双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法制造方法及图纸

【课题】能够在不移动和不转动工件的情况下，将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。【解决手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100；以及使第二掩膜M2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200，其中，第二掩膜台200能够在第一掩膜台100上除第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，并且,当第一掩膜台100沿xy平面移动和转动时，随第一掩膜台100一同沿xy平面移动和转动。

Alignment of mask and workpiece in double-sided lithography and double-sided lithography

[Topic] under the condition of not moving or rotating parts, the first mask and the second mask, the first mask and the second mask can be aligned with the workpiece. [means] is the first to solve the mask M1 along the XY plane while moving along the XY plane rotating the first mask table 100; and the second mask M2 along the XY plane while moving along the XY plane of the turn of the second mask 200, among them, second sets of 200 XY can mask plane rotation. Along in the first mask table 100 except the first mask table 100 along the XY plane while moving and, when the first mask table 100 along the XY plane movement and rotation, with the first mask table 100 along the XY plane moving and rotating.

【技术实现步骤摘要】
双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法
本专利技术涉及双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法。
技术介绍
以往，对作为光刻对象的工件(电路基板等)的第一面、与该第一面相反侧的第二面分别进行光刻的双面光刻装置已被广泛使用。在这样的双面光刻装置中，在将配置于工件的第一面侧的第一掩膜与配置于工件的第二面侧的第二掩膜进行对准后，再将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，需要在第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准。像这样，作为使第一掩膜与第二掩膜的位置关系保持不变来进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的对准方法，可列举的一例为：在将第一掩膜与第二掩膜进行对准后，先将第一掩膜按预先设定的量移动和转动后，使该第一掩膜与工件进行对准，接着，在根据第一掩膜的移动量或转动量来移动和转动第二掩膜，从而使该第二掩膜与工件进行对准。像这样的对准控制，也就是软件(Software)控制，其通过预先构筑用于进行对准控制的控制软件来得以实现。然而，在像这样的软件控制过程中，即使是在用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据被恰当地设定的情况下，有时也会发生第一掩膜台(Table)驱动构造的运作与第二掩膜台驱动构造的运作间产生物理性偏差的情况。因此，如果根据用于将第一掩膜与工件进行对准控制的控制数据，从而将第二掩膜与工件进行对准的话，有可能会在当初已完成对准的第一掩膜与第二掩膜之间产生位置偏移，其结果就是，第一掩膜与第二掩膜无法高精度的完成对准。另一方面，也有能够在不使用上述的软件控制，而是利用机械的运作保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变，来完成第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准的双面光刻装置被提出(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的双面光刻装置为：在将第一掩膜与第二掩膜的进行对准后，在将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，不将第一掩膜和第二掩膜分别移动和转动，而是将工件一侧在平面上进行移动和转动。通过这样，就能够在保持第一掩膜与第二掩膜的位置关系不变的情况下，将已完成对准的第一掩膜以及第二掩膜，与工件进行对准。【先行技术文献】【专利文献1】特开2013-142778号公报
技术实现思路
但是，如专利文献1中记载的双面光刻装置般，在将第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准时，使用将工件一侧进行移动的方法，但这种方法根据工件种类的不同，有时会有不理想的情况产生。例如，像长条片状的工件从输送辊推进至收卷辊，也就是在被称为卷对卷(RolltoRoll)方式的双面光刻装置中，如果要将工件一侧在平面上进行移动和转动的话，由于需要将用于将工件一侧在平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，因此工件的输送构造就会变得复杂，而且，一旦将工件一侧在平面上进行移动和转动，就有可能成为工件褶皱或扭曲的成因。这样，就存在有一旦工件产生褶皱或扭曲，就无法进行高品质的双面光刻的课题。本专利技术鉴于以上课题，以提供一种不将工件移动和转动，同时又能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准的双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法为目的。【1】本专利技术的双面光刻装置是将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动的第一掩膜台；以及使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动的第二掩膜台，其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，并且当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。像这样，本专利技术的光刻装置为第二掩膜台被载置在第一掩膜台上，能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。由于本专利技术的光刻装置是上述这样的构成，因此能够在不移动和不转动工件的情况下，能够将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。通过这样，就没有必要将用于在工件一侧的平面上进行移动和转动的构造组配进工件的输送构造中，也就不会使工件的输送构造复杂化，另外，由于不会使工件产生褶皱或扭曲，因此就能够进行高品质的双面光刻。另外，根据本专利技术的光刻装置，不但能够在第一掩膜与第二掩膜进行对准后，在第一掩膜与第二掩膜位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜以及第二掩膜与工件的对准，还能够在第一掩膜与工件进行对准后，在第一掩膜与工件位置关系保持不变的情况下，进行第一掩膜与第二掩膜的对准。【2】在本专利技术的双面光刻装置中，最好是具有：设置在所述工件的第一面侧，并且能够将所述第一掩膜自如地安装和卸下的第一掩膜安装板(Plate)；以及设置在所述工件的第二面侧，并且能够将所述第二掩膜自如地安装和卸下的第二掩膜安装板，其中，所述第一掩膜安装板通过垂直设置于所述第一掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第一掩膜台上，所述第二掩膜安装板通过垂直设置于所述第二掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第二掩膜台上。由于是上述这样的构成，因此当第一掩膜台沿xy平面移动时，第一掩膜安装板会随第一掩膜台一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第一掩膜台沿xy平面转动时，第一掩膜安装板会随第一掩膜台一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，就能够实现第一掩膜沿xy平面移动的同时沿xy平面转动。同样的，当第二掩膜台沿xy平面移动时，第二掩膜安装板会随第二掩膜台一同在xy平面上以相同方向移动相同的量，当第二掩膜台沿xy平面转动时，第二掩膜安装板会随第二掩膜台一同在xy平面上以相同方向转动相同的量。通过这样，就能够实现第二掩膜沿xy平面移动的同时沿xy平面转动。【3】在本专利技术的双面光刻装置中，可沿所述xy平面移动最好是指，可沿所述x轴移动的同时可沿所述y轴移动；可沿所述xy平面转动最好是指，能够在与所述xy平面相垂直的z轴周围转动。通过这样，由于只要将用于驱动第一掩膜台以及第二掩膜台的驱动构造设置为能够朝垂直相交的两个轴(x轴以及y轴)移动(往返移动)、以及能够在与xy平面垂直的z轴周围转动(顺时针转动以及逆时针转动)即可，因此就能够使驱动构造单纯化。【4】在本专利技术的双面光刻装置中，最好是：用于所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的掩膜对准标记(Mark)被分别设置于所述第一掩膜和所述第二掩膜上，同时，用于所述第一掩膜以及所述第二掩膜与所述工件对准的工件对准标记被分别设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上和所述工件上。通过这样，在进行第一掩膜与第二掩膜对准的同时，还能够进行第一掩膜以及所述第二掩膜与工件的对准。【5】在本专利技术的双面光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面光刻装置，将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：第一掩膜台，使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动；以及第二掩膜台，使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动，其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。

