【技术实现步骤摘要】
上电复位电路及具有该上电复位电路的半导体存储器装置相关申请的交叉引用本申请要求于2016年11月24日提交的申请号为10-2016-0157409的韩国专利申请的优先权,其全部公开内容通过引用并入本文。
本公开的各个实施例总体涉及一种电子装置,并且更特别地,涉及一种上电复位电路以及具有该上电复位电路的半导体存储器装置。
技术介绍
半导体存储器装置是使用诸如硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等半导体实现的存储器装置。半导体存储器装置被分类为易失性存储器装置和非易失性存储器装置。易失性存储器装置是当电源关闭时存储在其中的数据丢失的存储器装置。易失性存储器装置的代表性示例可以包括静态RAM(SRAM)、动态RAM(DRAM)和同步DRAM(SDRAM)。非易失性存储器装置是即使当电源关闭时存储在其中的数据也被保留的存储器装置。非易失性存储器装置的代表性示例可以包括只读存储器(ROM)、可编程ROM(PROM)、电可编程ROM(EPROM)、电可擦除可编程ROM(EEPROM)、闪速存储器、相变随机存取存储器(PRAM)、磁性RAM(MRAM)、电阻式RAM(RRAM)和铁电RAM(FRAM)。闪速存储器可以被分类为NOR型存储器和NAND型存储器。半导体存储器装置配备有用于生成上电复位信号(POR)的上电复位电路。当外部输入的外部供给电压被激活时,上电复位信号被生成,并且内部电路被初始化,从而防止半导体存储器装置发生故障。
技术实现思路
本公开的各个实施例涉及一种能够执行稳定的上电复位操作的上电复位电路以及具有该上电复位电路的半导体存储器装 ...
【技术保护点】
一种上电复位电路,其包括:参考电压生成电路,其被配置为基于外部供给电压生成参考电压;以及上电复位信号生成电路,其被配置为当所述外部供给电压增加到设定电平或以上时,通过感测所述参考电压的电位水平来生成上电复位信号,其中当所述参考电压基于温度变化而改变时,所述上电复位信号生成电路控制感测电平以补偿所述参考电压的改变。
【技术特征摘要】
2016.11.24 KR 10-2016-01574091.一种上电复位电路,其包括:参考电压生成电路,其被配置为基于外部供给电压生成参考电压;以及上电复位信号生成电路,其被配置为当所述外部供给电压增加到设定电平或以上时,通过感测所述参考电压的电位水平来生成上电复位信号,其中当所述参考电压基于温度变化而改变时,所述上电复位信号生成电路控制感测电平以补偿所述参考电压的改变。2.根据权利要求1所述的上电复位电路,其中所述参考电压生成电路基于所述温度变化来改变所述参考电压。3.根据权利要求2所述的上电复位电路,其中所述参考电压生成电路包括分配所述外部供给电压的电阻器,并且其中所述电阻器具有基于所述温度变化而变化的电阻值。4.根据权利要求1所述的上电复位电路,其中所述上电复位信号生成电路包括:感测电路,其被配置为通过感测所述参考电压的电位水平来控制内部节点的电位水平;缓冲器,其被配置为通过缓冲所述内部节点的电位水平来生成所述上电复位信号;以及感测参考电压控制电路,其被配置为基于所述温度变化通过控制所述感测电路的感测参考电压来控制所述感测电路的感测电平。5.根据权利要求4所述的上电复位电路,其中所述感测电路包括PMOS晶体管和NMOS晶体管,所述PMOS晶体管和所述NMOS晶体管在所述外部供给电压和所述感测参考电压的感测参考节点之间串联联接在所述内部节点处,并且其中所述PMOS晶体管和所述NMOS晶体管被配置为基于所述参考电压来控制所述内部节点的电位水平。6.根据权利要求5所述的上电复位电路,其中所述感测参考电压控制电路包括联接在所述感测参考节点与接地电压之间的电阻器部件,其中所述电阻器部件具有基于所述温度变化而变化的电阻值,从而基于所述温度变化来控制所述感测参考电压。7.根据权利要求5所述的上电复位电路,其中所述感测参考电压控制电路包括:电阻器部件,其联接在所述感测参考节点和接地电压之间;第一开关,其联接在所述外部供给电压和所述感测参考节点之间;以及第二开关,其联接在所述接地电压和所述感测参考节点之间。8.根据权利要求7所述的上电复位电路,其中所述电阻器部件具有基于所述温度变化而变化的电阻值,从而基于所述温度变化来控制所述感测参考电压。9.根据权利要求7所述的上电复位电路,其中所述第一开关响应于所述上电复位信号通过将所述外部供给电压施加到所述感测参考节点来控制所述感测参考节点的电位水平,并且其中所述第二开关响应于所述上电复位信号的反相信号通过将所述接地电压施加到所述感测参考节点来控制所述感测参考节点的电位水平。10.一种半导体存储器装置,其包括:存储器单元阵列,其包括多个存储器单元;内部电路,其被配置为对所述存储器单元阵列执行编程操作、读取操作或擦除操作,并且响应于上电...
【专利技术属性】
技术研发人员:李炫哲,
申请(专利权)人:爱思开海力士有限公司,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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