用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法技术

公开了用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法。掩模组件包括玻璃掩模、第一金属层和第二金属层，其中，玻璃掩模具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，第一金属层被图案化在玻璃掩模的第一表面上方以及第二金属层被图案化在玻璃掩模的第二表面下方。多个沉积区域布置在玻璃掩模上，以及多个沉积图案部分被图案化在多个沉积区域中，每个沉积图案部分具有多个狭缝。

Mask module for film deposition and its manufacturing method

A mask assembly for film deposition and a manufacturing method are disclosed. Mask assembly includes a glass mask, first and second metal layers, wherein the glass mask having a first surface and a second surface opposite to the first surface, a first metal layer is patterned on the first surface above the glass mask and the second metal layer is patterned on the glass surface below second mask. Multiple depositional areas are arranged on glass masks, and multiple deposition patterns are patterned in multiple sedimentary areas, each with several slits.

【技术实现步骤摘要】
用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2016年6月24日提交的第10-2016-0079281号韩国专利申请的优先权和权益，如本文中完全阐述的一样，出于所有目的，该韩国专利申请通过引用以其整体并入本文中。
示例性实施方式涉及用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法。
技术介绍
显示装置被用于诸如智能电话、膝上型计算机、数字相机、摄像机、便携式信息终端、笔记本和平板式个人计算机(PC)的各种移动装置或诸如台式计算机、电视(TV)、户外广告牌、展览显示设备、仪表盘和平视显示器(HUD)的电子设备中。显示装置中被图案化的光发射层可以通过使用各种方法而形成。沉积方法是指通过使用具有与待沉积的薄膜的图案相同的图案的掩模将沉积材料沉积在基底上的方法。掩模可安装在掩模框架上。在安装掩模时一定压力被施加至掩模。由于这种压力，掩模可能变形。因此，掩模可能与基底不对准，并且可能不能进行精确的图案化。在本背景部分中公开的以上信息仅仅为了加强对本专利技术构思背景的理解，并且因此其可能含有并不构成本国中本领域技术人员已经知晓的现有技术的信息。
技术实现思路
示例性实施方式提供了用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法，该掩模组件能够提供精确的沉积图案。额外的方面将在随后的描述中部分地阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可通过实践本专利技术构思而习得。示例性实施方式公开了用于薄膜沉积的掩模组件，该掩模组件包括玻璃掩模、第一金属层和第二金属层，其中，玻璃掩模具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，第一金属层被图案化在玻璃掩模的第一表面上方以及第二金属层被图案化在玻璃掩模的第二表面下方，其中多个沉积区域布置在玻璃掩模上，以及多个沉积图案部分被图案化在多个沉积区域中，每个沉积图案部分具有多个狭缝。多个沉积区域可分别布置在穿透玻璃掩模的开口中，并且开口在玻璃掩模中彼此间隔开。沉积区域可以与基底的有源区域对应，该有源区域上将沉积沉积材料，以及每个沉积图案部分的多个狭缝图案可以与布置在有源区域中的多个光发射层图案对应。第一金属层可以从玻璃掩模的第一表面朝沉积区域延伸，以及多个狭缝可以被图案化在与沉积区域对应的第一金属层中。每个开口在玻璃掩模的第二表面中的区域可以大于每个开口在玻璃掩模的第一表面中的区域。每个开口在玻璃掩模的第一表面中的区域可以分别与沉积区域对应。每个开口在玻璃掩模的第二表面中的第二直径可以大于每个开口在玻璃掩模的第一表面中的第一直径。玻璃掩模的围绕每个开口的内周壁可以是倾斜的。玻璃掩模的内周壁的直径可以从玻璃掩模的第一表面至玻璃掩模的第二表面逐渐增加。连接玻璃掩模的各部分的肋部可以布置在相邻沉积区域之间。第一金属层可以包括多个堆叠的导电层。玻璃掩模的第一表面可以是面对基底的表面，基底上将沉积沉积材料，以及玻璃掩模的第二表面可以是从沉积源发射的沉积材料在其上入射的表面。还可以在玻璃掩模下方布置支撑杆。玻璃掩模可以是母掩模，在母掩模上，多个沉积图案部分布置在多个沉积区域中。玻璃掩模可以包括多个杆状掩模，并且每个杆状掩模可以包括布置在多个沉积区域中的多个沉积图案部分。示例性实施方式还公开了用于薄膜沉积的掩模组件的制造方法，该方法包括：制备玻璃掩模；使在玻璃掩模的第一表面和第二表面上的金属层图案化以形成多个沉积图案部分；以及去除玻璃掩模的一部分以在与被图案化有沉积图案部分的沉积区域对应的区域中形成开口。该方法还可以包括：在玻璃掩模的第一表面上方形成第一金属层以及在玻璃掩模的第二表面下方形成第二金属层；对第一金属层和第二金属层进行蚀刻；以及在与将形成第一金属层的每个沉积图案部分对应的区域中图案化多个狭缝，并且执行蚀刻使得在第二金属层中形成大于沉积区域的开口。第一金属层和第二金属层可以通过电镀或溅射被图案化。可以从玻璃掩模的第二表面对玻璃掩模进行蚀刻以穿过第二金属层被蚀刻的区域形成大于沉积区域的开口。玻璃掩模的围绕相邻沉积区域的部分可以彼此连接。上文的一般描述与下文的详细描述是示例性和说明性的，并且旨在提供对所要求保护主题的进一步说明。附图说明所包括的用于提供对本专利技术构思的进一步理解并且被并入本说明书中并构成本说明书一部分的附图示出了本专利技术构思的示例性实施方式，并且与描述内容一起用于说明本专利技术构思的原理。图1是根据示例性实施方式的显示装置的示意性平面图。图2是位于图1的有源区域中的光发射层的示意性放大平面图。图3是根据示例性实施方式的掩模组件的示意性平面图。图4是沿图3的线IV-IV'截取的剖视图。图5是用于描述使用图3的掩模组件的沉积工艺的配置图。图6是根据另一示例性实施方式的掩模组件的示意性平面图。图7是根据另一示例性实施方式的掩模组件的剖视图。图8A是示出在制备图3的玻璃掩模之后的状态的剖视图。图8B是示出在图8A的玻璃掩模的两个表面上形成金属层之后的状态的剖视图。图8C是示出在图8B的金属层中形成图案之后的状态的剖视图。图8D是示出在图8B的玻璃掩模中形成开口之后的状态的剖视图。具体实施方式在以下描述中，出于说明的目的，阐述众多具体细节以便提供对各种示例性实施方式的透彻理解。然而，显而易见的是，各种示例性实施方式可在没有这些具体细节或具有一个或多个等同布置的情况下实践。在其它情况下，为了避免不必要地使各种示例性实施方式模糊不清，以框图形式示出了众所周知的结构和设备。在附图中，出于清楚和描述的目的，层、膜、面板、区域等的尺寸和相对尺寸可能被放大。另外，相同的附图标记代表相同的元件。当元件或层被称为在另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，其可以直接在该另一元件或层上、连接至或联接至该另一元件或层，或者可以存在中间元件或层。然而，当元件或层被称为直接在另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层时，不存在中间元件或层。出于描述本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z组成的群组选取的至少一个”可被理解为仅X、仅Y、仅Z，或X、Y和Z中诸如两个或更多个的任意组合，例如，XYZ、XYY、YZ和ZZ。如本文中使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意和所有组合。虽然在本文中可使用术语第一、第二等描述各种元件、部件、区域、层和/或区段，但是这些元件、部件、区域、层和/或区段不应受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、部件、区域、层和/或区段与另一元件、部件、区域、层和/或区段区分开。因此，在不背离本公开的教导的情况下，可以将以下所论述的第一元件、部件、区域、层和/或区段称为第二元件、部件、区域、层和/或区段。出于描述目的，在本文中可以使用诸如“在……以下”、“在……下方”、“下方”、“在……上方”、“上方”等空间相对术语，并且因此来描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。空间相对术语旨在除包括图中所绘出的取向之外，还包括装置在使用、操作和/或制造中的不同取向。例如，如果图中的装置被翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“以下”的元件将被取向为在该其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包括在……上方和在……下方二者的取向。此外，装置可以以其它方式取向(例如，旋转90度或处于其它取向)，并且因此，相应地解释本文中使用的空间相本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于薄膜沉积的掩模组件，所述掩模组件包括：玻璃掩模，包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；第一金属层，被图案化在所述玻璃掩模的所述第一表面上方；以及第二金属层，被图案化在所述玻璃掩模的所述第二表面下方，其中：多个沉积区域布置在所述玻璃掩模上；以及多个沉积图案部分被图案化在所述沉积区域中，每个所述沉积图案部分包括多个狭缝。

