一种双室磁控蒸发真空设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种双室磁控蒸发真空设备，涉及一种镀膜设备技术领域。该实用新型专利技术包括真空室、蒸发室和磁控室，蒸发室设置在真空室内左侧，磁控室设置在真空室内右侧，蒸发室和磁控室之间通过传递机构连接，传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，传递小车设置在传递轨道上，传递轨道上端设置有磁力短轴，磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴成并列结构设置。本实用新型专利技术在性能有了很大改善，不仅镀膜质量得到了提高，其结构更加合理、操作更加便利，并且成本低廉、使用维护方便的同时也大大减少了占地面积。

Double chamber magnetic controlled evaporation vacuum equipment

The utility model provides a double chamber magnetic control evaporation vacuum device, relating to the technical field of coating equipment. The utility model comprises a vacuum chamber, the evaporation chamber and the magnetron chamber, the evaporation chamber is left in a vacuum chamber, magnetron chamber set on the right side of the vacuum chamber between the evaporation chamber and a magnetron chamber is connected via a transmission mechanism, transmission mechanism including transfer orbit, magnetic short axis and transfer car, transfer carriage is arranged on the transfer orbit, orbit transfer is provided with a magnetic short axis magnetic short axis includes a first magnetic short axis, second axis, third magnetic magnetic short short axis, fourth axis and fifth magnetic magnetic short short axis, the first magnetic short axis, second axis, third magnetic magnetic short short axis, fourth axis and fifth magnetic magnetic short short axis are parallel structure. The utility model in performance has been greatly improved, not only the coating quality is improved, the structure is more reasonable, more convenient operation, and low cost, convenient use and maintenance but also greatly reduce the area.

【技术实现步骤摘要】
一种双室磁控蒸发真空设备
本技术涉及一种镀膜设备
，特别是涉及一种双室磁控蒸发真空设备。
技术介绍
现有的镀膜设备在日常使用过程中从使用者反馈的信息看主要存在如下几个问题：1、在基片传递过程中由于两室间距大(室中心距1100mm)传递距离太长，基片托下坠最大达5mm，造成与样品台交接时困难重重，由于设备运行是在全封闭真空环境下进行所以操作起来相当麻烦，严重影响镀膜工作的顺利进行。2、由于基片交接不稳定加之定位部件间的间隙配合，导致基片托在放入样品台时其传递水平面经常会出现偏差，镀膜工艺难以得到保证，膜层均匀度受到一定影响。3、该设备机械传递装置安装在磁控室一侧，属于常规的单向传递方式，按现在的传递间距其传递杆相应很长(约1250mm)，除占地面积大且操作起来很不方便。
技术实现思路
针对上述问题中存在的不足之处，本技术提供一种双室磁控蒸发真空设备，使其在性能有了很大改善，不仅镀膜质量得到了提高，其结构更加合理、操作更加便利，并且成本低廉、使用维护方便的同时也大大减少了占地面积。为了解决上述问题，本技术提供一种双室磁控蒸发真空设备，其中，包括真空室、蒸发室和磁控室，所述蒸发室设置在所述真本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双室磁控蒸发真空设备，其特征在于，包括真空室、蒸发室和磁控室，所述蒸发室设置在所述真空室内左侧，所述磁控室设置在所述真空室内右侧，所述蒸发室和所述磁控室之间通过传递机构连接，所述传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，所述传递小车设置在所述传递轨道上，所述传递轨道上端设置有所述磁力短轴，所述磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，所述第一磁力短轴、所述第二磁力短轴、所述第三磁力短轴、所述第四磁力短轴和所述第五磁力短轴成并列结构设置。

【技术特征摘要】
1.一种双室磁控蒸发真空设备，其特征在于，包括真空室、蒸发室和磁控室，所述蒸发室设置在所述真空室内左侧，所述磁控室设置在所述真空室内右侧，所述蒸发室和所述磁控室之间通过传递机构连接，所述传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，所述传递小车设置在所述传递轨道上，所述传递轨道上端设置有所述磁力短轴，所述磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，所述第一磁力短轴、所述第二磁力短轴、所述第三磁力短轴、所述第四磁力短轴和所述第五磁力...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵俊华，
申请(专利权)人：沈阳聚智真空设备有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21