曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。提供有利于提高向基板转印图案的转印性能的曝光装置。提供曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：照明光学系统，用光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将掩模的图案的像投影到基板，照明光学系统将包括包含至少第1波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少第2波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为与第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布，以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于照明光学系统的瞳面。

Exposure device, exposure method and article manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法
本专利技术涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。
技术介绍
投影曝光装置是将形成于掩模(原版)的图案转印到基板(板块)的装置，经由照明光学系统对掩模进行照明，经由投影光学系统将掩模的图案的像投影到基板上。照明光学系统用来自光源的光对光学积分器进行照明，在与照明光学系统的瞳面相当的光学积分器的射出面中生成2次光源。2次光源在具有预定的形状以及预定的大小的发光区域中形成。另外，形成2次光源的发光区域与对掩模的各点进行照明的光的角度分布对应。此外，在曝光装置中，还有无需掩模的无掩模曝光装置。在曝光装置中，作为使针对微细的图案的转印性能提高的技术，存在超分辨技术(RET：ResolutionEnhancementTechniques)。作为RET之一，已知使对掩模的各点进行照明的光的角度分布最佳化的变形照明。在日本特开2000-252199号公报中，作为变形照明，提出了将使用内侧的同心圆部的发光区域的第1曝光工序中的焦点位置和使用外侧的同心圆部的发光区域的第2曝光工序中的焦点位置设为不同的位置的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：/n照明光学系统，用所述光对掩模进行照明；以及/n投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，/n所述照明光学系统将包括包含至少所述第1波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少所述第2波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为与所述第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布，以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于所述照明光学系统的瞳面。/n

【技术特征摘要】
20181214 JP 2018-2347131.一种曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：
照明光学系统，用所述光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，
所述照明光学系统将包括包含至少所述第1波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少所述第2波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为与所述第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布，以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于所述照明光学系统的瞳面。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第1强度分布以及所述第2强度分布的各个是由所述投影光学系统的瞳面中的瞳半径规定的分布，
所述第1强度分布和所述第2强度分布通过所述瞳半径区分。


3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，
所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，
所述第1强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)小于所述第2强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)。


4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，
所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，
所述第2强度分布中的所述第1波长域的光的强度和所述第2波长域的光的强度的比即(所述第1波长域的光的强度)/(所述第2波长域的光的强度)小于所述第1强度分布中的所述第1波长域的光的强度和所述第2波长域的光的强度的比即(所述第1波长域的光的强度)/(所述第2波长域的光的强度)。


5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第2波长域包括比所述第1波长域长的波长域，
所述第2强度分布包括成为比所述第1强度分布大的瞳半径的分布，
所述第2强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)小于所述第1强度分布中的所述第2波长域的光的强度和所述第1波长域的光的强度的比即(所述第2波长域的光的强度)/(所述第1波长域的光的强度)。


6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
将所述第1波长域设为λ1、将所述图案的间距设为P、将所述投影光学系统的数值孔径设为NA，所述第1强度分布包括用规定的瞳半径的分布。


7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述多个波长域包括与汞灯的多个亮线对应的波长。


8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述照明光学系统包括用于使所述多个波长域中的特定的波长域的光透射或者切断来形成所述第1强度分布以及所述第2强度分布的波长滤波器。


9.一种曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：
照明光学系统，用所述光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，
所述照明光学系统将包括包含至少所述第1波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少所述第2波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为与所述第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布，形成于所述照明光学系统的瞳面，
所述照明光学系统以在针对所述第1波长域的光的所述掩模的图案的衍射光的强度分布中与比基准强度大的区域对应的所述瞳面的区域中形成所述第1强度分布的方式，形成所述强度分布。


10.根据权利要求9所述的曝光装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：八講学，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP