显示基板的制备方法、显示基板母板技术

技术编号:16218374 阅读:143 留言:0更新日期:2017-09-16 00:47
一种显示基板的制备方法、显示基板母板。该显示基板的制备方法包括:提供衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;在所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上形成磁性层;以及在所述第一主表面上沉积元件层。在蒸镀工艺过程中,磁性层可以缓解或消除衬底基板下垂的问题,提高产品的蒸镀良率。

A display substrate preparation method, display substrate motherboard

A display substrate preparation method, display substrate motherboard. The preparation method comprises providing a substrate including a substrate, a first and second main surfaces opposite to each other, the substrate is divided into effective area and located around the active area of the dummy region; forming a magnetic layer on the second main surface and the dummy area of the first at least one of the main surface; and on the first main surface element layer deposition. In the process of evaporation, the magnetic layer can alleviate or eliminate the sagging of the substrate substrate, and improve the yield of the product.

【技术实现步骤摘要】
显示基板的制备方法、显示基板母板
本公开至少一个实施例涉及一种显示基板的制备方法、显示基板母板。
技术介绍
当前用户对显示产品的需求越来越高,显示屏的尺寸也随之增大。但是显示屏中的显示基板在制备过程中会使用蒸镀工艺,大尺寸的显示基板会产生下垂问题,从而影响蒸镀工艺的精度,影响产品的显示良率。公开内容本公开提供了一种显示基板的制备方法、显示基板母板以解决上述技术问题。本公开至少一个实施例提供一种显示基板的制备方法,包括:提供衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;在所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上形成磁性层;以及在所述第一主表面上沉积元件层。例如,在本公开至少一个实施例提供的制备方法中,在所述第一主表面上沉积元件层包括:将形成所述磁性层的衬底基板放入蒸镀设备,所述蒸镀设备包括蒸发源和磁吸附层;对所述第一主表面进行蒸镀以沉积所述元件层;其中,所述衬底基板位于所述蒸发源和所述磁吸附层之间,所述磁吸附层位于所述衬底基板的所述第二主表面的一侧。例如,本公开至少一个实施例提供的制备方法还可以包括:在进行蒸镀之本文档来自技高网...
显示基板的制备方法、显示基板母板

【技术保护点】
一种显示基板的制备方法,包括:提供衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;在所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上形成磁性层;以及在所述第一主表面上沉积元件层。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法,包括:提供衬底基板,包括彼此相对的第一主表面和第二主表面,所述衬底基板被划分为有效区和位于所述有效区域周围的虚设区;在所述第二主表面和所述虚设区内的所述第一主表面至少之一上形成磁性层;以及在所述第一主表面上沉积元件层。2.根据权利要求1所述的制备方法,其中,在所述第一主表面上沉积元件层包括:将形成所述磁性层的衬底基板放入蒸镀设备,所述蒸镀设备包括蒸发源和磁吸附层;对所述第一主表面进行蒸镀以沉积所述元件层;其中,所述衬底基板位于所述蒸发源和所述磁吸附层之间,所述磁吸附层位于所述衬底基板的所述第二主表面的一侧。3.根据权利要求2所述的制备方法,还包括:在进行蒸镀之前,在所述衬底基板的第一主表面的一侧安装掩模板。4.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述元件层包括发光器件的阳极、阴极以及位于所述阳极和所述阴极之间的有机层至少之一。5.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述元件层至少形成在所述有效区。6.根据权利要求2所述的制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨忠英吴建鹏
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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