蒸镀装置及蒸镀方法制造方法及图纸

一种蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀装置包含支撑件、蒸镀源、第一传感器、计算单元以及动作器。支撑件用以支撑基板。蒸镀源用以蒸镀蒸镀材料，使蒸镀材料沉积于基板上。第一传感器用以于多个检测位置检测蒸镀材料的多个蒸镀速率。计算单元用以依据于检测位置所检测到蒸镀材料的蒸镀速率，估计蒸镀角。动作器用以依据估计的蒸镀角来移动蒸镀源。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种蒸镀装置及蒸镀方法。
技术介绍
有机发光装置，也称为有机电致发光装置，可借由将至少一有机层设置于两个电极之间而形成。将有机材料蒸镀至有阳极的基板上，接着，设置阴极做为最上层有机层上的电极。有机层的厚度以及层体配置会影响有机发光装置的发光效率。为了使有机发光装置具有厚度均匀的有机层，有需要监察并控制有机发光装置的有机层的形成过程。
技术实现思路
根据本揭露的部分实施方式，蒸镀装置包含支撑件、蒸镀源、第一传感器、计算单元以及动作器。支撑件用以支撑基板。蒸镀源用以蒸镀蒸镀材料，使蒸镀材料沉积于基板上。第一传感器用以于多个检测位置检测蒸镀材料的多个蒸镀速率。计算单元用以依据于检测位置所检测到蒸镀材料的蒸镀速率，估计蒸镀角。动作器用以依据估计的蒸镀角，来移动蒸镀源。其中，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该检测线垂直于该基板的该表面。其中，该蒸镀源具有一开口，该蒸镀材料从该开口喷出，且该检测线于一投影平面上的投影与该蒸镀源的该开口于该投影平面上的投影分离，该投影平面平行于该基板的该表面。其中，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该检测线平行于该基板的该表面。其中，该些检测位置设置于一检测线，且该第一传感器是沿着该检测线可动的。其中，该些检测位置设置于一检测线，且该检测线是直的。其中，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，且该检测线相对于垂直该基板的该表面的法线方向倾斜。其中，该些检测位置设置于一检测线，且该检测线是弯曲的。其中，该蒸镀装置更包含：一腔体，用以容纳该支撑件、该蒸镀源以及该第一传感器，其中该支撑件邻近该腔体的一壁面，且该些检测位置位于该蒸镀源以及该腔体的该壁面之间。其中，该计算单元包含：一比较单元，用以将所检测到的该些蒸镀速率与多个参考蒸镀速率分别进行比较，该动作器是用以依据所检测到的该些蒸镀速率与该些参考蒸镀速率之间的多个差值而移动该蒸镀源。其中，该蒸镀装置更包含：一第二传感器，用以于一预定位置检测该蒸镀材料的一监察蒸镀速率；以及一控制单元，用以依据该监察蒸镀速率来控制该蒸镀源的温度。其中，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该蒸镀源在垂直于该基板的该表面的方向上是可动的。其中，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该蒸镀源在平行于该基板的该表面的方向上是可动的。根据本揭露的部分实施方式，蒸镀方法包含下列步骤。借由蒸镀源蒸镀蒸镀材料，使蒸镀材料沉积于基板上。于多个检测位置检测蒸镀材料的多个蒸镀速率。依据于检测位置所检测到蒸镀材料的蒸镀速率，估计蒸镀角。依据估计的蒸镀角，移动蒸镀源。其中，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，且该检测线垂直于该基板的该表面。其中，该蒸镀源具有一开口，该蒸镀材料从该开口喷出，且该检测线于一投影平面上的投影与该蒸镀源的该开口于该投影平面上的投影分离，该投影平面平行于该基板的该表面。其中，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，且该检测线平行于该基板的该表面。其中，于借由一第一传感器于该些检测位置检测该蒸镀材料的该些蒸镀速率，且于该些检测位置检测该蒸镀材料的该些蒸镀速率的步骤包含沿一检测线移动该第一传感器，该些检测位置设置于一检测线。其中，估计该蒸镀角的步骤包含将所检测到的该些蒸镀速率与多个参考蒸镀速率分别进行比较，且移动该蒸镀源的步骤包含依据所检测到的该些蒸镀速率与该些参考蒸镀速率之间的多个差值而移动该蒸镀源。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当所检测到的该些蒸镀速率分别大于该些参考蒸镀速率时，沿着垂直于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源接近该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当所检测到的该些蒸镀速率分别小于该些参考蒸镀速率时，沿着垂直于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源远离该基板，其中该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当所检测到的该些蒸镀速率分别大于该些参考蒸镀速率时，沿着平行于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源远离该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当所检测到的该些蒸镀速率分别小于该些参考蒸镀速率时，沿着平行于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源接近该基板，其中该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当该蒸镀角大于一参考蒸镀角时，沿着垂直于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源接近该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当该蒸镀角小于一参考蒸镀角时，沿着垂直于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源远离该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当该蒸镀角大于一参考蒸镀角时，沿着平行于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源远离该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，移动该蒸镀源的步骤包含：当该蒸镀角小于一参考蒸镀角时，沿着平行于该基板的一表面的一方向，移动该蒸镀源接近该基板，该蒸镀材料沉积于该基板的该表面上。