The utility model discloses a device for backside deep reactive ion etching includes: the device has a first groove, wherein the front of the first trench in the device; the back side of the back device is used for deep reactive ion etching process; the first is corresponding to the shape of the grooves and on the back of the shape, the shape of the back is according to the shape of MEMS structure design requirements for backside deep reactive ion etching on the back surface of the device. The utility model can not consider the factors and the thickness of the wafer etching equipment, design of structure size and density, effectively reduce the mechanical structure difference of MEMS device is formed in the back of a deep reactive ion etching after, improve device stability, consistency and produce element performance predictability, eventually increase capacity.
【技术实现步骤摘要】
一种用于背面深反应离子蚀刻的器件
本技术涉及微机电
,特别涉及一种用于背面深反应离子蚀刻的器件。
技术介绍
目前概括来说可以通过三种手段实现MEMS(Micro-Electro-MechanicalSystem,微机电系统)中的悬浮结构。第一种:图1(a)、图1(b)为粘合技术实现示意图,其中,图1(a)为晶片粘合后获得的结构示意图,图1(b)为定义微机电系统元件后获得的结构示意图,如图所示,先进行第一步处理:晶片粘合获得(a)中示意的结构;然后进行第二步处理:定义微机电系统元件获得(b)中示意的结构。粘合技术是通过晶片之间的粘合技术来实现。通过这种技术所实现的微机电悬浮结构往往受制于尺寸(一般结构长、宽小于400微米)和薄膜厚度(一般大于4微米)的要求,并且相邻结构之间的间距和晶片表面光滑度等要求也对能否成功粘合起至关重要的作用。所以这种微加工技术的应用领域受限,其成本也相对较高。第二种:图2(a)、图2(b)为湿法蚀刻技术实现示意图,其中,图2(a)为正面定义微结构后获得的结构示意图,图2(b)为背面湿法蚀刻后获得的结构示意图;如图所示,先进行第一步处理:正面定义微结构获得(a)中示意的结构;然后进行第二步处理:背面湿法蚀刻获得(b)中示意的结构。湿法蚀刻技术可以通过湿法蚀刻的技术来实现正面悬浮微机电结构。此技术是的出发点是基于针对不同晶格方向上的硅材料有不同的腐蚀速度,例如,利用氢氧化钾沿<111>硅晶格方向上进行湿法蚀刻。由于在该技术中固定的方向性和所产生的蚀刻角度,结构背面的开口面积远大于结构实际面积,从而大大降低了实际设计时的 ...
【技术保护点】
一种用于背面深反应离子蚀刻的器件,其特征在于,所述器件具有第一沟槽,其中:所述第一沟槽位于所述器件的正面;所述器件的背面是用于进行背面深反应离子蚀刻工艺的一面;所述第一沟槽的形状是与背面的形状相对应的,所述背面的形状是根据微机电结构设计要求在所述器件背面进行背面深反应离子蚀刻的形状。
【技术特征摘要】
1.一种用于背面深反应离子蚀刻的器件,其特征在于,所述器件具有第一沟槽,其中:所述第一沟槽位于所述器件的正面;所述器件的背面是用于进行背面深反应离子蚀刻工艺的一面;所述第一沟槽的形状是与背面的形状相对应的,所述背面的形状是根据微机电结构设计要求在所述器件背面进行背面深反应离子蚀刻的形状。2.如权利要求1所述的器件,其特征在于,所述器件进一步具有第二沟槽,所述第二沟槽的形状是根据第一沟槽的形状确定的、用于实现锚功能的沟槽。3.如权利要求2所述的器件,其特征在于,所述锚功能是用于支撑和/或固定所述蚀刻出的第一沟槽的。4.如权利要求2所述的器件,其特征在于,所述实现锚功能的第二沟槽是拖尾结构向外围延伸后的沟槽。5.如...
【专利技术属性】
技术研发人员:王韬,
申请(专利权)人:深圳市诺维创科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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