用于刻蚀连续产品的设备和方法技术

本发明专利技术提供一种用于刻蚀连续产品的设备，所述连续产品包括连续的基底和生长在所述基底上的石墨烯，所述设备包括：供送装置，用于供送所述连续产品；刻蚀装置，设置在所述供送装置的下游，用于接收所述连续产品，其中所述刻蚀装置容纳有刻蚀药水，当所述连续产品穿过所述刻蚀装置时，所述刻蚀药水将所述连续基底去除。本发明专利技术还提供一种刻蚀连续产品的方法，所述连续产品包括连续的基底和生长在所述基底上的石墨烯，所述方法包括：将包括连续基底和石墨烯的所述连续产品供送通过刻蚀药水，以去除所述连续产品上的所述基底。

Equipment and methods for etching continuous products

The present invention provides a method for etching continuous product equipment, the products include continuous and continuous basal growth on the substrate of graphene, the apparatus includes a supply device for supplying the continuous product; etching device is arranged on the feeding device of the tour, for receiving the continuous product, wherein the etching device contains etching drops, when the continuous product passes through the etching device, the etching of the substrate removal will be continuous drops. The invention also provides a method for etching products, the products include continuous and continuous basal growth on the substrate of graphene, the method comprises the following steps: including continuous graphene substrate and the continuous product supply by etching in the continuous liquid products on the the substrate removal.

【技术实现步骤摘要】
用于刻蚀连续产品的设备和方法
本专利技术涉及石墨烯加工制造领域，尤其涉及一种其上生长有石墨烯的金属基底刻蚀的设备和方法。
技术介绍
在制造石墨烯薄膜的过程中，首先需要在金属基底上生长石墨烯薄膜，然后将生长有石墨烯薄膜的金属基底手动地浸入到刻蚀药水中，以将金属基底刻蚀掉，留下石墨烯薄膜。这种手动操作方式存在以下缺陷。第一点是手动操作比较频繁，上料是由人员手动套在玻纤框架上，然后再放入花篮里，再由机械手将花篮放入刻蚀药水中一定的时间，再从刻蚀药水中提出来，然后再放入水洗槽一定的时间，再从水洗槽中提出来，然后再人工手动清洗，再放入水平风干设备，再由人工取下，放置在层车上，整个过程，需要多次手动作业，也需要较多的作业人员，人员成本高；第二点是产品在刻蚀槽中刻蚀时，多片(例如20片)一起刻蚀，目前设备的药水流动是循环流动，没有设计喷管和喷嘴，药水不能均匀的流动到20片产品的铜面上面，铜箔的刻蚀和掺杂是不均匀的,随着产品的升级，对石墨烯薄膜产品阻值的均匀性会越来越高，原浸泡式的生产方式生产的产品逐渐不能满足市场的需要，而且人员手动作业造成的功能和外观的不良贡献一直很高。因此，在相关领域中存在对于能够连续作业的刻蚀设备的需求。以上内容仅是专利技术人所知晓的技术情况，并不当然代表构成本专利技术的现有技术。
技术实现思路
为解决现有技术的问题中的一个或多个，本专利技术提供一种用于刻蚀连续产品的设备，所述连续产品包括连续基底和生长在所述连续基底上的石墨烯，所述设备包括：供送装置，用于连续地供送所述连续产品；刻蚀装置，设置在所述供送装置的下游，用于接收所述连续产品，其中所述刻蚀装置容纳有刻蚀药水，当所述连续产品穿过所述刻蚀装置时，所述刻蚀装置将刻蚀药水施加到所述连续产品上以将所述连续基底去除。根据本专利技术的一个方面，所述设备还包括位于所述刻蚀装置下游的水洗装置和位于所述水洗装置下游的干燥装置。根据本专利技术的一个方面，所述设备还包括位于所述干燥装置下游的卷式收料装置。根据本专利技术的一个方面，所述供送装置是卷式放料装置，所述卷式放料装置包括放料卷轴。根据本专利技术的一个方面，所述设备还包括：设置在所述干燥装置和所述卷式收料装置之间的自动纠偏对位装置装置。根据本专利技术的一个方面，所述设备包括一个或多个传感器，用于检测所述刻蚀药水的一项或多项参数。根据本专利技术的一个方面，所述设备还包括调节装置，所述调节装置与所述一个或多个传感器耦合，根据所述一个或多个传感器的检测结果，将所述刻蚀药水的一项或多项参数调节到预设的范围。根据本专利技术的一个方面，所述参数包括电导率、电极电位、比重、酸度、双氧水浓度、铜离子浓度中的一项或多项。根据本专利技术的一个方面，所述刻蚀装置包括喷头，所述喷头构造成将所述刻蚀药水喷射到穿过所述刻蚀装置的连续产品上，以去除所述基底。根据本专利技术的一个方面，所述刻蚀装置包括温度控制装置，所述温度控制装置包括温度传感器、加热器、冰水管路和控制器，所述温度传感器检测所述刻蚀药水的温度，所述控制器与所述温度传感器、加热器耦合，并控制所述冰水管路的通断和加热器的开启，从而当所述刻蚀药水的温度低于预设阈值时，所述控制器启动所述加热器以提高所述刻蚀药水的温度，当所述刻蚀药水的温度高于所述预设阈值时，所述控制器开通所述冰水管路，以降低所述刻蚀药水的温度。根据本专利技术的一个方面，所述自动纠偏对位装置包括光电感应器和马达，所述光电感应器感应所述连续产品的边缘，所述马达与所述光电感应器耦合，并根据所述光电感应器的信号调整所述，调整卷式收料装置的位置。本专利技术还提供一种刻蚀连续产品的方法，所述连续产品包括连续的基底和生长在所述基底上的石墨烯，所述方法包括：将包括连续基底和石墨烯的所述连续产品供送通过刻蚀药水，以去除所述连续产品上的所述基底。根据本专利技术的一个方面，该方法还包括：在所述连续产品通过刻蚀药水后，对所述连续产品进行水洗和干燥。根据本专利技术的一个方面，该方法还包括：在对所述连续产品干燥之后，对所述连续产品进行卷式收料。根据本专利技术的一个方面，该方法还包括：在对所述连续产品进行干燥之后，在卷式收料之前，对所述连续产品进行边缘对位。根据本专利技术的一个方面，该方法还包括：监测所述刻蚀药水的一项或多项参数，当所述一项或多项参数超出预设的范围时，调节所述刻蚀药水的所述一项或多项参数。根据本专利技术的一个方面，该方法通过本专利技术所述的设备实施。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1示出了根据本专利技术第一实施例的刻蚀方法；图2示出了根据本专利技术第二实施例的刻蚀设备；图3是根据本专利技术一个实施例的调节装置；图4是根据本专利技术一个实施例的温度控制；和图5是根据本专利技术自动纠偏对位装置的示意图。具体实施方式在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本专利技术的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、"长度"、"宽度"、"厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"坚直"、"水平"、"顶"、"底"、"内"、"外"、"顺时针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语"第一"、"第二"仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，"多个"的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语"安装"、"相连"、"连接"应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接:可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之"上"或之"下"可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征"之上"、"上方"和"上面"包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征"之下"、"下方"和"下面"包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本专利技术的不同结构。为了简化本专利技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本专利技术。此外，本专利技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本专利技术提供了的各种特定的工艺和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于刻蚀连续产品的设备，所述连续产品包括连续基底和生长在所述连续基底上的石墨烯，所述设备包括：供送装置，用于连续地供送所述连续产品；刻蚀装置，设置在所述供送装置的下游，用于接收所述连续产品，其中所述刻蚀装置容纳有刻蚀药水，当所述连续产品穿过所述刻蚀装置时，所述刻蚀装置将刻蚀药水施加到所述连续产品上以将所述连续基底去除。

