掩模吸附装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种通用性高的掩模吸附装置，其不需要按照掩模图案不同的各种掩模中的每一种掩模来变更磁铁排列而能够使各种掩模良好地吸附于基板。该掩模吸附装置设置在基板(1)的背面侧，并通过磁力使在基板(1)的表面侧设置的掩模(2)吸附于该基板(1)，其中，与所述掩模(2)相对的面成为N极的N极部(3)和与所述掩模(2)相对的面成为S极的S极部(4)周期性地配设而构成的磁铁列(5)将其长边方向对齐，并且空出间隔地在能与所述掩模(2)相对的整个区域并列设置，成为如下的状态：该磁铁列(5)的所述N极部(3)及所述S极部(4)的排列相位在相邻的所述磁铁列(5)彼此间进行错开。

Mask adsorption device

The invention provides a universal masking adsorption device, which does not need to change the magnet arrangement according to each mask in different mask patterns, and enables various masks to be well adsorbed on the substrate. The mask adsorption device is arranged on the back side of the substrate (1), and (1) on the substrate through the magnetic mask set side surface (2) adsorbed on the substrate (1), among them, and the mask (2) relative to the surface to become N N (3 pole pole) and mask (2) and the relative surface become S S pole pole (4) periodically arranged in a magnet column (5) will be the direction of the long edge alignment, and have in interval with the mask (2) relative to the entire region are arranged in parallel, as follows: the state of the magnet column (5) of the N pole (3) and the S pole (4) arranged in the phase of the magnet adjacent columns (5) are staggered with each other.

