Etching process for the production of LCD, which includes the following steps: 1) preparation, surface 14 x 14 ITO glass with cleaning agent and DI water clean and dry; 2) coating, uniform in ITO glass ITO on the surface coated with a layer of photoresist; 3) before baking, which is coated with the photoresist ITO glass in 80 120 degrees Celsius environment bake for 30 to 60 seconds; 4) exposure in the film after drying the surface covered by the template template, ultraviolet irradiation in the vertical film, the template is provided with a preset pattern; and the template is arranged at the bottom of a layer colorless and transparent film; the invention before the exposure settings before baking the resist drying and curing, so that at the time of exposure template contact photoresist, photoresist won't stick on the template, this template can be close to the photoresist is infinite, the maximum range The degree of exposure is guaranteed by the accuracy of the exposure position.
【技术实现步骤摘要】
一种LCD生产的蚀刻工艺
本专利技术涉及一种LCD生产工艺,尤其涉及一种LCD生产的蚀刻工艺。
技术介绍
众所周知,物质有三态:固态、液态和气态。这三种状态可称为固相、液相和气相。在自然界中大多数的物质随着温度的变化而呈现固态、液态和气态。然而有限物质在加热时不是直接从固态变成液态,而是一种中间态,我们称之为液晶。液晶具有固定的偶极矩,所以施加电场可使液晶分子轴发生转动,于是液晶分子的排列发生改变。从而改变其光学性质来达到其显示的效果,我们利用这一特性制成了液晶显示器,然而在传统的液晶显示器制作工艺中在曝光的时候由于模板很容易接触光刻胶,使得模板上粘附有杂质,使得曝光不完全从而影响后续的刻蚀导致液晶显示器发生短路等现象。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种为解决上述技术问题,本专利技术提出的技术方案为:一种LCD生产的刻蚀工艺,包括以下步骤,1)备料,将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净,并且烘干;2)涂胶,在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶;3)前烘烤,使涂有光刻胶的ITO玻璃在80-120摄氏的的环境下烘烤30-60秒,使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性;4)曝光,在干燥后的胶膜的表面覆盖模板,紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上,所述模板上设置有预设的图案;并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜;在无色薄膜的保护下模板不会直接刺穿光刻胶层,这样就避免蚀刻后ITO玻璃发生短路的现象。5)显影,将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感 ...
【技术保护点】
一种LCD生产的刻蚀工艺,其特征在于:包括以下步骤,1)备料,将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净,并且烘干;2)涂胶,在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶;3)前烘烤,使涂有光刻胶的ITO玻璃在80‑120摄氏的的环境下烘烤30‑60秒,使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性;4)曝光,在干燥后的胶膜的表面覆盖模板,紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上,所述模板上设置有预设的图案;并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜;5)显影,将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解,未感光的部分被留下来,并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净;显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案;所述显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液;6)坚膜,将显影后的ITO玻璃放入温度为250‑350摄氏的烤箱内,时间为30‑150分钟;7)刻蚀,将坚膜后的ITO玻璃放入酸液中,将ITO玻璃上光刻胶未覆盖的ITO膜去掉,刻胶覆盖的ITO被保护下来;所述酸液的HCL:HNO
【技术特征摘要】
1.一种LCD生产的刻蚀工艺,其特征在于:包括以下步骤,1)备料,将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净,并且烘干;2)涂胶,在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶;3)前烘烤,使涂有光刻胶的ITO玻璃在80-120摄氏的的环境下烘烤30-60秒,使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性;4)曝光,在干燥后的胶膜的表面覆盖模板,紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上,所述模板上设置有预设的图案;并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜;5)显影,将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解,未感光的部分被留下来,并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净;显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案;所述显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液;6)坚膜,将显影后...
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