阵列基板及制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板及制造方法、显示装置，方法包括：在衬底基板上依次制备一层叠结构及阳极层；在层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层；在容置腔内制备有机发光器件；在有机发光器件及光阻层上制备反射阴极层。通过上述方式，本发明专利技术能够避免由反射阴极层引起的漏光现象，提升面板显示品质。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种像阵列基板及制造方法、显示装置。
技术介绍
传统的底发射有源矩阵有机发光二极体(Active-matrixorganiclightemittingdiode，AMOLED)彩色化方法通常是通过有机发光二极管(WOLED，WhiteOrganicLightEmittingDiode)和彩色滤光层(CF，ColorFilter)叠加来实现，或者是通过RGB的方式来实现。其中，由于底发射阴极材料整面蒸镀，且反射率极高，传统的像素设计都会受到阴极反射的影响而产生不同程度的漏光现象，降低了面板的显示品质。
技术实现思路
本专利技术提供一种像阵列基板及制造方法、显示装置，能够避免由反射阴极层引起的漏光现象，提升面板显示品质。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一种技术方案是：提供一种阵列基板的制造方法，所述方法包括：在衬底基板上依次制备一层叠结构及阳极层；在所述层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层；在所述容置腔内制备有机发光器件；在所述有机发光器件及所述光阻层上制备反射阴极层。为解决上述技术问题，本专利技术采用的另本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上依次制备一层叠结构及阳极层；在所述层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层；在所述容置腔内制备有机发光器件；在所述有机发光器件及所述光阻层上制备反射阴极层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上依次制备一层叠结构及阳极层；在所述层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层；在所述容置腔内制备有机发光器件；在所述有机发光器件及所述光阻层上制备反射阴极层。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层包括：在所述层叠结构及阳极层上制备具有所述容置腔及凹陷结构的像素定义层；在所述像素定义层上制备支撑层，其中所述支撑层不覆盖所述容置腔及凹陷结构。3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述在所述层叠结构及阳极层上制备具有所述容置腔及凹陷结构的像素定义层包括：在所述层叠结构及阳极层上沉积像素定义层；对所述像素定义层进行图形化处理以形成所述容置腔及凹陷结构；所述在所述像素定义层上制备支撑层包括：在所述像素定义层上沉积支撑层；对所述支撑层进行图形化处理以至少暴露所述容置腔及凹陷结构。4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述层叠结构及阳极层上制备具有容置腔及凹陷结构的光阻层包括：在所述层叠结构及阳极层上制备具有所述容置腔的像素定义层；在所述像素定义层上制备具有所述凹陷结构的支撑层，其中所述支撑层不覆盖...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩佰祥，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44