【技术实现步骤摘要】
掩模吸附装置
本专利技术涉及掩模吸附装置。
技术介绍
在经由金属掩模而在基板上进行所希望的图案的成膜的成膜装置中，作为通过磁力使掩模良好地吸附于基板的成膜面的技术，例如专利文献1公开了在基板保持体设有与掩模的非开口部对应地排列的磁铁的技术。然而，在专利文献1公开的技术中，对于掩模图案不同的掩模，需要每次改变磁铁的排列，在使用各种掩模时，需要预先准备具有与各掩模对应的磁铁排列的各种基板保持体。这种情况下，需要将预先收纳有各种基板保持体的基板保持体贮存室向成膜装置追加配设，或者需要根据掩模而每次更换对应的基板保持体等，成膜装置的大型化、高成本化不可避免。此外，在专利文献2中公开了如下的技术：在与掩模相对的基板的被处理面的相反侧，将具有N极与S极的交界部的磁铁配置成使掩模的框架区域与该交界部相对。而且，在专利文献3中公开了如下的技术：使用隔着中心线而分离配置成极性互不相同的朝向的多个磁体，将掩模固定于基板，上述中心线穿过对掩模的开口部进行分隔的肋(框架)的宽度的中心。然而，都需要根据掩模图案来变更磁铁及磁体的配置，存在与上述专利文献1同样的问题点。【在先技术文献】【专利文献】【专利文献1】日本特开平11-131212号公报【专利文献2】国际公开第2009/069743号【专利文献3】日本特开2015-124394号公报
技术实现思路
【专利技术要解决的课题】本专利技术鉴于上述的现状而作出，提供一种通用性高的掩模吸附装置，其不需要按照掩模图案不同的各种掩模中的每一种掩模来变更磁铁排列而能够使各种掩模良好地吸附于基板。【用于解决课题的方案】一种掩模吸附装置，所述掩模吸附装置设置在基板的背面侧，并通过磁力使在基板的表面侧设置的掩模吸附于该基板，其特征在于，与所述掩模相对的面成为N极的N极部和与所述掩模相对的面成为S极的S极部周期性地配设而构成的磁铁列将其长边方向对齐，并且空出间隔地在能与所述掩模相对的整个区域并列设置，成为如下的状态：该磁铁列的所述N极部及所述S极部的排列相位在相邻的所述磁铁列彼此间进行错开。【专利技术效果】本专利技术由于如上所述构成，因此成为通用性高的掩模吸附装置，其不需要按照掩模图案不同的各种掩模中的每一种掩模来变更磁铁排列而能够使各种掩模良好地吸附于基板。附图说明图1是本实施例的概略说明侧视图。图2是本实施例的主要部分的概略说明立体图。图3是本实施例的主要部分的概略说明俯视图。图4是另一例1的概略说明俯视图。图5是另一例2的概略说明俯视图。图6是另一例2的概略说明俯视图。【符号说明】1基板2掩模3N极部4S极部5磁铁列具体实施方式基于附图示出本专利技术的作用，简单地说明考虑为优选的本专利技术的实施方式。通过在基板1背面侧设置的磁铁列5，使在基板1的成膜面(表面)配置的掩模2吸附于基板1。此时，磁铁列5并列设置在能与掩模2相对的整个区域(整个掩模配设区域)，在相邻的磁铁列5彼此间N极部3及S极部4的排列相位不同，因此，N极部3及S极部4散布而能够使吸附力平均地作用于掩模2整体，即使掩模图案不同也能够良好地吸附于基板1。即，通过将磁铁列5设为如下的结构：在相邻的磁铁列5彼此间将N极部3及S极部4的排列相位错开，且掩模2的吸附力高的N极部3与S极部4的交界部没有遗漏地配置于掩模配设区域，由此，即使例如将各磁铁列5的磁力设定成不会阻碍基板1表面侧的成膜的程度的磁力，也能使吸附力的不均尽可能少，无论掩模图案如何都能够良好地吸附保持掩模2。此外，通过在相邻的磁铁列5彼此间使N极部3及S极部4的排列相位错开，磁力也能良好地作用于相邻的磁铁列5彼此的N极部3及S极部4之间，掩模2的格子状的非开口部的磁铁列5的沿长边方向的部分自不必说，磁铁列5的沿并列设置方向的部分也能够良好地进行吸附保持。【实施例】基于附图说明本专利技术的具体的实施例。本实施例在经由金属掩模2对基板1的表面进行成膜的成膜装置设有掩模吸附装置，该掩模吸附装置设置在基板1的背面侧，并通过磁力使在基板1的表面侧设置的掩模2吸附于该基板1。该掩模吸附装置构成为，与掩模2相对的面成为N极的N极部3和与掩模2相对的面成为S极的S极部4周期性地呈直线状配设而构成的磁铁列5将其长边方向对齐，并且空出间隔地在能与掩模2相对的整个区域并列设置，成为如下的状态：该磁铁列5的N极部3及S极部4的排列相位在相邻的磁铁列5彼此间进行错开。如图1～3图示，磁铁列5在磁铁排列板7(磁轭)上并列设置多个，该磁铁排列板7以磁铁列5侧与基板1的背面相对的状态配置在基板1的背面侧。图1中，符号6是保持基板1的基板托盘。本实施例的N极部3及S极部4是沿着相对于掩模2的被吸附面垂直的方向被磁化的长方体状的永久磁铁，N极部3以S极侧的面与磁铁排列板7抵接的状态通过螺钉等适当的固定构件来固定，S极部4以N极侧的面与磁铁排列板7抵接的状态通过螺钉等适当的固定构件来固定。在本实施例中，构成为成为如下的状态：在相邻的所述磁铁列5彼此间，所述N极部3及所述S极部4的排列相位错开90°。具体而言构成为，成为右侧的磁铁列5的所述排列相位比左侧的磁铁列5的所述排列相位超前了90°的状态。在本实施例中，将磁铁列5并列设置5个，因此两端的磁铁列5的所述排列相位相同。需要说明的是，确认到通过设为相邻的磁铁列5彼此的所述排列相位错开90°的状态而能得到特别良好的掩模吸附性的情况，但是并不局限于90°，即使在错开其他的角度的状态下，与相位一致的情况相比，也能够得到掩模吸附性的提高效果。另外，所述磁铁列5空出恒定的间隔地并列设置。如果磁铁列5彼此抵接或间隔过近，则相邻的磁铁列5彼此发生干涉，相对于磁铁列5的长边方向的磁通密度减少，会导致吸附力的下降。而且，由于相邻的磁铁列5的各N极部3及S极部4的磁力的相互作用，难以将磁铁固定于磁铁排列板，有时需要粘结材料，但是该粘结材料在成膜室内成为对真空造成污染的原因。由此，在本实施例中，磁铁列5彼此的间距设定为与磁铁列5的长边方向正交的方向上的磁铁列5的宽度的大致3倍至10倍左右。另外，N极部3及S极部4的尺寸能够进行各种设定，例如可以设为长度5～20mm左右，宽度2～14mm左右，高度2～10mm左右。在本实施例中，设为长度10mm，宽度3mm，高度5mm。另外，例如，可以如图4图示的另一例1那样，成为将各磁铁列5的N极部3和S极部4沿着其排列方向空出间隔地配设的结构。在这种情况下，与将相邻的磁铁列5彼此以规定的间隔配设的情况同样，通过适当设定N极部3及S极部4彼此的间隔，能够进一步提高掩模吸附性，能够提高每单位体积的吸附力。另外，例如，可以如图5、6图示的另一例2那样，成为设置磁铁列驱动部的结构，该磁铁列驱动部使配设多个磁铁列5的磁铁排列板7进行水平移动或水平旋转。在这种情况下，能够使多个磁铁列5进行水平移动及水平旋转，根据掩模2以磁铁列5尽可能地与掩模2的非开口部重叠的方式调整磁铁排列板的位置，成为能够更良好地将掩模2吸附于基板1的表面的结构。另外，如图5图示那样，优选磁铁列5的并列设置间距a设定为掩模箔周期间隔b(掩模2的格子状的非开口部的磁铁列5的沿长边方向的部分的周期间隔b)的1/n倍(n：1，2，…)。这种情况下，成为掩模2的非开口部的磁铁列5的沿长边方向的部分在多处与磁铁列5重叠本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模吸附装置，所述掩模吸附装置设置在基板的背面侧，并通过磁力使在基板的表面侧设置的掩模吸附于该基板，其特征在于，与所述掩模相对的面成为N极的N极部和与所述掩模相对的面成为S极的S极部周期性地配设而构成的磁铁列将其长边方向对齐，并且空出间隔地在能与所述掩模相对的整个区域并列设置，成为如下的状态：该磁铁列的所述N极部及所述S极部的排列相位在相邻的所述磁铁列彼此间进行错开。

【技术特征摘要】
2016.07.01 JP 2016-1317351.一种掩模吸附装置，所述掩模吸附装置设置在基板的背面侧，并通过磁力使在基板的表面侧设置的掩模吸附于该基板，其特征在于，与所述掩模相对的面成为N极的N极部和与所述掩模相对的面成为S极的S极部周期性地配设而构成的磁铁列将其长边方向对齐，并且空出间隔地在能与所述掩模相对的整个区域并列设置，成为如下的状态：该磁铁列的所述N极部及所述S极部的排列相位在相邻的所述磁铁列彼此间进行错开。2.根据权利要求1所述的掩模吸附装置，其特征在于，成为如下的状态：在相邻的所述磁铁列彼此间，所述N极部及...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹见崇，青沼大介，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP