成膜装置、有机EL面板的制造系统以及成膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供在使掩模与基板贴紧时，防止掩模的挠曲残留的成膜装置、有机EL面板的制造系统以及成膜方法。成膜装置(100)具备掩模保持部(9)、多个磁铁(30)以及磁轭(29)。掩模保持部保持载置玻璃基板(5)的掩模(6)。磁轭具有安装多个磁铁的主面(291)。磁轭被配置在比由掩模保持部保持掩模的位置靠上方的位置，能够转动以使主面成为水平状态或倾斜状态。多个磁铁分别具有与安装于主面的面相反侧的磁极面。多个磁铁包括在沿主面的规定方向上排列的磁铁组。磁铁组包括以第1间隔相邻地配置且磁极面的磁极彼此不同的第1磁铁对、和以比第1间隔宽的第2间隔相邻地配置且磁极面的磁极相互不同的第2磁铁对。

Film forming device, manufacturing system of organic EL panel and film forming method

【技术实现步骤摘要】
成膜装置、有机EL面板的制造系统以及成膜方法
本专利技术涉及对基板进行成膜的成膜装置、有机EL面板的制造系统以及成膜方法。
技术介绍
在有机EL元件等电子器件的制造中，使玻璃等基板的被成膜面朝下地载置在掩模上，隔着掩模在被成膜面上成膜。膜的品质上，需要使膜厚均匀地成膜，为此，需要使基板与掩模贴紧地成膜。因此，在专利文献1中记载了通过磁铁的磁力使金属掩模吸引到基板来进行成膜的方法。在该专利文献1中，记载了使板状的磁铁从基板的一侧的端部到相向的端部一部分一部分地接近基板，使金属掩模贴紧于基板的内容。专利文献1：日本特开2004-152704号公报但是，伴随着基板的大型化，在将基板载置在掩模上时，由于基板的重量，有时基板和掩模双方成为挠曲成蒜臼形状的状态。这样，若基板以及掩模双方成为挠曲成蒜臼形状的状态，则即使通过专利文献1所记载的方法，有时掩模的挠曲也不会被局部地消除而在基板与掩模之间产生间隙。若在掩模的挠曲残留的状态下进行成膜，则会导致膜厚的偏差，因此要求改善。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，在使掩模与基板贴紧时，防止掩模的挠曲残留。用于解决课题的技术方案本专利技术的成膜装置，其特征在于，具备：掩模保持部，保持载置基板的掩模；多个磁铁；以及第1构件，具有安装所述多个磁铁的主面，被配置在比由所述掩模保持部保持掩模的位置靠上方的位置，能够转动以使所述主面成为水平状态或倾斜状态，所述多个磁铁分别具有与安装于所述主面的面相反侧的磁极面，所述多个磁铁包括在沿着所述主面的规定方向上排列的磁铁组，所述磁铁组包括：第1磁铁对，以第1间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同；以及第2磁铁对，以比所述第1间隔宽的第2间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同。专利技术效果根据本专利技术，在使掩模贴紧于基板时，能够防止掩模的挠曲残留。附图说明图1是第1实施方式的成膜装置的概略图。图2(a)是第1实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的IIB-IIB线的磁铁单元的剖视图。图3是用于说明第1实施方式中的磁铁组的图。图4(a)、(b)和(c)是用于说明第1实施方式的成膜方法的一部分的工序的图。图5(a)和(b)是用于说明第1实施方式的成膜方法的一部分的工序的图。图6(a)是第2实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的VIB-VIB线的磁铁单元的剖视图。图7(a)是第3实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的VIIB-VIIB线的磁铁单元的剖视图。图8(a)是第4实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的VIIIB-VIIIB线的磁铁单元的剖视图。图9(a)是第5实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的IXB-IXB线的磁铁单元的剖视图。图10(a)是第6实施方式的磁铁单元的俯视图。(b)是沿着(a)的XB-XB线的磁铁单元的剖视图。图11是第7实施方式的制造系统的示意性结构图。附图标记说明9、掩模保持部；29、磁轭(第1构件)；30、磁铁；31、磁极面；100、成膜装置；130、磁铁组；131、磁铁对(第1磁铁对)；132、磁铁对(第2磁铁对)；291、主面。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的优选的实施方式进行说明。但是，以下说明的实施方式仅仅例示性地表示本专利技术的优选的结构，本专利技术的范围并不限定于这些结构。另外，以下的说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、制造条件、尺寸、材质、形状等，只要没有特别限定性的记载，就不旨在将本专利技术的范围限定于这些。[第1实施方式]图1是第1实施方式的成膜装置100的概略图。成膜装置100是在作为基板的一例的平行平板的玻璃基板5的表面通过真空蒸镀形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为蒸镀材料，能够选择有机材料、无机材料(例如金属、金属氧化物)等任意的材料。具体而言，能够应用于电子器件(例如有机EL显示装置、薄膜太阳能电池)的制造装置。在本实施方式中，成膜装置100用于在作为被成膜基板的玻璃基板5的表面形成有机薄膜而制造的有机EL元件的制造工序中的成膜工序。另外，图1所示的本实施方式的成膜装置100是蒸镀装置，但并不限定于此，也可以是溅射法、CVD法等使用蒸镀法以外的成膜方法的成膜装置。在图1中，将上下方向设为Z方向、将与Z方向正交的两个方向且相互正交的水平方向设为X方向以及Y方向。成膜装置100具备装置本体100A和控制装置本体100A的控制部50。装置本体100A具备腔室4和闸阀15，该腔室4具有用于在玻璃基板5上形成成膜材料的成膜空间2，该闸阀15用于将玻璃基板5相对于腔室4内搬入/搬出。另外，装置本体100A具备定位机构1，该定位机构1保持配置于腔室4的内部即成膜空间2的玻璃基板5以及掩模6，进行玻璃基板5与掩模6的相对的定位。另外，装置本体100A具备掩模吸引机构14，该掩模吸引机构14吸引掩模6，使掩模6贴紧于玻璃基板5。在腔室4的成膜空间2中设置有收纳有成膜材料的成膜源(蒸镀源)7。定位机构1具有设置在腔室4的外部的板10和驱动板10的驱动部11。另外，定位机构1具有设置在腔室4的内部并保持玻璃基板5的基板保持部8、和设置在腔室4的内部并保持掩模6的掩模保持部9。基板保持部8在将玻璃基板5载置到掩模6上之后，从玻璃基板5退避。在板10上固定有轴12。轴12通过设置在腔室4的上部分隔壁3上的贯穿孔而连续地设置在腔室4的外部和内部。并且，在轴12的下部安装有基板保持部8，能够在成膜空间2中保持玻璃基板5。设置于上部分隔壁3的贯穿孔相对于轴12的外径形成得较大，以使轴12与上部分隔壁3不产生干涉。在腔室4的外部，轴12由固定于板10和上部分隔壁3的波纹管13覆盖。掩模吸引机构14具有驱动部16和由驱动部16沿Z方向升降驱动的板19。驱动部16和板19被配置在腔室4的外部。在板19上固定有轴21。轴21通过设置在腔室4的上部分隔壁3上的贯穿孔而连续地设置在腔室4的外部和内部。在轴21的下部设置有由不被磁力吸引的材质、即不是强磁性体的磁性体、例如反磁性体构成的基板推压部17。设置于上部分隔壁3的贯穿孔相对于轴21的外径形成得较大，以使轴21与上部分隔壁3不产生干涉。在腔室4的外部，轴21由固定于板19和上部分隔壁3的波纹管41覆盖。基板推压部17具有在通过驱动部16的驱动而下降时与玻璃基板5接触的、作为第2构件的一个例子的基板推压板20、以及安装于基板推压板20的上表面的抵接块23。在此，作为成膜品质的主要项目之一，有膜厚的均匀性。例如，在通过成膜形成电极层的情况下，如果膜厚产生偏差，则电极层的电阻值也产生偏差，导致发光不均。为此，需要以使膜厚均匀的方式进行成膜。因此，在本实施方式中，掩模吸引机构14通过磁力来吸引由被磁力吸引的材质、例如强磁性体构成的掩模6，使掩模6贴紧于玻璃基板5。掩模吸引机构14具有驱动部18、由驱动部18沿Z本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，其特征在于，/n具备：/n掩模保持部，保持载置基板的掩模；/n多个磁铁；以及/n第1构件，具有安装所述多个磁铁的主面，被配置在比由所述掩模保持部保持掩模的位置靠上方的位置，能够转动以使所述主面成为水平状态或倾斜状态，/n所述多个磁铁分别具有与安装于所述主面的面相反侧的磁极面，/n所述多个磁铁包括在沿着所述主面的规定方向上排列的磁铁组，/n所述磁铁组包括：第1磁铁对，以第1间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同；以及第2磁铁对，以比所述第1间隔宽的第2间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同。/n

