【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体制程工艺的烤箱装置
本技术涉及半导体制程工艺设备领域,具体说是一种用于半导体制程工艺的烤箱装置。
技术介绍
在半导体制程工艺中,需要对半导体纸品进行烘干烘烤,现有技术中的用于半导体制程工艺的烘干设备中通常在烤箱内部设置四层固定的烤架用于放置半导体进行烘烤,这种形式的结构其内部烤架的摆放位置及层数过于固定,当需要烘烤的产品较少时,烤架较多不能很好进行均匀的烘烤;而当烘烤的产品较多的时候四层烤架的位置又不能进行调节,烘烤不同高度不同体积的产品时,烤箱内部的空间也不能进行相应调节,因此使用起来非常的不便,不方便进行调节。
技术实现思路
技术目的:针对上述现有技术存在的不足,提供一种用于半导体制程工艺的烤箱装置。技术方案:为了实现上述技术目的,本技术采用的技术方案如下:一种用于半导体制程工艺的烤箱装置;包括带有烘烤功能的烤箱本体,该所述的烤箱本体的两侧内壁均设置有上下间隔均匀的若干组横向挂杆;两侧的横向挂杆均对称设置,而每一组横向挂杆则均包括有若干个纵向间隔均匀的单个横向挂杆组成;而两侧相对应的每组横向挂杆上还均设置有L形状结构的挂板;该所述挂板的竖向边与横向挂杆可拆卸安装;而挂板的横向边上则安装有一排间隔均匀设置的螺杆,而该螺杆上还设置有可调螺帽;并且两侧相对应的挂板上相应的螺杆之间安装有烤架板;所述烤架板的两侧设置有与螺杆位置对应的卡槽;该卡槽的尺寸大于螺杆的外径而小于可调螺帽的,使得烤架板两侧的卡槽卡在螺杆的位置并搭放在可调螺帽或者是搭放在挂板上。作为优选,所述的烤箱本体一 ...
【技术保护点】
1.一种用于半导体制程工艺的烤箱装置;包括带有烘烤功能的烤箱本体(1),其特征在于:该所述的烤箱本体(1)的两侧内壁均设置有上下间隔均匀的若干组横向挂杆(2);两侧的横向挂杆(2)均对称设置,而每一组横向挂杆(2)则均包括有若干个纵向间隔均匀的单个横向挂杆(2)组成;而两侧相对应的每组横向挂杆(2)上还均设置有L形状结构的挂板(3);该所述挂板(3)的竖向边与横向挂杆(2)可拆卸安装;而挂板(3)的横向边上则安装有一排间隔均匀设置的螺杆(4),而该螺杆(4)上还设置有可调螺帽(5);并且两侧相对应的挂板(3)上相应的螺杆(4)之间安装有烤架板(6);所述烤架板(6)的两侧设置有与螺杆(4)位置对应的卡槽(7);该卡槽(7)的尺寸大于螺杆(4)的外径而小于可调螺帽(5)的,使得烤架板(6)两侧的卡槽(7)卡在螺杆(4)的位置并搭放在可调螺帽(5)或者是搭放在挂板(3)上。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体制程工艺的烤箱装置;包括带有烘烤功能的烤箱本体(1),其特征在于:该所述的烤箱本体(1)的两侧内壁均设置有上下间隔均匀的若干组横向挂杆(2);两侧的横向挂杆(2)均对称设置,而每一组横向挂杆(2)则均包括有若干个纵向间隔均匀的单个横向挂杆(2)组成;而两侧相对应的每组横向挂杆(2)上还均设置有L形状结构的挂板(3);该所述挂板(3)的竖向边与横向挂杆(2)可拆卸安装;而挂板(3)的横向边上则安装有一排间隔均匀设置的螺杆(4),而该螺杆(4)上还设置有可调螺帽(5);并且两侧相对应的挂板(3)上相应的螺杆(4)之间安装有烤架板(6);所述烤架板(6)的两侧设置有与螺杆(4)位置对应的卡槽(7);该卡槽(7)的尺寸大于螺杆(4)的外径而小于可调螺帽(5)的,使得烤架板(6)两侧的卡槽(7)卡在螺杆(4)的位置并搭放在可调螺帽(5)或者是搭放在挂板(3)上。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体制程工艺的烤箱装置;其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘东明,周鑫,
申请(专利权)人:上海旻艾半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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