【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种涂覆方法，该方法中，在基材夹持器所夹持着的平整的金属基材上，在减压条件下从气相中沉积出源自蒸气流的金属涂层，其中是利用至少一个能量源将所述的蒸气微粒从构成至少一个蒸发源的容器中蒸发出来；本专利技术还涉及一种用于制备具有金属基材的轴承(Lager)元件的条带形的且平整的预产品，在所述金属基材上设置有至少一层金属涂层；以及还涉及用于在气相中且在减压条件下用源自蒸气流形成的金属涂层涂覆平整的金属基材的装置，该装置具有真空密封的罩壳、圆筒形基材夹持器、至少一个用于产生蒸气流的电子束蒸发器以及至少一个形成微粒蒸发源的容器。真空中在金属基材上沉积金属涂层的方法长久以来便已公知。因此，例如在DE 19514835C1中公开了通过真空蒸发凹面弯曲的滑动元件上涂覆涂层。为此，要在基材和蒸发槽表面之间调节得一定的间距。将待蒸发的材料放置在蒸发坩锅中，并通过电子束进行蒸发。在涂层的蒸发过程中，蒸发器和载体彼此之间要以不均等的速度进行运动。通过这种蒸发射束，线性运动的速度无论是在进入时还是在出去时都能达到其最大值。为了还能实现蒸发涂层的层厚度与最大层厚之间的偏差小于15％...
【技术保护点】
涂覆方法，该方法中，在基材夹持器（１１）所夹持着的平整的金属基材（２２）上，在减压条件下从气相中沉积出由微粒构成的金属涂层（１２），其中利用至少一个能量源（５）将所述的微粒从构成至少一个蒸发源（７）的容器中蒸发出来，其特征在于，金属涂层（１２）由多个独立涂层（２１）连续地构成。
【技术特征摘要】
AT 2005-7-12 A1168/20051.涂覆方法，该方法中，在基材夹持器(11)所夹持着的平整的金属基材(22)上，在减压条件下从气相中沉积出由微粒构成的金属涂层(12)，其中利用至少一个能量源(5)将所述的微粒从构成至少一个蒸发源(7)的容器中蒸发出来，其特征在于，金属涂层(12)由多个独立涂层(21)连续地构成。2.如权利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，在基材(22)上沉积具有规定的层厚的独立涂层(21)，所述厚度选自下限为10nm且上限为10μm的范围。3.如权利要求1或2所述的涂覆方法，其特征在于，所述金属涂层(12)以层厚度大于100μm、特别是大于150μm、优选大于200μm，例如300μm-400μm制造。4.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，独立涂层(21)的数量选自下限为50、特别是100、优选250且上限为5000、特别是4000、优选2500的范围。5.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，所述独立涂层(21)以表面粗糙度小于基材(22)的表面粗糙度制造。6.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，所使用的基材(22)其与平均基材厚度的偏差不大于200μm、特别是不大于150μm、优选不大于100μm。7.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，所述基材(22)多次地在特别是同一蒸发源(7)上做循环运动、特别是旋转运动或直线运动。8.如权利要求7所述的涂覆方法，其特征在于，将基材(22)的旋转运动和直线运动结合起来。9.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，在至少一个蒸发源(7)之外，并在金属涂层(12)内或独立涂层(21)之间，通过涂层(12，21)的至少各个组分的扩散而进行均匀化处理。10.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，使用多个蒸发源(7)，且它们每一个含有用于构造涂层的化学纯元素。11.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，将一种双成分或多成分体系用作金属涂层(12)，且所述体系包含选自包括铝、锡、铜、铅的第一组的基本元素，且与至少一种选自下组的其他元素进行合金化，该组包括铅、锡、铋、锌、硅、镁、锰、铁、钪、锆、铬、铜、铝、铍，前提是所述其他元素不同于基本元素。12.如权利要求11所述的涂覆方法，其特征在于，由这些成分形成合金。13.如权利要求11或12所述的涂覆方法，其特征在于，所述成分各自先后地沉积于独立涂层(21)中。14.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，在基材(22)的未经涂覆的表面(29)上涂覆耐摩擦侵蚀的涂层。15.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，在金属涂层(12)和基材(22)之间涂覆粘结层。16.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，制备具有规定孔隙度的独立涂层(21)的至少最外层。17.如权利要求16所述的涂覆方法，其特征在于，所产生的孔隙具有选自下限为0.1μm且上限为10μm、特别是下限为0.5μm且上限为5μm的范围内的平均孔径。18.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，将金属涂层(12)构造为用于轴承元件、特别是滑动轴承的滑动层。19.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，制备用于轴承元件、特别是滑动轴承的预产品(13)。20.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其特征在于，在涂覆了至少第一独立涂层(21)之后，通过用高能量微粒轰击而改善这些独立涂层(21)的结构。21.如上述权利要求之一所述的涂覆方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：G艾岑格，
申请(专利权)人：米巴格来特来格有限公司，
类型：发明
国别省市：AT[奥地利]
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