蒸镀掩膜板及蒸镀装置、蒸镀工艺及测试膜层厚度的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蒸镀掩膜板及蒸镀装置、蒸镀工艺及测试膜层厚度的方法，涉及显示技术领域，可测试一次蒸镀工艺中各蒸镀材料沉积的膜厚。该蒸镀掩膜板包括掩膜板本体；M组温度监控装置；每组温度监控装置至少包括一个温度监控装置；与每个温度监控装置一一对应的膜层监控区域；设置在每个膜层监控区域上的控制窗口；设置在每个膜层监控区域内的检测电极对，用于获取沉积到膜层监控区域内的膜层在测试电压下的测试电流值；每组温度监控装置用于当设定的一预设温度的区间包含温度监控装置获取到的蒸镀温度时，控制对应的膜层监控区域上的控制窗口打开，以使具有蒸镀温度的蒸镀源蒸发出的蒸镀材料沉积在露出的膜层监控区域内。

Steam plating mask plate and steam plating device, evaporation process and method for measuring the thickness of film layer

The invention provides a method for evaporating mask plate and evaporating device, evaporating process and measuring the thickness of the film, and relates to the display technology field, which can measure the thickness of the deposited materials of each evaporation coating in the first evaporation process. The evaporation mask comprises a mask body temperature monitoring device; M group; each temperature monitoring device comprises at least one temperature monitoring device; monitoring area corresponding to each layer temperature monitoring device; setting the control window in each layer on the monitoring area; setting the detection electrode in each layer in the control area of for the film deposited onto the film, get in the control area in the test voltage test current value; each temperature monitoring device for a preset interval when the temperature setting includes temperature monitoring device to obtain the evaporation temperature, control window film monitoring area control corresponding to the open, so that has evaporated temperature the evaporation source evaporation deposition materials deposited in the film exposed in the monitoring area.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩膜板及蒸镀装置、蒸镀工艺及测试膜层厚度的方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种蒸镀掩膜板及蒸镀装置、蒸镀工艺及测试膜层厚度的方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode)是一种利用有机半导体材料制成的薄膜发光器件，具有自发光的特性。OLED器件形成在基板上，通常包括相对设置的阳极、阴极以及位于二者之间的有机电致发光材料层(ElectroluminescenceLayer，EL)。其中，EL层具体可包括：空穴注入层(HoleInjectionLayer，HIL)、空穴传输层(HoleTransportLayer，HTL)、电子注入层(ElectronInjectionLayer，EIL)、电子传输层(ElectronTransportLayer，ETL)以及发光层(EmissiveLayer，EML)，各材料层根据器件的设计需要，可以为单层或多层结构。OLED器件目前多采用蒸镀法进行制作金属层和EL层，并以Inline(连续作业)的方式进行蒸镀沉积。以蒸镀各层有机材料为例，如图1所示，一次蒸镀的具体工艺过程为：在各蒸镀源2(Evapor本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀掩膜板，所述蒸镀掩膜板应用于依次沉积M种蒸镀材料，每种所述蒸镀材料放置在不同的蒸镀源中，每种所述蒸镀材料的蒸镀温度的区间无交集，M为大于1的正整数；所述蒸镀掩膜板包括掩膜板本体；其特征在于，所述蒸镀掩膜板还包括：设置在所述掩膜板本体朝向所述蒸镀源的第一表面上的M组温度监控装置；每组所述温度监控装置至少包括一个所述温度监控装置；设置在所述第一表面上呈凹陷的与每个所述温度监控装置一一对应的膜层监控区域；设置在每个所述膜层监控区域上的控制窗口；设置在每个所述膜层监控区域内的检测电极对，用于获取沉积到所述膜层监控区域内的膜层在测试电压下的测试电流值；每组所述温度监控装置用于当设定的一预设温度的...

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩膜板，所述蒸镀掩膜板应用于依次沉积M种蒸镀材料，每种所述蒸镀材料放置在不同的蒸镀源中，每种所述蒸镀材料的蒸镀温度的区间无交集，M为大于1的正整数；所述蒸镀掩膜板包括掩膜板本体；其特征在于，所述蒸镀掩膜板还包括：设置在所述掩膜板本体朝向所述蒸镀源的第一表面上的M组温度监控装置；每组所述温度监控装置至少包括一个所述温度监控装置；设置在所述第一表面上呈凹陷的与每个所述温度监控装置一一对应的膜层监控区域；设置在每个所述膜层监控区域上的控制窗口；设置在每个所述膜层监控区域内的检测电极对，用于获取沉积到所述膜层监控区域内的膜层在测试电压下的测试电流值；每组所述温度监控装置用于当设定的一预设温度的区间包含所述温度监控装置获取到的所述蒸镀温度时，控制对应的所述膜层监控区域上的所述控制窗口打开，以使具有所述蒸镀温度的所述蒸镀源蒸发出的所述蒸镀材料沉积在露出的所述膜层监控区域内；其中，M组所述温度监控装置与M种所述蒸镀材料一一对应，且每组所述温度监控装置的所述预设温度的区间仅包含对应的一种所述蒸镀材料的所述蒸镀温度；或者，M组所述温度监控装置包括：第一类型的M1组所述温度监控装置和第二类型的(M-M1)组所述温度监控装置，1≤M1<M；所述M1组中的任意一组所述温度监控装置的所述预设温度的区间包含N种所述蒸镀材料的所述蒸镀温度，2≤N≤M，则其中(N-1)种所述蒸镀材料在所述第二类型的(M-M1)组所述温度监控装置中均有一一对应的一组所述温度监控装置，且每组所述温度监控装置的所述预设温度的区间仅包含对应的一种所述蒸镀材料的所述蒸镀温度。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，每个所述温度监控装置包括：温度感应单元和处理单元；所述温度感应单元用于获取所述掩膜板本体下方的所述蒸镀温度，并向所述处理单元发送包含获取到的所述蒸镀温度的感应信息；所述处理单元用于对接收到的所述感应信息进行处理，并向与所述温度监控装置对应的所述控制窗口发出反馈信息；所述控制窗口根据接收到的所述反馈信息作出打开或关闭的反应；其中，当所述处理单元判断所述预设温度的区间包含所述蒸镀温度时，所述反馈信息包括开启信息；当所述处理单元判断所述预设温度的区间不包含所述蒸镀温度时，所述反馈信息包括关闭信息。3.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，在多种所述蒸镀材料均为有机材料的情况下，所述检测电极对包括：相对设置的两个交叉指型电极，且所述两个交叉指型电极的交叉部分具有间隙。4.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，在多种所述蒸镀材料均为金属材料的情况下，所述检测电极对包括：相对设置的两个条形电极，且所述两个条形电极分别位于所述膜层监控区域的相对的两个边缘处。5.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：程磊磊，彭锐，周斌，王庆贺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11