一种真空蚀刻机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种真空蚀刻机，包括机体，机体内设有均由若干个转动轴组成的上、下两个输送系统，所述机体外设有真空吸管工作泵浦，真空吸管工作泵浦的出口端连接由三个文氏管组成的三通管的主管的一端，三通管的主管的另一端接入主槽内，三通管的支管连接有气动阀，气动阀的末端连接有连接管，连接管的末端连接有真空吸管，真空吸管位于上输送系统的相邻的两个转动轴之间，真空吸管的两端分别通过活动式固定座固定在相邻的两个转动轴上。本实用新型专利技术的有益效果为：相对传统蚀刻机，具有蚀刻速度快，蚀刻线条均匀，药水利用率高。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Vacuum etching machine

The utility model relates to a vacuum etching machine, which comprises a machine body is provided with a conveying system are composed of a plurality of rotating shaft of the upper and lower two, the body is provided with vacuum pump vacuum Straw Straw work, the work of the pump outlet end of the connection consists of three venturi tube is in charge of three three, the other end is connected to main channel pipe charge within three pipe branch pipe is connected with a pneumatic valve, pneumatic valve end connected with the vacuum tube, Straw connected with the end of the connecting tube, between adjacent Straw vacuum conveying system is located on the two ends of the rotating shaft, respectively by vacuum Straw movable type fixing seat fixed on the adjacent two axis of rotation. The utility model has the advantages that compared with the traditional etching machine, the utility model has the advantages of fast etching speed, uniform etching lines and high utilization rate of the liquid medicine.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电路板加工领域，尤其涉及一种真空蚀刻机。
技术介绍
随着工业的发展，印制电路板向多层化、密集化、柔性化方向发展，线条越来越细，对蚀刻工业要求越来越高，以及蚀刻废液对生态环境产生严重影响，迫使人们不断开发新的蚀刻技术，以提高蚀刻工艺，提高药水利用率，减少多环境影响。传统蚀刻机，具有蚀刻速度慢、蚀刻线条不均匀、药水利用率低等问题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种真空蚀刻机，以克服目前现有技术存在的上述不足。本技术的目的是通过以下技术方案来实现：一种真空蚀刻机，包括机体，所述机体内设有均由若干个转动轴组成的上、下两个输送系统，所述机体外设有真空吸管工作泵浦，真空吸管工作泵浦的出口端连接由三个文氏管组成的三通管的主管的一端，所述三通管的主管的另一端接入主槽内，所述三通管的支管连接有气动阀，气动阀的末端连接有连接管，连接管的末端连接有真空吸管，真空吸管位于上输送系统的相邻的两个转动轴之间，所述真空吸管的两端分别通过活动式固定座固定在相邻的两个转动轴上。进一步的，所述真空吸管朝向下面的输送系统的一侧开设有若干个孔。进一步的，所述连接管包括与气动阀的末端连接的透明管和与真空吸管中部连接的软管。进一步的，所述真空吸管左侧设有槽体结构。本技术的有益效果为：相对传统蚀刻机，具有蚀刻速度快，蚀刻线条均匀，药水利用率高。附图说明下面根据附图对本技术作进一步详细说明。图1是本技术实施例所述的真空蚀刻机的主视图；图2是本技术实施例所述的真空蚀刻机的侧视图。图中：1、输送系统；2、真空吸管工作泵浦；3、文氏管；4、气动阀；5、真空吸管；6、活动式固定座；7、透明管；8、软管；9、槽体结构；10、喷淋泵浦；11、主槽；12、上主喷淋管；13、上喷淋管；14、喷淋嘴；15、输送轮片。