面蒸发源蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种面蒸发源蒸镀装置。它是由可卷绕的柔性金属箔带作为蒸发料薄膜层的承载件，所述承载件上用波峰涂方法涂有蒸发料薄膜层，构成载有蒸发料膜层的面蒸发源；在此面蒸发源两端有一对加热电极，通过瞬间加热把承载件上蒸发料薄膜层瞬间全部均匀地蒸发到半成品基板上。从而大大提高了蒸发料的利用率。而且最后得到的蒸发薄膜层的材料成分、薄膜厚度、均匀度均由面蒸发源的蒸发料薄膜层来控制。使得此蒸镀装置不再需要蒸发速率和膜厚控制、多蒸发源控制，均匀性控制等复杂的机构，降低了设备成本、缩短了蒸镀节拍，提高了设备的利用率。所提供的波峰涂装置是溶有一定蒸发料浓度的溶液在波峰发生器中产生能产生一高于溶液面的稳定的溶液波峰，此波峰与波峰垂直方向移动的蒸发料薄膜承载件基板的表面接触后在承载件上留下部分的溶液薄层经烘烤干燥后形成一均匀的蒸发料薄膜层。

Surface Evaporation Source Evaporation Plating Device

The invention relates to a surface evaporation source evaporation plating device. It is a bearing part of evaporative film layer, which is made of flexible windable metal foil. The bearing part is coated with evaporative film layer by wave crest coating method, and forms a surface evaporation source with evaporative film layer. At both ends of the surface evaporation source, there is a pair of heating electrodes, which evaporates the evaporative film layer on the bearing part to the semi-finished substrate instantaneously and uniformly through instantaneous heating. The utilization ratio of evaporation material is greatly improved. Moreover, the material composition, thickness and uniformity of the evaporated film layer are controlled by the evaporated film layer of the surface evaporation source. It makes the evaporation device no longer need complicated mechanisms such as evaporation rate and film thickness control, multi-evaporation source control and uniformity control, which reduces the cost of equipment, shortens the time of evaporation and improves the utilization rate of equipment. The wave crest coating device provided is that a solution with a certain concentration of evaporating material can produce a stable solution crest higher than the solution surface in the wave crest generator. The wave crest contacts the surface of the evaporating material film bearing part substrate moving vertically with the wave crest, and the solution thin layer left on the bearing part is baked and dried to form a uniform evaporating material film layer.

【技术实现步骤摘要】
面蒸发源蒸镀装置
本专利技术涉及用于制作有机发光二极管（OLED）、有机薄膜晶体管（TFT）、有机太阳电池、半导体器件、平板显示器件，及其他有机及无机器件制备时把有机及无机的蒸发料进行蒸发的面蒸发源蒸镀装置。
技术介绍
真空蒸镀工艺已广泛的用于半导体元器件及平板显示器件的制作。特别如有机发光二极管（OLED）等方面已形成了一个很大的产业，在OLED的制备过程中主要的过程是真空蒸发，就是把有机蒸发料放在加热的坩埚中把蒸发料变成蒸汽后沉积在半成品基板上。由于随着平板显示面积的不断扩大，对大面积蒸发的均匀性和低成本的蒸发要求越来越高。而一般常用蒸发源有点蒸发源和线蒸发源。对于点蒸发源如中国专利01129122、200810210270.x、003110977等，该种蒸发源由于蒸发时呈球面状因此在蒸发到平面基板时是不均匀的，中间厚周边薄。为了要得到均匀的薄膜则需要把蒸发源放在基板的边缘处而在基板旋转的情况下才能得到均匀的薄膜。这不仅增加了工艺的复杂性而且也造成了蒸发料的大量浪费。一般用这种方法的蒸发料的利用率只有百分之五左右。特别是对有机发光器件其有机发光的材料很昂贵的情况下它大大的增加了成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种面蒸发源蒸镀装置，包括接受蒸镀材料的半成品基板（115,209）、带有匀布状镂空型孔（112）的掩膜板（113），其特征在于：由两个卷有柔性金属箔带卷筒（105和104）装有一条柔性金属箔带（101）作为蒸发料薄膜层的承载件，通过两个转向辊筒（106和107）转到两个加热电极辊筒（108和109）之间成一个平整的蒸发面，在该平面上或者是带有发热介质层的平板基片（201）用波峰涂（103）的方法，或者用印刷、或转印、或喷涂、或流延、或蒸发、或溅射方法沉积一层蒸发料薄膜层（102,202）组成的面蒸发源，面蒸发源平面的两端加有两个电极（108和109,204和205）可以瞬间通电或者用电磁...

