The invention provides a preparation method of a mask plate, a mask device and a mask plate, belonging to the technical field of the preparation of a display substrate. The invention provides a mask plate for the preparation of a display substrate. The mask plate includes: a rigid transparent substrate with a first opening corresponding to the pixel unit of the display substrate; a toughening layer arranged on the rigid transparent substrate to enhance the toughness of the mask plate; and a second opening for the toughening layer. The first opening corresponds to each other.
【技术实现步骤摘要】
掩膜板、掩膜装置、掩膜板的制备方法
本专利技术属于显示基板制备
，具体涉及一种掩膜板、掩膜装置、掩膜板的制备方法。
技术介绍
现有技术中，通常采用FMM(FineMetalMask，高精度金属掩模板)作为蒸镀掩模板，将有机发光材料通过FMM上的开口蒸镀在阵列基板上对应的开口区域，以形成OLED(OrganicLight-EmittingDiode；有机电致发光二极管)器件。传统的FMM是以因瓦合金(Invar)为材料，在上面通过刻蚀法进行开口，掩膜板厚度通常为20～50微米，金属掩膜板由于重力原因会产生较大的下垂量，张网时的拉伸作用又会造成褶皱的产生，在蒸镀时掩膜板与基板贴合不好产生间隙，会产生蒸镀阴影进而造成蒸镀混色不良。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种蒸镀精度高、开口率高的掩膜板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种掩膜板，用于显示基板的制备，所述掩膜板包括：具有第一开口的刚性透明基底，所述第一开口与所述显示基板的像素单元对应；设置于所述刚性透明基底上的韧性增强层，用以增强所述掩膜板的韧性；所述韧性增强层设...
【技术保护点】
1.一种掩膜板，用于显示基板的制备，其特征在于，所述掩膜板包括：具有第一开口的刚性透明基底，所述第一开口与所述显示基板的像素单元对应；设置于所述刚性透明基底上的韧性增强层，用以增强所述掩膜板的韧性；所述韧性增强层设置有第二开口，所述第二开口与所述第一开口一一对应。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，用于显示基板的制备，其特征在于，所述掩膜板包括：具有第一开口的刚性透明基底，所述第一开口与所述显示基板的像素单元对应；设置于所述刚性透明基底上的韧性增强层，用以增强所述掩膜板的韧性；所述韧性增强层设置有第二开口，所述第二开口与所述第一开口一一对应。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述韧性增强层中掺杂有磁性纳米颗粒。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述磁性纳米颗粒的材料包括：具有磁性的金属单质、金属合金、金属氧化物中的至少一者。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，还包括：磁性层，所述磁性层具有第三开口；所述第三开口与所述第一开口一一对应设置；其中，所述磁性层设置于所述刚性透明基底和所述韧性增强层之间；或者，所述磁性层和所述韧性增强层分设在所述刚性透明基底的两侧。5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述韧性增强层的材料包括：聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、聚丙烯中的至少一者。6.一种掩膜装置，其特征在于，包括：上述权利要求1至5中任意一项所述的掩膜板；与所述掩膜板相适配的掩膜框架。7.一种掩膜板的制备方法，所述掩膜板用于显示基板的制备，其特征在于，所述掩膜板的制备方法包括：在刚性透明基材上形成韧性增强层材料；对所述刚性透明基材进行处理，形成具有第一开口的刚性透明基底和具有第二开口的韧性增强层；所述韧性增强层用以增强所述掩膜板的韧性；所述第一开口与所述显示基板的像素单元对应，所述第二开口与所述第一开口一一对应。8.根据权利要求7所述的掩膜板的...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱海彬，董学，袁广才，王伟杰，张峰杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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