掩模机械手及掩模传输方法技术

一种掩模机械手，用于传输掩模，掩模机械手包括主体、至少两夹持机构及至少两清扫机构，主体包括连接部及两个延伸部，连接部的两端分别与对应的延伸部相连形成一容置掩模的空间，夹持机构设于延伸部上，用于将掩模夹持于两个延伸部之间，清扫机构位于延伸部远离连接部的一端，向掩模吹扫清洁气体以吹起污染物，且清洁气体的吹扫方向与延伸部呈30°至45°夹角。本发明专利技术既能控制成本又达到吹动污染物的效果，减小掩模的污染，提高处理晶圆的良率。本发明专利技术还提供一种掩模传输方法。

Mask manipulator and mask transmission method

【技术实现步骤摘要】
掩模机械手及掩模传输方法
本专利技术涉及半导体加工领域，具体涉及一种掩模机械手及掩模传输方法。
技术介绍
集成电路通常由光刻工艺(或曝光工艺)制成，该工艺使用掩模以及相关的光源将电路图像转印到晶圆的表面上。掩模一般由掩模盒承载，并由掩模机械手传输。在传输过程中，污染物会附着于掩模的表面上，导致例如起雾等问题，从而影响光刻工艺的良率。因此，光刻工艺最重要的影响因素其中一项即为掩模是否有遭受到污染。若掩模上出现微尘粒子，会使得受污染的掩模用于光刻制程时，在晶圆上产生相对应的缺陷。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术提供一种解决上述问题的掩模机械手及掩模传输方法。一种掩模机械手，用于传输掩模，所述掩模机械手包括主体、至少两夹持机构及至少两清扫机构，所述主体包括连接部及两个延伸部，所述连接部的两端分别与对应的所述延伸部相连形成一容置所述掩模的空间，所述夹持机构设于所述延伸部上，用于将所述掩模夹持于两个所述延伸部之间，所述清扫机构位于所述延伸部远离所述连接部的一端，向所述掩模吹扫清洁气体以吹起污染物，且所述清洁气体的吹扫方向与所述延伸部呈30°至45°夹角。进一步地，所述夹持机构开设真空通道，并外接抽真空装置，通过负压吸取所述掩模。进一步地，所述真空通道延伸至所述延伸部内。进一步地，所述夹持机构设有夹持所述掩模的夹持槽。进一步地，所述清洁气体为惰性气体。进一步地，所述掩模机械手还包括至少两抽气机构，所述抽气机构与所述清扫机构相对设置，并位于所述延伸部靠近所述连接部的一端或所述连接部上，用于抽气收集被所述清扫机构吹起的污染物。进一步地，所述掩模机械手还包括控制机构，所述控制机构与所述清扫机构、所述抽气机构电性连接或通信连接，以控制所述清扫机构及所述抽气机构。一种掩模传输方法，在两个工位之间传输掩模，包括以下步骤：在第一工位处抓取所述掩模；向所述掩模吹扫清洁气体并带动所述掩模往第二工位传输，所述清洁气体的吹扫方向与所述掩模的一条边呈30°至45°夹角；在所述第二工位放下所述掩模。本专利技术提供的掩模机械手，既能控制成本又达到了吹动污染物的效果，减小掩模的污染，提高处理晶圆的良率；本专利技术提供的掩模传输方法，能在传输所述掩模的过程中吹扫所述掩模表面上的污染物，减小掩模的污染，提高处理晶圆的良率。附图说明图1是本专利技术一实施例提供的掩模机械手的俯视示意图。图2是图1所示掩模机械手在两个工位之间传输掩模的示意图。图3是图1所示掩模机械手的右视示意图。图4是图1所示掩模机械手的正视示意图。图5是图1所示掩模机械手的清扫机构的示意图。图6是本专利技术另一实施例提供的掩模机械手的俯视示意图。图7是本专利技术又一实施例提供的掩模传输方法的流程图。主要元件符号说明掩模机械手100主体101连接部1011延伸部1012夹持机构102真空通道1021夹持槽1022清扫机构103喷嘴1031送气管路1032掩模105图案1051抽气机构106掩模盒200掩模台300如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，当一个元件或组件被认为是“连接”另一个元件或组件，它可以是直接连接到另一个元件或组件或者可能同时存在居中设置的元件或组件。当一个元件或组件被认为是“设置在”另一个元件或组件，它可以是直接设置在另一个元件或组件上或者可能同时存在居中设置的元件或组件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参见图1，本专利技术的实施例提供一种掩模机械手100，用于传输掩模105。