。


2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，
在用于使从所述蒸发源蒸发出来的成膜材料的成膜速度稳定的蒸镀前的预热中，利用从该蒸发源发出的热进行所述掩模的预先加热。


3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，
所述真空蒸镀装置构成为，在所述蒸发源上设有挡板，在闭合该挡板的状态下使所述蒸发源与所述掩模的相对位置关系变化来进行所述掩模的预先加热。


4.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，
以下述方式构成所述蒸发源移动机构或所述基板移动机构：最初进行蒸镀的基板与掩模的位置对准和所述掩模的预先加热同时进行。


5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于，
在所述蒸镀室中，在与所述蒸发源的移动方向垂直的方向上并排设置有多个用于对所述基板进行蒸镀的蒸镀区域，
针对多个所述蒸镀区域，在所述蒸镀区域外分别设有使所述蒸发源退避的退避区域，
所述蒸发源移动机构构成为，使所述蒸发源在与所述蒸镀区域的并排设置方向相同的方向上移动而能够从一个蒸镀区域移动到另一个蒸镀区域，
所述蒸发源移动机构构成为：在对分别配置于多个所述蒸镀区域中的掩模进行预先加热时，在对配置在一个蒸镀区域中的掩模加热后，使所述蒸发源在不退避到所述退避区域中的情况下在所述蒸镀区域的并排设置方向上移动，从而移动至另一个蒸镀区域。


6.一种真空蒸镀装置，其在蒸镀室中设置有蒸发源和蒸发源移动机构，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，所述蒸发源移动机构在进行蒸镀时将所述基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：三泽启太，后藤亮太，风间良秋，七五三木浩一，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP