一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的点蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上蒸镀区域不同位置处的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括：支撑轴。调节罩，调节罩侧边设置在支撑轴上，调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过镂空区域，调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大。其中，支撑轴可转动，以带动调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。通过转动支撑轴，使通过侧边固定在支撑轴上的调节罩移动位置，从而使得调节罩能够覆盖于蒸镀源出口，以对由蒸镀源出口蒸发的蒸镀材料向待蒸镀基板上各个位置处的蒸发速率进行调节。

A vapor deposition cover, a vapor deposition source, a vapor deposition device, and a vapor deposition method

The embodiment of the invention provides a vapor deposition mask, evaporation source, device and method for deposition, relates to the vacuum evaporation field, can solve the existing point evaporation source in the evaporation process with evaporation substrate thickness of evaporated film layer deposition region at different positions of the inhomogeneous problem. Includes: support shaft. Adjust the side cover, adjusting cover is arranged on a supporting shaft, a regulating cover comprises a hollow area, the evaporation state of evaporation materials through the hollow area, adjusting cover evaporation material transmittance increases gradually from the center to the edge. Wherein, the supporting shaft can rotate so as to drive the adjusting cover to move and cover the outlet of the evaporation source. By rotating the support shaft, so that through the side edge of the fixed adjusting cover mobile location on the supporting shaft, thereby adjusting cover can cover from the evaporation source of exports, adjust to evaporation deposition rate at each location on the substrate with the material on the evaporation source by evaporation evaporation.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法
本专利技术涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法。
技术介绍
真空蒸发镀膜是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，以形成镀层的工艺。待成膜物质在蒸镀坩埚内部加热蒸发或升华后，上升并通过蒸镀坩埚上方的蒸发孔发出，待蒸镀基板匀速通过蒸发孔出口处的位置，蒸发出的待成膜物质离开蒸镀坩埚后的加热后逐渐降温，蒸发运动的速度也逐渐降低，最终在待蒸镀基板的表面沉积形成膜层。蒸镀装置的蒸镀源，根据蒸发孔的设置数量和排列方式来划分，可以分为点蒸镀源、线蒸镀源和面蒸镀源。点蒸镀源是在蒸镀坩埚上方仅有一个蒸发孔，成膜区域为以该蒸发孔为中心的一个较小范围，通常应用于对尺寸较小的膜层的蒸镀成膜。线蒸镀源指的是在蒸镀坩埚上方呈线性排列多个蒸发孔，在待蒸镀基板静止的情况下，通过线蒸镀源在待蒸镀基板上形成膜层的区域也为一条直线的形状。面蒸镀源指的是在蒸镀坩埚上方呈整面排布多个蒸发孔，以使得形成膜层的区域为与整面的蒸发孔相对应的整面区域。对于中小尺寸有机显示器件的小世代线，通常采用点蒸镀源进行蒸镀，中小尺寸待蒸镀基板在蒸镀过程中匀速旋转以平衡距离点蒸镀源较远位置处与距离点蒸镀源较近位置处蒸镀速率的差异，提高待蒸镀基板上各不同位置处的蒸镀膜层均匀性。但是这样只能够平衡待蒸镀基板上同一圆周区域内各处的膜层均匀性，对于其他不同位置之间的蒸镀速率的差异无法平衡调整，在待蒸镀基板上不同圆周区域之间仍然存在膜厚均匀性较差的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，能够解决现有的点蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上蒸镀区域不同位置处的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面，提供一种蒸镀罩，包括：支撑轴。调节罩，调节罩侧边设置在支撑轴上，调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过镂空区域，调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大。其中，支撑轴可转动，以带动调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。进一步的，调节罩为包括有多个通孔的盖板，盖板上单位面积内通孔面积所占的比例由中心向边缘逐渐增大。其中，多个通孔孔径相同，且盖板上单位面积内通孔的分布密度由中心向边缘逐渐增大；或者，多个通孔在盖板上单位面积内的分布密度相同，且多个通孔的孔径由中心向边缘逐渐增大。进一步的，本专利技术实施例的蒸镀罩还包括遮挡罩，遮挡罩侧边设置在支撑轴上，支撑轴可转动，以带动遮挡罩移动覆盖于蒸镀源出口。优选的，支撑轴包括主轴以及在主轴轴线的垂直平面内与主轴相连接的第一支杆和第二支杆，遮挡罩的侧边通过第一支杆与主轴相连接，调节罩的侧边通过第二支杆与主轴相连接。进一步的，第一支杆可绕主轴的周向转动。进一步的，第二支杆可绕主轴的周向转动。优选的，第一支杆和第二支杆均与主轴固定连接，主轴可绕其轴线转动，第一支杆的正投影与第二支杆的正投影之间夹角为30°-120°。