具体实施方式如图1-2所示，本技术实施例所述的一种真空蚀刻机，包括机体，所述机体内设有均由若干个转动轴组成的上、下两个输送系统1，所述机体外设有真空吸管工作泵浦2，真空吸管工作泵浦2的出口端连接由三个文氏管3组成的三通管的主管的一端，所述三通管的主管的另一端接入主槽11内，所述三通管的支管连接有气动阀4，气动阀4的末端连接有连接管，连接管的末端连接有真空吸管5，真空吸管5位于上输送系统1的相邻的两个转动轴之间，所述真空吸管5的两端分别通过活动式固定座6固定在相邻的两个转动轴上；所述真空吸管5朝向下面的输送系统1的一侧开设有若干个孔；所述连接管包括与气动阀4的末端连接的透明管7和与真空吸管5中部连接的软管8；所述真空吸管5左侧设有槽体结构9。具体使用时，喷淋泵浦10抽取主槽11内的药液，通过上主喷淋管12和上喷淋管13将药液喷淋到基板表面，真空吸管工作泵浦2抽取主槽11内的药液通过文氏管3内的液体流速差在真空吸管5内产生负压，真空吸管5吸取基板表面的药液，通过透明管7和气动阀回到靠近主槽侧的文氏管3，从这个文氏管3的出口回到蚀刻主槽11内。本蚀刻机真空蚀刻结构主要包括：输送系統1、喷淋嘴14、活动式固定座6、真空吸管5、气动阀4、真空吸管的连接管、槽体结构9和真空吸管安装（真空吸管5、气动阀4、真空吸管的连接管、槽体结构和真空吸管安装,构成完整管路及完整工作体系）。该结构主要特点：利用流速差使真空吸管产生负压，达到吸引印制电路板上反应后药水及其反应后沉淀物，减少水池效应，提高印制电路板和药水反应速度，确保蚀刻线条均匀，减小印制电路板侧蝕效应，提高药水利用率。气动阀4：控制调节真空吸管效率；输送轮片15：确保印制电路板机体内匀速运动；喷淋嘴14：上下均采用近接式喷嘴上下喷嘴数量一致，采用交错排列，确保药水喷淋范围及确保印制电路板上下压力一致，避免上下压力不平衡导致印制电路板出现折痕，在上喷嘴下放为减少轮片对药水阻挡取消上输送轮，反正在下喷嘴存在地方采用同样方式；真空吸管6：采用钛管制成，具有强度高不易变形特点，利用文氏管原理产生流速差形成负压，达到吸收印制电路板反应后药水及沉淀物作用，增加反应速度减少水池效应，通过气动阀4（电磁阀）控制真空吸管开和关，达到调节、控制真空吸管流量；活动固定座6：将真空吸管通过活动座子固定在上输送枝上，此目的为确保无论印制电路板厚度多少均保持真空吸管距离印制电路板板值为定值，固定座子和输送枝之间采用卡式链接，方便安装维护；真空吸管的连接管：完成连接结构确保正常工作，维护便利；槽体结构和真空吸管安装：确保机体外观美观，槽内药水均匀分布。整体布局，真空管均匀排列在上下喷嘴之间，真空吸管均在输送板上方，真空管吸中间部位采用软管链接，减小真空管抖动，确保真空吸管随着印制电路厚度做出相应调整，吸管分布在槽体后面，均采用4分吸管和1.5寸出口，通过泵浦工作既可以达到吸水目的，确保药水槽内药水分布均匀，因此管路注意分布在机台后面。真空蚀刻机构蚀刻均匀性可以达到且大于95%，蚀刻均匀性较好，普通蚀刻机构蚀刻均匀性只可以达到90%--92%，均匀性较差；真空蚀刻机构蚀刻因子可以达到且大于4.5，线边垂直度较好，普通蚀刻机构蚀刻均匀性只可以达到2.0-3.0，线边垂直度较差；真空蚀刻机构制程能力生产最小线宽可以达到35um，比较精细，适合生产高精细线路；普通蚀刻机构制程能力生产最小线宽只可以达到75um，不适合生产高精细线路；真空蚀刻机构水池效应较小或无，适合生产高精细线路；普通蚀刻机构水池效应较严重，不适合生产高精细线路。本技术不局限于上述最佳实施方式，任何人在本技术的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空蚀刻机，包括机体，所述机体内设有均由若干个转动轴组成的上、下两个输送系统（1），其特征在于：所述机体外设有真空吸管工作泵浦（2），真空吸管工作泵浦（2）的出口端连接由三个文氏管（3）组成的三通管的主管的一端，所述三通管的主管的另一端接入主槽（11）内，所述三通管的支管连接有气动阀（4），气动阀（4）的末端连接有连接管，所述连接管的末端连接有真空吸管（5），真空吸管（5）位于上输送系统（1）的相邻的两个转动轴之间，所述真空吸管（5）的两端分别通过活动式固定座（6）固定在相邻的两个转动轴上。

【技术特征摘要】
1.一种真空蚀刻机，包括机体，所述机体内设有均由若干个转动轴组成的上、下两个输送系统（1），其特征在于：所述机体外设有真空吸管工作泵浦（2），真空吸管工作泵浦（2）的出口端连接由三个文氏管（3）组成的三通管的主管的一端，所述三通管的主管的另一端接入主槽（11）内，所述三通管的支管连接有气动阀（4），气动阀（4）的末端连接有连接管，所述连接管的末端连接有真空吸管（5），真空吸管（5）位于上输送系统（1）的相邻的两个转动轴之间，所述真空吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭立德，
申请(专利权)人：郭立德，
类型：新型
国别省市：广东;44