一种掩膜板制造技术

本发明专利技术提供了一种掩膜板，该掩膜板包括对位区，该对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位；对对位区进行反射处理，以使得掩膜板具有与该预设反射率相同范围的反射率。通过这种反射处理，使得不同类型的掩膜板在对位时，不需要调整光源强度或画面对比度也能获得相同且适合相应掩膜板的画面清晰度，减少了人工作业，提高了生产效率。

A kind of mask plate

The invention provides a mask, the mask includes alignment area, the area is used to obtain the counterpoint to the preset reflectivity para illumination; on Para area reflection processing, so that the mask has a reflectivity with the same range of preset reflectivity. Through this reflection processing, different types of masking boards can not only adjust the intensity of light source or the contrast of images, but also get the same picture definition of corresponding mask, reduce manual operation and improve production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板
本专利技术涉及有机电致发光显示
，特别是涉及一种掩膜板。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示器具有自主发光、厚度薄、重量轻、响应速度快、视角广、色彩丰富以及高亮度、低功耗、耐高低温等优点，广泛应用于手机、手表、电脑、电视机等产品中。有机发光二极管的制作一般采用真空真镀技术，即在真空环境中加热有机/金属材料，材料受热升华，通过具有特殊图案的掩膜板，在基板表面形成具有一定形状的有机\金属薄膜，经历多种材料的连续沉积成膜，即可形成具有多层薄膜的OLED结构，最终形成OLED显示器。在这一过程中，需要先对掩膜板和基板进行对位以保证形成的图案符合工艺精度的要求，一般采用光照射掩膜板上的对位区，然后由真镀机台的对位系统获取对位区上的对位标记的画面清晰度以对掩膜板进行对位，在对位过程中，掩膜板对光照的反射率决定了对位标记的画面清晰度，进一步决定了对位标记的获取准确性。在生产OLED显示器的过程中，对于不同分辨率的OLED显示器需要使用不同类型的掩膜板，而在同一生产线生产不同分辨率的OLED显示器时，就需要根据OLED显示器分辨率的不同切换对应的掩膜板，进而需要对切换后的掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括对位区，所述对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位；对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括对位区，所述对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位；对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述预设反射率为在所述一定强度光照下特定材料的反射率。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述特定材料为铁镍合金。4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为单层结构的金属掩膜板，所述掩膜板包括第一图案层，所述第一图案层设有所述对位区，所述对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率包括：使用所述特定材料形成所述第一图案层，以使得所述对位区在所述光照下获得所述特定材料的反射率。5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为多层结构的金属掩膜板，所述掩膜板包括第二图案层，所述第一图案层设有所述对位区，所述对所述对位区进行反射处理，以使得所述掩膜板具有与所述预设反射率相同范围的反射率包括：在所述第二图案层上形成覆盖所述对位区的第一材料层，以使得所述对位区在所述光照下获得与所述预设反射率相同范围的反射率。6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述在所述第二图案层上形成覆盖所...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋谦，陈永胜，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42