曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置。所述曝光装置包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。本实用新型专利技术可以提高所述光罩检测的效率以及准确率；同时，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。

Exposure device

【技术实现步骤摘要】
曝光装置
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种曝光装置。
技术介绍
在动态随机存储器(DynamicRandomAccessMemory，DRAM)等半导体器件的制造工艺中，光刻是至关重要的步骤。在光刻工艺中，光罩的洁净度是确保光刻质量的重要因素。当时，在现有的曝光机台中，并没有专门的清洁系统来清洁光罩表面，导致在曝光机台中的光罩探测系统(IntegratedReticleInspectionSystem，IRIS)检测到光罩表面存在颗粒物之后，必须要将光罩从曝光机台内取出，在曝光机台外部对光罩进行清洁。然而，这种在曝光机台外部清洁光罩的方式，至少存在如下两个方面的缺陷：一方面，将光罩从曝光机台内部取出、在曝光机台外部清洁之后再送入曝光机台的过程极大的耗费时间，降低了机台产能；另一方面，光罩在曝光机台外部清洁之后送入曝光机台的过程中，很可能遭受二次污染，导致需要再次清洁，操作相当繁琐。因此，如何提高光罩的清洁效率，从而提高曝光机台的产能，并改善光刻质量，是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种曝光装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：/n支撑台，用于承载光罩；/n检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；/n清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
支撑台，用于承载光罩；
检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；
清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述检测组件包括：
发射器，位于所述支撑台上方，用于向所述光罩表面发射探测信号；
接收器，位于所述支撑台上方，用于接收自所述光罩表面传回的探测信号；
处理器，连接所述发射器和所述接收器，用于根据所述发射器发射的探测信号和所述接收器接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器设置在沿所述光罩的垂直上方。


4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器具有朝向所述光罩一侧的发射面，所述发射面沿垂直于所述光罩方向的投影覆盖所述光罩的整个表面。


5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器包括多个发射光源以及与多个所述发射光源连接的控制器，且多个所述发射光源呈阵列排布；
所述控制器用于控制多个所述发射光源同时向所述光罩表面发射探测光信号。


6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述清洁组件包括：
真...

【专利技术属性】
技术研发人员：许文豪，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34