包含可光固化基团的低粘度脲基甲酸酯制造技术

技术编号:1654906 阅读:198 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种用于制备包含脲基甲酸酯基团的辐射固化粘合剂的方法,该方法是在≤130℃的温度和在D组分的存在下,使以下组分A与组分B和任选的组分C反应,通过脲二酮开环形成脲基甲酸酯基团:A)一种或多种包含脲二酮基团的化合物,B)一种或多种羟基官能化合物,该化合物包含暴露于光辐射下时可与烯键式不饱和化合物发生聚合反应的基团,C)除B)之外的异氰酸酯活性化合物,D)包含至少一种锌化合物的催化剂,本发明专利技术还涉及由本发明专利技术的方法制得的粘合剂和包含这些粘合剂的涂料组合物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及醇和聚异氰酸酯的低粘度反应产物、其制备方法及其在涂料组合物中的应用,所述醇包含活性基团,该活性基团可在暴露于光辐射时与烯键式不饱和化合物发生聚合反应。
技术介绍
带有活性双键的涂料体系在如紫外光、红外辐射或电子束之类的光辐射下固化为工业上已知并且已经实现。这是涂料技术中最快的固化方法之一。因此基于该原理的涂料组合物称为辐射或光固化或可固化体系。因为对现代涂料体系提出的环境和经济要求,即应尽量少用或不用有机溶剂来调节粘度,所以希望使用已经是低粘度的涂料原料。欧洲专利EP-A0682012中描述的包含脲基甲酸酯基团的聚异氰酸酯是已知的符合此要求的涂料原料。在工业上,通过单羟基或多羟基醇与过量的脂族和/或脂环族二异氰酸酯的反应制备这些物质(参见GB-A 994890、EP-A 0000194或EP-A 0712840)。随后通过减压蒸馏除去未反应的二异氰酸酯。依据DE-A 19860041),该方法也可以在含有活性双键的羟基官能化合物-如丙烯酸羟烷基酯-上使用,尽管在涉及制备单体含量特别低(low monomer)的产物时会出现困难。因为蒸馏必须在高达135℃的温度下进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包含脲基甲酸酯基团的辐射固化粘合剂的制备方法,该方法包括在≤130℃的温度和在D组分的存在下,使以下组分A与组分B和任选的组分C反应,通过脲二酮开环形成脲基甲酸酯基团:    A)一种或多种包含脲二酮基团的化合物,    B)一种或多种羟基官能化合物,该化合物中包含暴露于光辐射下时可与烯键式不饱和化合物发生聚合反应的官能团,    C)除B)之外的异氰酸酯活性化合物,    D)包含至少一种锌化合物的催化剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:J魏卡德C德特姆布勒D格雷斯塔弗朗斯F里齐特W菲希尔J施米茨H蒙德斯托克
申请(专利权)人:拜尔材料科学股份公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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