The application belongs to the field of thin film preparation of integrated circuits, and specifically relates to an atomic layer deposition device, including a reaction chamber, an intake pipe, a bearing platform, a speed synchronization regulator and a motor; the lower end of one side of the reaction chamber is provided with an intake port, and the lower end of the other side is provided with an outlet; the intake pipe is vertically arranged in the reaction chamber, and is connected with the intake port. The intake pipe is provided with a number of air holes along the vertical direction; the bearing platform is located at the bottom of the reaction chamber, and the motor is located below the reaction chamber. The motor drives and connects the bearing platform and drives the bearing platform to rotate at a uniform speed; the speed synchronous regulator connects the motor and controls the speed of the motor. The atomic layer deposition device provided by the utility model can adjust the rotational speed of the bearing platform to improve the uniformity of film formation.
【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积设备
本申请属于集成电路的薄膜制备领域,具体涉及一种原子层沉积设备。
技术介绍
原子层沉积(ALD)技术是目前最先进的薄膜沉积技术之一,其采用的单原子逐层沉积的方式使得制备的薄膜在均一性、粗糙度等性能方面有了很大的改进,除生长速率较低外,其余方面都优于其他沉积方式。在进行原子层沉积时,ALD反应前驱体需要能够迅速的与衬底材料、或者衬底材料表面基团进行有效化学反应,并达到饱和吸附来完成薄膜沉积。但现有技术中在ALD技术制备的薄膜存在局部过厚与局部过薄的情形,所示沉积的薄膜厚度不同;同时会存在副产物颗粒。为了提高沉积薄膜的质量,中国专利CN1503326A“增加原子层沉积速率的方法”,其主要通过控制排气阀来控制前驱体反应成膜的厚度。但实际应用时,前驱体并不能清理干净,在重复成膜时,前一次成膜留下的杂质会影响后一次成膜的质量。因此,其不能有效保证成膜效果。
技术实现思路
本申请提供一种原子层沉积设备,其能调整承载台的转速改善成膜的均匀性。为实现上述技术目的,本申请采用的技术方案,一种原子层沉积设备,包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机;所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口;所述进气管竖直布设于所述反应腔室中,并与所述进气口连通,所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔;所述承载台设于所述反应腔室的底部,所述电机设于所述反应腔室的下方,所述电机传动连接所述承载台,并带动所述承载台匀速转动;所述转速同步调节器连接所述电机和所述进气口,并用于控制所述电机的转速和所述进气口的进气时间以使通过所述进气口向所述反应腔室通入清洁气体所用时间 ...
【技术保护点】
1.一种原子层沉积设备,其特征在于,包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机;所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口;所述进气管竖直布设于所述反应腔室中,并与所述进气口连通,所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔;所述承载台设于所述反应腔室的底部,所述电机设于所述反应腔室的下方,所述电机传动连接所述承载台,并带动所述承载台匀速转动;所述转速同步调节器连接所述电机和所述进气口,并用于控制所述电机的转速和所述进气口的进气时间以使通过所述进气口向所述反应腔室通入清洁气体所用时间满足所述承载台旋转一周用时的整数倍关系。
【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积设备,其特征在于,包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机;所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口;所述进气管竖直布设于所述反应腔室中,并与所述进气口连通,所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔;所述承载台设于所述反应腔室的底部,所述电机设于所述反应腔室的下方,所述电机传动连接所述承载台,并带动所述承载台匀速转动;所述转速同步调节器连接所述电机和所述进气口,并用于控制所述电机的转速和所述进气口的进气时间以使通过所述进气口向所述反应腔室通入清洁气体所用时间满足所述承载台旋转一周用时的整数倍关系。2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述转速同步调节器还与所述出气口相连,用于控制所述电机的转速和经所述出气口出气的时间以...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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