一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的蒸镀坩埚在蒸镀材料气化蒸发使得内部扩散空间增大进而导致蒸发速率下降而影响蒸镀效果的问题。包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在蒸镀坩埚内，活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，带动活动台在蒸镀坩埚内沿垂直于底板的方向移动。其中，在蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。

Evaporation source, evaporation device and evaporation method

The embodiment of the invention provides a vapor deposition source, device and method for deposition, relates to the vacuum evaporation field, can solve the existing evaporation crucible in evaporation gasification and evaporation materials make the internal diffusion space increases resulting in evaporation rate decreased and the effect of evaporation effect problem. Including: evaporation crucible; activities of Taiwan, set in the evaporation crucible, the moving platform at least comprises a bottom plate, used for placing the deposition material, activity table and evaporation crucible side and the upper surface formed by the evaporation cavity; the moving mechanism, driving the Taiwan in evaporation along the direction perpendicular to the bottom of the crucible to move. Wherein, the upper surface of the evaporating crucible is provided with the outlet of the evaporating material.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法
本专利技术涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法。
技术介绍
真空蒸发镀膜是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，以形成镀层的工艺。待成膜物质在蒸镀坩埚内部加热蒸发或升华后，上升并通过蒸镀坩埚上方的蒸镀出口发出，待蒸镀基板静止固定于蒸镀出口位置处或匀速通过蒸镀出口，蒸发出的待成膜物质离开蒸镀坩埚的加热后逐渐降温，蒸发运动的速度也逐渐降低，最终在待蒸镀基板的表面沉积形成膜层。对于有机显示器件，例如有机电致发光显示器件(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)，其多层的有机薄膜叠层通常就是使用上述真空蒸发镀膜的方式进行蒸镀成膜的。待成膜的蒸镀材料的气化蒸发速率与蒸镀坩埚内部的加热温度成正比例关系，蒸镀坩埚内部的加热温度越高，热量传递的速度越快，则蒸镀材料气化蒸发的速率越高。在蒸镀坩埚内部的蒸镀材料开始气化蒸发后，固体状态的蒸镀材料逐渐减少，使得蒸镀坩埚的内部空间增大，蒸镀坩埚内部的蒸汽压会随着蒸镀坩埚内部的扩散空间的增大而降低，从而使得蒸镀材料气化蒸发的速率下降。为了使蒸镀材料的气化蒸发始终保持固定的速率，就需要随着蒸镀材料的蒸发时间而不断的提高蒸镀坩埚内部的加热温度。但是，对于有机蒸镀材料来说，加热温度过高，会增加材料分解变质的几率，待成膜的有机蒸镀材料一旦分解变质，变质的材料蒸发后在待蒸镀基板上形成的膜层通常难以达到预期的光电特性，甚至可能导致无法在待蒸镀基板上沉积成膜，使得整个OLED器件失效。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，能够解决现有的蒸镀坩埚在蒸镀材料气化蒸发使得内部扩散空间增大进而导致蒸发速率下降而影响蒸镀效果的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种蒸镀源，包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在蒸镀坩埚内，活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，与活动台相连接，并可带动活动台在蒸镀坩埚内沿垂直于底板的方向移动。其中，在蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。进一步的，移动机构包括伸缩部件，伸缩部件的伸缩端与活动台相连接、固定端与蒸镀坩埚相连接。优选的，移动机构包括弹性元件，弹性元件的一端与活动台相连接、另一端与蒸镀坩埚相连接。优选的，移动机构与蒸镀坩埚相连接的一端，连接在蒸镀坩埚的上表面或下表面。进一步的，活动台的周边还包括有与底板固定连接的侧板，其中，侧板包括有多个时，相邻的两个侧板之间相互连接。优选的，活动台的材料包括磁性材料。优选的，移动机构包括吸磁部件，吸磁部件设置在蒸镀坩埚外部，通过磁力移动活动台。优选的，吸磁部件包括电磁铁或者永磁体。本专利技术实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括至少一个上述的蒸镀源。本专利技术实施例的再一方面，提供一种蒸镀方法，包括，加热蒸镀源的蒸镀坩埚，使蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化。移动机构带动活动台在蒸镀坩埚内沿垂直于底板的方向移动，以调节活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面共同形成的蒸发空腔的空间大小。本专利技术实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在蒸镀坩埚内，活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，带动活动台在蒸镀坩埚内沿垂直于底板的方向移动。其中，在蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。通过在蒸镀坩埚内设置可由移动机构控制沿垂直于底板的方向移动的活动台，活动台与蒸镀坩埚的侧面以及上表面之间包围形成蒸发空腔，放置在活动台底板上的蒸镀材料在蒸镀坩埚加热向上蒸发的过程中，蒸发为气态的蒸镀材料在蒸发空腔内达到一定的蒸汽压并由蒸镀材料出口向外蒸出。通过移动机构能够带动活动台向上移动以减小蒸发空腔的空间，对蒸镀材料蒸发减少导致的蒸发空腔的空间增大进行补偿，保证蒸镀材料的蒸发空腔空间大小不变，从而提高蒸镀材料沉积速率的稳定性，避免通过对蒸镀坩埚的持续升温来保持蒸发空腔内的蒸汽压时，过高的加热温度可能导致蒸镀材料分解变质的问题，提高了蒸镀膜层的蒸镀效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中移动机构包括伸缩部件的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中移动机构包括弹性元件的结构示意图之一；图4为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中移动机构包括弹性元件的结构示意图之二；图5为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中活动台的周边还包括有与底板连接的侧板的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中移动机构包括吸磁部件的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源中吸磁部件为电磁铁或永磁体的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种蒸镀方法的流程图。附图标记：01-蒸镀源；10-蒸镀坩埚；20-活动台；21-底板；22-侧板；30-蒸镀材料；40-移动机构；41-伸缩部件；411-伸缩部件的伸缩端；412-伸缩部件的固定端；42-弹性元件；43-吸磁部件；X-蒸发空腔；a-蒸镀材料出口。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种蒸镀源，如图1所示，包括：蒸镀坩埚10；活动台20，设置在蒸镀坩埚10内，活动台20至少包括底板21，用于放置蒸镀材料30，活动台20与蒸镀坩埚10的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔X；移动机构40，与活动台20相连接，并可带动活动台20在蒸镀坩埚10内沿垂直于底板21的方向移动。其中，在蒸镀坩埚10的上表面设置有蒸镀材料出口a。需要说明的是，第一，如图1所示，活动台20至少包括有底板21，在底板21上放置蒸镀材料30，当活动台20仅包括底板21时，如图1中的虚线框所示，底板21以及蒸镀坩埚10的侧面和上表面共同包围的区域形成蒸发空腔X。对蒸镀坩埚10进行加热后，受热的蒸镀材料30升华蒸发为气态，气态的蒸镀材料30即在蒸发空腔X的内部进行扩散。在气态蒸镀材料30不断升华蒸发的过程中，底板21上的蒸镀材料30逐渐减少，这样一来，在活动台20位置固定的情况下，蒸发空腔X内的蒸镀材料30的扩散空间即逐渐增大，在逐渐增大的扩散空间内，保持固定的加热温度的蒸镀坩埚10内的蒸镀材料30的蒸汽压以及蒸发速度就会逐渐下降，在此情况下，通过移动活动台20能够改变蒸发空腔X的空间大小，也就能够依照蒸镀材料30的减少速度对应控制活动台20的移动，以实现始终保持蒸发空腔X的空间大小不变以保持蒸镀源的蒸发速率稳定的目的。第二，本专利技术实施例的蒸镀源对于活动台2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀源，其特征在于，包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在所述蒸镀坩埚内，所述活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，所述活动台与所述蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，与所述活动台相连接，并可带动所述活动台在所述蒸镀坩埚内沿垂直于所述底板的方向移动；其中，在所述蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀源，其特征在于，包括：蒸镀坩埚；活动台，设置在所述蒸镀坩埚内，所述活动台至少包括底板，用于放置蒸镀材料，所述活动台与所述蒸镀坩埚的侧面以及上表面包围形成蒸发空腔；移动机构，与所述活动台相连接，并可带动所述活动台在所述蒸镀坩埚内沿垂直于所述底板的方向移动；其中，在所述蒸镀坩埚的上表面设置有蒸镀材料出口。2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述移动机构包括伸缩部件，所述伸缩部件的伸缩端与所述活动台相连接、固定端与所述蒸镀坩埚相连接。3.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述移动机构包括弹性元件，所述弹性元件的一端与所述活动台相连接、另一端与所述蒸镀坩埚相连接。4.根据权利要求2或3所述的蒸镀源，其特征在于，所述移动机构与所述蒸镀坩埚相连接的一端，连接在所述蒸镀坩埚的上表面或下表面。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙力，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11