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本实用新型公开了一种用于背面深反应离子蚀刻的器件，包括：所述器件具有第一沟槽，其中：所述第一沟槽位于所述器件的正面；所述器件的背面是用于进行背面深反应离子蚀刻工艺的一面；所述第一沟槽的形状是与背面的形状相对应的，所述背面的形状是根据微机电结...
该专利属于深圳市诺维创科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市诺维创科技有限公司授权不得商用。

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