本专利技术实施例的另一方面，提供一种蒸镀源，包括上述任一项的蒸镀罩，还包括蒸镀坩埚，蒸镀坩埚上设置有蒸镀源出口，蒸镀罩可转动并使得遮挡罩和/或调节罩覆盖于蒸镀源出口。本专利技术实施例的再一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀源，还包括控制器，控制器与支撑轴连接，控制支撑轴的转动。本专利技术实施例的又一方面，提供一种蒸镀方法，应用于上述的蒸镀装置，包括，加热蒸镀坩埚，使蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化；控制支撑轴转动，以使得遮挡罩和/或调节罩在支撑轴的带动下移动覆盖于蒸镀源出口。其中，支撑轴包括主轴以及在主轴轴线的垂直平面内与主轴相连接的第一支杆和第二支杆，遮挡罩的侧边通过第一支杆与主轴相连接，调节罩的侧边通过第二支杆与主轴相连接，控制支撑轴转动包括：控制第一支杆绕主轴的周向转动，或者，分别控制第一支杆和第二支杆绕主轴的周向转动。当第一支杆和第二支杆均与主轴固定连接，主轴可转动，且第一支杆和第二支杆的正投影之间夹角为30°-120°，控制支撑轴转动包括：控制主轴绕其轴线转动。本专利技术实施例提供一种蒸镀罩、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，包括：支撑轴。调节罩，调节罩侧边设置在支撑轴上，调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过镂空区域，调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大。其中，支撑轴可转动，以带动调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。通过转动支撑轴，使通过侧边固定在支撑轴上的调节罩移动位置，从而使得调节罩能够覆盖于蒸镀源出口，以对由蒸镀源出口蒸发的蒸镀材料向待蒸镀基板上各个位置处的蒸发速率进行调节。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩的结构示意图；图2为图1的俯视图(不包括待蒸镀基板和蒸镀掩模版)；图3为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩还包括遮挡罩的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩中调节罩的俯视图；图5为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩中还设置有第一支杆和第二支杆的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩中第一支杆可绕主轴周向转动的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩中第一支杆和第二支杆均可分别绕主轴周向转动的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种蒸镀罩中主轴可绕其轴线转动的结构示意图；图9a为图8的俯视图之一；图9b为图8的俯视图之二；图10为本专利技术实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；图11为本专利技术实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之一；图12为本专利技术实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之二；图13为本专利技术实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之三；图14为本专利技术实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之四。附图标记：00-蒸镀罩；01-控制器；10-支撑轴；11-主轴；12-第一支杆；13-第二支杆；20-调节罩；21-盖板；30-蒸镀坩埚；40-待蒸镀基板；50-蒸镀掩模版；60-遮挡罩；A-单位面积；A1、A2、A3-例举第一、第二、第三单位面积；X-镂空区域；a-蒸镀源出口；b-通孔；c-主轴轴线；α-第一支杆正投影与第二支杆正投影之间的夹角；Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ-蒸镀材料向待蒸镀基板不同位置处沉积的路径箭头。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种蒸镀罩，如图1所示，包括：支撑轴10。调节罩20，调节罩20侧边设置在支撑轴10上，调节罩20上包括有镂空区域X，蒸发状态的蒸镀材料可透过镂空区域X，调节罩20上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大。其中，支撑轴10可转动，以带动调节罩20移动覆盖于蒸镀源出口a。需要说明的是，第一，如图1所示，调节罩20上至少包括有一个镂空区域X，镂空区域X位于蒸镀坩埚30的蒸镀源出口a的对应上方，此处所述的对应上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀罩，其特征在于，包括：支撑轴；调节罩，所述调节罩侧边设置在所述支撑轴上，所述调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过所述镂空区域，所述调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大；其中，所述支撑轴可转动，以带动所述调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀罩，其特征在于，包括：支撑轴；调节罩，所述调节罩侧边设置在所述支撑轴上，所述调节罩上包括有镂空区域，蒸发状态的蒸镀材料可透过所述镂空区域，所述调节罩上的蒸镀材料透过率由中心向边缘逐渐增大；其中，所述支撑轴可转动，以带动所述调节罩移动覆盖于蒸镀源出口。2.根据权利要求1所述的蒸镀罩，其特征在于，所述调节罩为包括有多个通孔的盖板，所述盖板上单位面积内通孔面积所占的比例由中心向边缘逐渐增大；其中，所述多个通孔孔径相同，且所述盖板上单位面积内通孔的分布密度由中心向边缘逐渐增大；或者，所述多个通孔在所述盖板上单位面积内的分布密度相同，且所述多个通孔的孔径由中心向边缘逐渐增大。3.根据权利要求1或2所述的蒸镀罩，其特征在于，还包括遮挡罩，所述遮挡罩侧边设置在所述支撑轴上，所述支撑轴可转动，以带动所述遮挡罩移动覆盖于蒸镀源出口。4.根据权利要求3所述的蒸镀罩，其特征在于，所述支撑轴包括主轴以及在所述主轴轴线的垂直平面内与所述主轴相连接的第一支杆和第二支杆，所述遮挡罩的侧边通过所述第一支杆与所述主轴相连接，所述调节罩的侧边通过所述第二支杆与所述主轴相连接。5.根据权利要求4所述的蒸镀罩，其特征在于，所述第一支杆可绕所述主轴的周向转动。6.根据权利要求5所述的蒸镀罩，其特征在于，所述第一支杆和所述第二支杆均可绕所述主轴的周向转动。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓虎，王路，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11