所述掩模机械手100包括主体101、至少两夹持机构102及至少两清扫机构103。所述主体101包括连接部1011及两个延伸部1012。所述连接部1011的两端分别与对应的所述延伸部1012相连形成一容置所述掩模105的空间。所述夹持机构102设于对应的所述延伸部1012上，用于将所述掩模105夹持于两个所述延伸部1012之间。所述清扫机构103位于所述延伸部1012远离所述连接部1011的一端，向所述掩模吹扫清洁气体以吹起污染物。所述掩模机械手100在第一工位与第二工位之间传输所述掩模105。如图2所示，在本实施例中，所述第一工位为机械标准介面(StandardMechanicalInterface，SMIF)的掩模盒200，所述第二工位为掩模台300。所述主体101为一叉形结构。所述主体101包括所述连接部1011及两个分别与所述连接部1011的两端连接的所述延伸部1012。如图3所示，在一些实施例中，所述夹持机构102开设真空通道1021，且所述真空通道1021延伸至对应的所述延伸部1012内。所述真空通道1021外接抽真空装置，通过负压吸取所述掩模105。如图4所示，在一些实施例中，所述夹持机构102设有夹持所述掩模105的夹持槽1022。两个所述夹持机构102的所述夹持槽1022相对设置。请参见图5，所述清扫机构103包括喷嘴1031及与所述喷嘴1031连通的送气管路1032。所述送气管路1032在所述延伸部1012内延伸，并外接一气体供给源。所述气体供给源向所述送气管路1032供应清洁气体。所述清洁气体为不与所述掩模105发生发应的气体，例如惰性气体。在本实施例中，所述喷嘴1031的方向与所述延伸部1012的夹角为30°至45°。也就是说，所述清洁气体的吹扫方向与所述延伸部1012的夹角为30°至45°，以吹动所述掩模105的表面上附着的污染物。可以理解，所述喷嘴1031的方向与所述延伸部1012的夹角为30°至45°使得所述掩模105的绝大部分图案1051位于所述喷嘴1031的吹扫范围内，既能控制成本又达到了吹动污染物的效果，减小掩模的污染，提高处理晶圆的良率。请参见图6，进一步地，所述掩模机械手100还包括至少两抽气机构106。所述抽气机构106与所述清扫机构103相对设置，用于抽气收集被所述清扫机构103吹起的污染物。在一些实施例中，所述抽气机构106位于所述延伸部1012靠近所述连接部1011的一端。在一些实施例中，所述抽气机构106位于所述连接部1011上。设置所述抽气机构106可以进一步减少环境内的污染物，提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模机械手，用于传输掩模，其特征在于：所述掩模机械手包括主体、至少两夹持机构及至少两清扫机构，所述主体包括连接部及两个延伸部，所述连接部的两端分别与对应的所述延伸部相连形成一容置所述掩模的空间，所述夹持机构设于所述延伸部上，用于将所述掩模夹持于两个所述延伸部之间，所述清扫机构位于所述延伸部远离所述连接部的一端，向所述掩模吹扫清洁气体以吹起污染物，且所述清洁气体的吹扫方向与所述延伸部呈30°至45°夹角。/n

【技术特征摘要】
20181217 US 62/7803741.一种掩模机械手，用于传输掩模，其特征在于：所述掩模机械手包括主体、至少两夹持机构及至少两清扫机构，所述主体包括连接部及两个延伸部，所述连接部的两端分别与对应的所述延伸部相连形成一容置所述掩模的空间，所述夹持机构设于所述延伸部上，用于将所述掩模夹持于两个所述延伸部之间，所述清扫机构位于所述延伸部远离所述连接部的一端，向所述掩模吹扫清洁气体以吹起污染物，且所述清洁气体的吹扫方向与所述延伸部呈30°至45°夹角。


2.如权利要求1所述的掩模机械手，其特征在于：所述夹持机构开设真空通道，并外接抽真空装置，通过负压吸取所述掩模。


3.如权利要求2所述的掩模机械手，其特征在于：所述真空通道延伸至所述延伸部内。


4.如权利要求1所述的掩模机械手，其特征在于：所述夹持机构设有夹持所述掩模的夹持槽。


5.如权利要求1所述的掩模机械手，其特征在于：所述清洁气体为惰性气体。

【专利技术属性】
技术研发人员：南兑澔，
申请(专利权)人：夏泰鑫半导体青岛有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37