【技术特征摘要】
2016.06.24 KR 10-2016-00792811.用于薄膜沉积的掩模组件，所述掩模组件包括：玻璃掩模，包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；第一金属层，被图案化在所述玻璃掩模的所述第一表面上方；以及第二金属层，被图案化在所述玻璃掩模的所述第二表面下方，其中：多个沉积区域布置在所述玻璃掩模上；以及多个沉积图案部分被图案化在所述沉积区域中，每个所述沉积图案部分包括多个狭缝。2.如权利要求1所述的掩模组件，其中，所述多个沉积区域分别布置在穿透所述玻璃掩模的开口中，并且所述开口在所述玻璃掩模中彼此间隔开。3.如权利要求2所述的掩模组件，其中，所述沉积区域与基底的有源区域对应，所述有源区域上将沉积沉积材料，以及每个所述沉积图案部分的多个狭缝图案与布置在所述有源区域中的多个光发射层图案对应。4.如权利要求2所述的掩模组件，其中，所述第一金属层从所述玻璃掩模的所述第一表面朝所述沉积区域延伸，以及所述狭缝被图案化在与所述沉积区域对应的所述第一金属层中。5.如权利要求2所述的掩模组件，其中，每个所述开口在所述玻璃掩模的所述第二表面中的区域大于每个所述开口在所述玻璃掩模的所述第一表面中的区域。6.如权利要求5所述的掩模组件，其中，每个所述开口在所述玻璃掩模的所述第一表面中的所述区域分别与每个所述沉积区域相对应。7.如权利要求5所述的掩模组件，其中，每个所述开口在所述玻璃掩模的所述第二表面中的第二直径大于每个所述开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：李尚玟，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR