建立晶圆格点的方法技术

本发明专利技术涉及一种建立晶圆格点的方法，涉及半导体集成电路制造工艺，包括：步骤S1，对晶圆进行层间对准量测，获得所述晶圆上多个曝光区内的多个套刻标记的位置坐标；步骤S2，所述晶圆在扫描电镜上做多个点的对准，获得所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息；以及步骤S3，根据所述晶圆上所述多个曝光区内的所述多个套刻标记的位置坐标和所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息拟合出晶圆格点；以使晶圆格点更加准确反映曝光后的晶圆上的每个点的位置信息。

【技术实现步骤摘要】
建立晶圆格点的方法
本专利技术涉及一种集成电路制造技术，尤其涉及一种建立晶圆格点的方法。
技术介绍
在半导体集成电路制造工艺中，对晶圆上的图形的关键尺寸(CD)的量测是其中非常重要的一步。目前，最常用的量测机台就是扫描电镜。随着技术节点从65nm到40nm到28nm到14nm，再到10nm一路演化并且往7nm，5nm方向行进，图形的特征尺寸越来越小，导致对其关键尺寸的量测越来越困难，在量测过程中对图形定位的要求越来越高。导致了需要建立越来越复杂和精细的量测程序，比如由小倍率到大倍率的双重位置定位的程序等。而扫描电镜量测过程中的第一步对准因为其本身的设计以及电子扫描的低速度的问题，只会做整片晶圆上有限的几个点的对准，从而只能对晶圆上曝光区之间建立格点。具体的，可参阅图1，图1为现有技术的建立晶圆格点的过程示意图。如图1所示，晶圆在扫描电镜上做三个点的对准，以此建立曝光区之间的晶圆格点。这样的做法忽略了每个曝光区域本身的变形，从而导致了建立的晶圆格点与真实的位置坐标产生了较大的误差，这个误差导致在做关键尺寸量测时定位不够精确，因而需要建立更复杂更精细的量测程序来弥补，也对扫描电镜的移动精度提出更高的要求，且导致量测过程中较高的定位失效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种建立晶圆格点的方法，使晶圆格点更加准确反映曝光后的晶圆上的每个点的位置信息。本专利技术提供的建立晶圆格点的方法，包括：步骤S1，对晶圆进行层间对准量测，获得所述晶圆上多个曝光区内的多个套刻标记的位置坐标；步骤S2，所述晶圆在扫描电镜上做多个点的对准，获得所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息；以及步骤S3，根据所述晶圆上所述多个曝光区内的所述多个套刻标记的位置坐标和所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息拟合出晶圆格点。更进一步的，在步骤S1中对所述晶圆进行层间对准量测时，一个曝光区内量测的套刻标记的数量为5个以上。更进一步的，在步骤S1中对所述晶圆进行层间对准量测时，所述晶圆上的每个曝光区内均量测多个套刻标记的位置坐标。更进一步的，在步骤S1中对所述晶圆进行层间对准的量测时，没量测套刻标记的曝光区通过外延的方式确定该曝光区内的套刻标记的位置坐标。更进一步的，在步骤S2中所述晶圆在扫描电镜上做三到五个之间的点的对准。更进一步的，所述晶圆在扫描电镜上做三个点的对准。本专利技术提供的建立晶圆格点的方法，在晶圆格点建立过程中，综合了当层中曝光区内部的格点信息和曝光区之间的晶圆格点信息，使晶圆格点更加准确反映曝光后的晶圆上的每个点的位置信息，因此改善了量测图形的定位精度，减少位置定位失效率从而提高了扫描电镜量测的效率和可靠性；由于定位更加精确，因此在进行关键尺寸扫描电镜量测时，降低了关键尺寸扫描电镜量测程序中对定位的要求，降低了量测的定位失效率，提高了量测机台的利用率，提高了生产效率。附图说明图1为现有技术的建立晶圆格点的过程示意图。图2为本专利技术一实施例的建立晶圆格点的过程示意图。图3为本专利技术一实施例的扫描电镜的定位精度示意图。图中主要元件附图标记说明如下：100、晶圆；110、曝光区；112、套刻标记。具体实施方式下面将结合附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在不做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术一实施例中，提供一种建立晶圆格点的方法。具体的，该建立晶圆格点的方法包括以下步骤：步骤S1，对晶圆100进行层间对准量测，获得晶圆100上多个曝光区110内的多个套刻标记112的位置坐标。具体的，请参阅图2，图2为本专利技术一实施例的建立晶圆格点的过程示意图。如图2所示的步骤S1，对晶圆100进行层间对准的量测，也即量测当层套刻标记112与前层套刻标记(图中未示出)之间的偏移量，因此在此过程中获得了当层中的套刻标记112的位置坐标，当层中的套刻标记112分布在晶圆100上的多个曝光区110内部，因此它建立了当层中曝光区110内部的格点。且曝光区110里每个套刻标记112的相对位置关系可以确定，从而可以得出该曝光区110的准确形变的信息，即曝光区内的位置信息。本专利技术一实施例中，对晶圆100进行层间对准量测时，一个曝光区110内量测的套刻标记112的数量为5个以上，如此才能有效的获取每个曝光区110内的位置信息。本专利技术一实施例中，对晶圆100进行层间对准量测时，晶圆100上的每个曝光区110内均量测多个套刻标记112的位置坐标。本专利技术一实施例中，对晶圆100进行层间对准的量测时，没量测套刻标记112的曝光区110通过外延的方式确定该曝光区110内的套刻标记112的位置坐标。即根据临近的曝光区110内的套刻标记112的位置坐标得出该曝光区内的套刻标记112的位置坐标。步骤S2，晶圆在扫描电镜上做多个点的对准，获得晶圆100的多个曝光区110之间的位置信息。如图2所示的步骤S2，晶圆100在扫描电镜上做三个点的对准，以此建立曝光区110之间的晶圆格点。但本专利技术对晶圆100在扫描电镜上做对准的点的个数并不做限定。本专利技术一实施例中，晶圆100在扫描电镜上做三到五个之间的点的对准。步骤S3，根据晶圆上多个曝光区110内的多个套刻标记112的位置坐标和晶圆100的多个曝光区110之间的位置信息拟合出晶圆格点。如图2所示的步骤S3，晶圆格点综合了当层中曝光区110内部的格点信息和曝光区110之间的晶圆格点信息，使晶圆格点更加准确反映曝光后的晶圆100上的每个点的位置信息，因此改善了量测图形的定位精度，减少位置定位失效率从而提高了扫描电镜量测效率和可靠性。由于定位更加精确，因此在进行关键尺寸扫描电镜量测时，降低关键尺寸扫描电镜量测程序中对定位的要求，降低了量测的定位失效率，提高量测机台的利用率，提高生产效率。具体的，请参阅图3，图3为本专利技术一实施例的扫描电镜的定位精度示意图。如图3所示，采用如图1所示的传统方法建立的晶圆格点，扫描电镜的定位精度为3μm。而采用如图2所示的本专利技术提供的新方法建立的晶圆格点，扫描电镜的定位精度为2.5μm，大大提高了扫描电镜的定位精度。综上所述，在晶圆格点建立过程中，综合了当层中曝光区内部的格点信息和曝光区之间的晶圆格点信息，使建立起的晶圆格点更加准确的反映曝光后的晶圆上的每个点的位置信息，因此改善了量测图形的定位精度，减少位置定位失效率从而提高了扫描电镜量测的效率和可靠性；由于定位更加精确，因此在进行关键尺寸扫描电镜量测时，降低了关键尺寸扫描电镜量测程序中对定位的要求，降低了量测的定位失效率，提高了量测机台的利用率，提高了生产效率。最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本专利技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本专利技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本专利技术各实施例技术方案的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种建立晶圆格点的方法，其特征在于，包括：步骤S1，对晶圆进行层间对准量测，获得所述晶圆上多个曝光区内的多个套刻标记的位置坐标；步骤S2，所述晶圆在扫描电镜上做多个点的对准，获得所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息；以及步骤S3，根据所述晶圆上所述多个曝光区内的所述多个套刻标记的位置坐标和所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息拟合出晶圆格点。

【技术特征摘要】
1.一种建立晶圆格点的方法，其特征在于，包括：步骤S1，对晶圆进行层间对准量测，获得所述晶圆上多个曝光区内的多个套刻标记的位置坐标；步骤S2，所述晶圆在扫描电镜上做多个点的对准，获得所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息；以及步骤S3，根据所述晶圆上所述多个曝光区内的所述多个套刻标记的位置坐标和所述晶圆的所述多个曝光区之间的位置信息拟合出晶圆格点。2.根据权利要求1所述的建立晶圆格点的方法，其特征在于，在步骤S1中对所述晶圆进行层间对准量测时，一个曝光区内量测的套刻标记的数量为5个以上。3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓国贵，陈燕鹏，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31