【技术特征摘要】
2016.05.26 JP 2016-1056371.一种双面光刻装置，将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：第一掩膜台，使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动；以及第二掩膜台，使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动，其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。2.根据权利要求1所述的双面光刻装置，其特征在于：其中，具有：第一掩膜安装板，被设置在所述工件的第一面侧，并且能够将所述第一掩膜自如地安装和卸下；以及第二掩膜安装板，被设置在所述工件的第二面侧，并且能够将所述第二掩膜自如地安装和卸下，所述第一掩膜安装板通过垂直设置于所述第一掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第一掩膜台上，所述第二掩膜安装板通过垂直设置于所述第二掩膜台上的支撑部件从而被固定在所述第二掩膜台上。3.根据权利要求1或2所述的双面光刻装置，其特征在于：其中，可沿所述xy平面移动是指，可沿所述x轴移动的同时可沿所述y轴移动；可沿所述xy平面转动是指，可在与所述xy平面相垂直的z轴周围转动。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的双面光刻装置，其特征在于：其中，用于所述第一掩膜与所述第二掩膜对准的掩膜对准标记，被分别设置于所述第一掩膜和所述第二掩膜上，同时，用于所述第一掩膜以及所述第二掩膜与所述工件对准的工件对准标记被分别设置于所述第一掩膜以及第二掩膜中至少一方的掩膜上和所述工件上。5.根据权利要求4所述的双面光刻装置，其特征在于，进一步包括：摄像装置，能够对所述掩膜对准标记以及工件对准标记进行摄像；以及对准控制装置，具备根据通过该摄像装置获得的摄像...

【专利技术属性】
技术研发人员：河东和彦，屋宜健勇，
申请(专利权)人：倍科有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP