The invention discloses a substrate baking device, including the top opening of the heating chamber and the cover is arranged in the heating chamber is arranged on the top of the cover plate, the heater and the heating chamber is arranged on the heater at the top of the hot plate, the inner surface of the cover plate is detachably fixed with the middle cover plate is provided with the hot plate the. The invention is provided with a cover plate on the base plate through the middle of the inner surface of the baking device, heating the substrate after evaporation induced resist condensation on the surface of the cover can not be condensed, when the light resistance of condensate to a certain extent need to clean, only need to remove the middle cover for cleaning or replacement, fast and convenient.
【技术实现步骤摘要】
基板烘烤装置
本专利技术涉及基板加工
,尤其涉及一种基板烘烤装置。
技术介绍
彩色滤色片的制程中,各产线上的玻璃基板经涂布机涂布光阻后需要进行烘烤,其主要目的就是将经过涂布后的光阻,通过与热板接触加热的方式,将光阻内经VCD(真空干燥)抽气后仍残留的部分溶剂去除,进一步将涂布的膜层固化至接近湿膜状态,并增加光阻与基板的附着力。热板加热产生的光阻溶剂会挥发后附着在烘烤装置腔体的盖板内表面,产线上搬运的基板越多,越多的光阻溶剂挥发从而会在盖板表面形成凝结物;盖板表面凝结物越多,基板存在的返工或者报废的风险就越大。因此,容易导致基板不良率增加,影响生产品质。彩色滤色片制程中的光阻成分主要是光阻材料和溶剂等,溶剂很难找到替代品,而光阻材料技术已相对稳定,因此光阻材料改善空间也较小。通常有两种改善方法:(1)保养烘烤装置,需使用10%的KOH溶剂及超细百级无尘布,然而,由于原厂盖板不可拆卸,人员也需高空作业比较危险,光阻凝结物附着在原厂盖板后,清洁过程耗时太久,并且清洁效果不佳;(2)直接更换原厂盖板,容易损伤腔体,而且成本较高,耗时也较久。随着市场的需求日益增加,产线的产能要求越来越高,因此维护时间及周期也非常重要。以上两种方案,要么很难对烘烤装置盖板上的光阻凝结物进行有效的清洁,导致产品缺陷过多,影响制品异常;要么容易损伤烘烤装置腔体,更换难度大,耗时更久。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的不足,本专利技术提供了一种光阻凝结物清洁效果佳、基板良率高的基板烘烤装置,而且光阻凝结物清洁迅速且彻底。为了实现上述的目的,本专利技术采用了如下的技术方案:一种基板烘烤装置 ...
【技术保护点】
一种基板烘烤装置,其特征在于,包括顶面开口的加热室(10)、盖设于所述加热室(10)顶部的盖板(20)、设于所述加热室(10)内的加热器(30)以及设于所述加热器(30)上方的热板(40),所述盖板(20)内表面可拆卸地固定有与所述热板(40)间隔设置的中间盖板(50)。
【技术特征摘要】
1.一种基板烘烤装置,其特征在于,包括顶面开口的加热室(10)、盖设于所述加热室(10)顶部的盖板(20)、设于所述加热室(10)内的加热器(30)以及设于所述加热器(30)上方的热板(40),所述盖板(20)内表面可拆卸地固定有与所述热板(40)间隔设置的中间盖板(50)。2.根据权利要求1所述的基板烘烤装置,其特征在于,所述中间盖板(50)为不锈钢。3.根据权利要求1所述的基板烘烤装置,其特征在于,所述加热器(30)包括中间的中部加热器(31)和两侧的侧加热器(32)。4.根据权利要求1所述的基板烘烤装置,其特征在于,所述加热室(10)侧壁开设有至少一对对流孔(100)。5.根据权利要求4所述的基板烘烤装置,其特征在于,至少一个所述对流孔(100)连接有抽气扇(101)。6...
【专利技术属性】
技术研发人员:王文杰,王丽,黄书同,王浩,徐陈林,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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