【技术特征摘要】
1.一种用于刻蚀连续产品的设备，所述连续产品包括连续基底和生长在所述连续基底上的石墨烯，所述设备包括：供送装置，用于连续地供送所述连续产品；刻蚀装置，设置在所述供送装置的下游，用于接收所述连续产品，其中所述刻蚀装置容纳有刻蚀药水，当所述连续产品穿过所述刻蚀装置时，所述刻蚀装置将刻蚀药水施加到所述连续产品上以将所述连续基底去除。2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括位于所述刻蚀装置下游的水洗装置和位于所述水洗装置下游的干燥装置。3.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述设备还包括位于所述干燥装置下游的卷式收料装置。4.如权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，所述供送装置是卷式放料装置，所述卷式放料装置包括放料卷轴。5.如权利要求3所述的设备，其特征在于，所述设备还包括：设置在所述干燥装置和所述卷式收料装置之间的自动纠偏对位装置。6.如权利要求1-5中任一项所述的设备，其特征在于，所述设备包括一个或多个传感器，用于检测所述刻蚀药水的一项或多项参数。7.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述设备还包括调节装置，所述调节装置与所述一个或多个传感器耦合，根据所述一个或多个传感器的检测结果，将所述刻蚀药水的一项或多项参数调节到预设的范围。8.如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述参数包括电导率、电极电位、比重、酸度、双氧水浓度、铜离子浓度中的一项或多项。9.如权利要求1-8中任一项所述的设备，其特征在于，所述刻蚀装置包括喷头，所述喷头构造成将所述刻蚀药水喷射到穿过所述刻蚀装置的连续产品上，以去除所述基底。10.如权利要求1-9中任一项所述的设备，其特征在于，所述刻蚀装置包括温度控制装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张洪涛，李涛，谭化兵，
申请(专利权)人：无锡格菲电子薄膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32