【技术特征摘要】
1.一种面蒸发源蒸镀装置，包括接受蒸镀材料的半成品基板（115,209）、带有匀布状镂空型孔（112）的掩膜板（113），其特征在于：由两个卷有柔性金属箔带卷筒（105和104）装有一条柔性金属箔带（101）作为蒸发料薄膜层的承载件，通过两个转向辊筒（106和107）转到两个加热电极辊筒（108和109）之间成一个平整的蒸发面，在该平面上或者是带有发热介质层的平板基片（201）用波峰涂（103）的方法，或者用印刷、或转印、或喷涂、或流延、或蒸发、或溅射方法沉积一层蒸发料薄膜层（102,202）组成的面蒸发源，面蒸发源平面的两端加有两个电极（108和109,204和205）可以瞬间通电或者用电磁、或中频、或高频、或微波、或热辊方法来实现瞬间加热，瞬间把面蒸发源上的蒸发料薄膜层（102,202）全部蒸发到在它上面的半成品基板（115,209）上形成蒸发薄膜层（114,208），两者之间可以有一个带有匀布状镂空型孔（112）的掩膜板（113）组成一个面蒸发源的蒸镀系统，它可在高真空或惰性气体的低真空气氛下进行蒸发，并由多个蒸镀系统在一个真空系统内排列成行，接受蒸发料的半成品基板可按程序完成第一次蒸镀第一层蒸发薄膜层后再向前推进到下一个蒸镀系统进行下一层第二层蒸发薄膜层的蒸镀，形成一个完整的蒸镀线，每个蒸镀系统（501，502）边上有一个备用的面蒸发源波峰涂膜室（501-1，502-1）在大气或惰性气氛中完成蒸发料的波峰涂膜后来更换边上已蒸发完蒸发料的面蒸发源。2.根据权利要求1所述的面蒸发源蒸镀装置，其特征在于；所述的用电磁、或中频、或高频、或微波、或热辊方法来实现瞬间加热的方法中，以热辊的蒸发方法的面蒸发源蒸镀装置它由两个卷有柔性的金属箔带卷筒（405和404）的柔性的金属箔带（401）作为蒸发料薄膜层的承载件，它上面涂有蒸发料薄膜层(402)组成的面蒸发源，以稳定的速度通过高温的热辊（408），在热辊上面有接受蒸发镀层（414）的半成品样品基板（415），两者之间可以有一个带有匀布镂空型孔（412）的掩膜板（413），它们以柔性金属箔带（401）移动的同样的速度和柔性金属箔带（401）同步向前移动当蒸发料层经过高温热辊时会瞬间蒸发到基板（415）上形成蒸发薄膜层（414），组成一个面蒸发源热辊式瞬间蒸发的蒸镀系统。3.根据权利要求1和2所述的面蒸发源蒸镀装置，其特征在于：所述的柔性金属箔带（101,401）是厚度为0.01到0.1mm的不锈钢、或钼、或钨、或铝合金、或镍铬箔片。4.根据权利要求1和2所述的面蒸发源蒸镀装置，其特征在于：所述的柔性金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：张志林，张建华，李俊，蒋雪茵，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海,31