【技术特征摘要】
20181213 JP 2018-2337981.一种成膜装置，其特征在于，
具备：
掩模保持部，保持载置基板的掩模；
多个磁铁；以及
第1构件，具有安装所述多个磁铁的主面，被配置在比由所述掩模保持部保持掩模的位置靠上方的位置，能够转动以使所述主面成为水平状态或倾斜状态，
所述多个磁铁分别具有与安装于所述主面的面相反侧的磁极面，
所述多个磁铁包括在沿着所述主面的规定方向上排列的磁铁组，
所述磁铁组包括：第1磁铁对，以第1间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同；以及第2磁铁对，以比所述第1间隔宽的第2间隔相邻地配置，所述磁极面的磁极相互不同。


2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述第2磁铁对相对于所述第1磁铁对相对地位于所述磁铁组中的中央的那侧。


3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，
所述第2磁铁对位于所述多个磁铁中的排列图案的中央部分。


4.一种成膜装置，其特征在于，
具备：
掩模保持部，保持载置基板的掩模；
多个磁铁；以及
第1构件，具有安装所述多个磁铁的主面，被配置在比由所述掩模保持部保持掩模的位置靠上方的位置，能够转动以使所述主面成为水平状态或倾斜状态，
所述多个磁铁分别具有与安装于所述主面的面相反侧的磁极面，
所述多个磁铁包括在沿着所述主面的规定方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫崎圭介，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP