The utility model discloses a diode for IGBT module, the silicon wafer size is 3.4mm x 4.5mm, the low doping N silicon substrate is equipped with high doping P silicon base area, forming PN junction. The low doped N silicon substrate is round angle rectangular shape, and the electrode has a protective film. The characteristics are the N type silicon substrate and the highly doped P type silicon. There are graphene layers on the base, high doped P type silicon ring and high doped N type silicon emission region. The diode of the utility model has high forward reverse breakdown voltage and high maximum current which can withstand.
【技术实现步骤摘要】
一种用于IGBT模块的二极管
本技术涉及半导体功率器件,特别涉及一种用于IGBT模块的二极管。
技术介绍
二极管是一种IGBT模块常用器件,IGBT模块用二极管主要作为高频整流二极管、续流二极管或阻尼二极管应用于开关电源、PWM脉宽调制器、变频器等电子电路中。目前IGBT模块还需要能耐高压大电流的二极管来适应IGBT模块的不同需求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于IGBT模块的二极管,其反向击穿电压高,正向能承受的最大电流高。实现本技术的技术方案是:一种用于IGBT模块的二极管,硅晶片尺寸为3.4mm×4.5mm,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,电极外设有保护膜,所述N型硅衬底、高掺杂P型硅基区、高掺杂P型硅基环和高掺杂N型硅发射区上有石墨烯层。作为本技术的进一步改进,所述低掺杂N型硅衬底上沉积金属Al作为阳极,N型硅衬底的背面沉积金属V/Ni/Ag混合物作为阴极。作为本技术的进一步改进,所述石墨烯层宽327μm。作为本技术的进一步改进,所述二极管硅晶片厚度为270μm,高掺杂P型硅基区深度为110μm,所述高掺杂N型硅发射区深度为20μm。作为本技术的进一步改进,所述低掺杂的N型硅衬底电阻率为100Ω·cm,厚度160μm。作为本技术的进一步改进,所述N型硅衬底上有4个环形结构,外环为高掺杂N型硅发射区,高掺杂P型硅基区和外环高掺杂N型硅发射区中间有三个高掺杂P型硅基环,环形结构曲率231μm,外环高掺杂N型硅发射区宽度55μm,内环硅基环宽度13μm。作为本技术的进一步改进,所述阳极金属A ...
【技术保护点】
1.一种用于IGBT模块的二极管,硅晶片尺寸为3.4mm×4.5mm,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,电极外设有保护膜,其特征在于,所述N型硅衬底、高掺杂P型硅基区、高掺杂P型硅基环和高掺杂N型硅发射区上有石墨烯层。
【技术特征摘要】
1.一种用于IGBT模块的二极管,硅晶片尺寸为3.4mm×4.5mm,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,电极外设有保护膜,其特征在于,所述N型硅衬底、高掺杂P型硅基区、高掺杂P型硅基环和高掺杂N型硅发射区上有石墨烯层。2.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述低掺杂N型硅衬底上沉积金属Al作为阳极,N型硅衬底的背面沉积金属V/Ni/Ag混合物作为阴极。3.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述石墨烯层宽327μm。4.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述二极管硅晶片厚度为270μm...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔峰敏,
申请(专利权)人:傲迪特半导体南京有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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