其中，所述蒸镀方法更包含：于一预定位置检测该蒸镀材料的一监察蒸镀速率；以及依据该监察蒸镀速率控制该蒸镀源的温度。其中，控制该蒸镀源的温度的步骤包含：当该监察蒸镀速率下降时，提升该蒸镀源的温度。其中，控制该蒸镀源的温度的步骤包含：当该监察蒸镀速率上升时，降低该蒸镀源的温度。附图说明图1A为根据本揭露的第一实施方式的蒸镀装置的示意图。图1B为根据第一实施方式在高度与水平距离的三维坐标系统中展现检测线的关系图。图1C为展现蒸镀速率的检测结果与沿着图1B的检测线的检测位置的关系图。图2为根据本揭露的部分实施方式的蒸镀方法的流程图。图3A为根据本揭露的第二实施方式的蒸镀装置的示意图。图3B为根据第二实施方式在高度与水平距离的三维坐标系统中展现检测线的关系图。图3C为展现蒸镀速率的检测结果与沿着图3B的检测线的检测位置的关系图。图4A为根据本揭露的第三实施方式在高度与水平距离的三维坐标系统中展现检测线的关系图。图4B为展现蒸镀速率的检测结果与沿着图4A的检测线的检测位置的关系图。图5A为根据本揭露的第四实施方式在高度与水平距离的三维坐标系统中展现检测线的关系图。图5B为展现蒸镀速率的检测结果与沿着图5A的检测线的检测位置的关系图。其中，附图标记：100：蒸镀装置110：支撑件120：蒸镀源122：坩埚122a：开口124：加热器130：第一传感器140：计算单元150：动作器160：腔体162：壁面170：第二传感器180：控制单元200：基板202：表面300：蒸镀材料400：蒸镀方法402～408：步骤Θ：蒸镀角P：检测位置L：检测线PL：投影平面PP：预定位置VC1：曲线VC2：曲线VRC：曲线HC1：曲线HC2：曲线HRC：曲线CC1：曲线CC2：曲线CRC：曲线SC1：曲线SC2：曲线SRC：曲线具体实施方式以下以图式说明本揭露的多个实施例，并详细介绍本揭露的多个实施方式。尽可能地，图式与叙述中相同的标号用以表示相同或相似的对象。图1A为根据本揭露的第一实施方式的蒸镀装置100的示意图。蒸镀装置100包含支撑件110、蒸镀源120、第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀装置，其特征在于，包含：一支撑件，用以支撑一基板；一蒸镀源，用以蒸镀一蒸镀材料，使该蒸镀材料沉积于该基板上；一第一传感器，用以于多个检测位置检测该蒸镀材料的多个蒸镀速率；一计算单元，用以依据于该些检测位置所检测到该蒸镀材料的该些蒸镀速率，估计一蒸镀角；以及一动作器，用以依据该估计的蒸镀角，来移动该蒸镀源。

【技术特征摘要】
2015.12.09 SG 10201510101X1.一种蒸镀装置，其特征在于，包含：一支撑件，用以支撑一基板；一蒸镀源，用以蒸镀一蒸镀材料，使该蒸镀材料沉积于该基板上；一第一传感器，用以于多个检测位置检测该蒸镀材料的多个蒸镀速率；一计算单元，用以依据于该些检测位置所检测到该蒸镀材料的该些蒸镀速率，估计一蒸镀角；以及一动作器，用以依据该估计的蒸镀角，来移动该蒸镀源。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该检测线垂直于该基板的该表面。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，该蒸镀源具有一开口，该蒸镀材料从该开口喷出，且该检测线于一投影平面上的投影与该蒸镀源的该开口于该投影平面上的投影分离，该投影平面平行于该基板的该表面。4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该检测线平行于该基板的该表面。5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，且该第一传感器是沿着该检测线可动的。6.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，且该检测线是直的。7.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，且该检测线相对于垂直该基板的该表面的法线方向倾斜。8.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，且该检测线是弯曲的。9.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，更包含：一腔体，用以容纳该支撑件、该蒸镀源以及该第一传感器，其中该支撑件邻近该腔体的一壁面，且该些检测位置位于该蒸镀源以及该腔体的该壁面之
\t间。10.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该计算单元包含：一比较单元，用以将所检测到的该些蒸镀速率与多个参考蒸镀速率分别进行比较，该动作器是用以依据所检测到的该些蒸镀速率与该些参考蒸镀速率之间的多个差值而移动该蒸镀源。11.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，更包含：一第二传感器，用以于一预定位置检测该蒸镀材料的一监察蒸镀速率；以及一控制单元，用以依据该监察蒸镀速率来控制该蒸镀源的温度。12.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该蒸镀源在垂直于该基板的该表面的方向上是可动的。13.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，该蒸镀源在平行于该基板的该表面的方向上是可动的。14.一种蒸镀方法，其特征在于，包含：借由一蒸镀源蒸镀一蒸镀材料，使该蒸镀材料沉积于一基板上；于多个检测位置检测该蒸镀材料的多个蒸镀速率；依据于该些检测位置所检测到的该蒸镀材料的该些蒸镀速率，估计一蒸镀角；以及依据该估计的蒸镀角，移动该蒸镀源。15.根据权利要求14所述的蒸镀方法，其特征在于，该些检测位置设置于一检测线，该蒸镀材料沉积于该基板的一表面上，且该检测线垂直于该基板的该表面。16.根据权利要求15所述的蒸镀方法，其特征在于，该蒸镀源具有一开口，该蒸镀材料从该开口喷出，且该检测线于一投影平面上的投影与该蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：萧智鸿，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71