光源装置制造方法及图纸

技术编号:40947603 阅读:21 留言:0更新日期:2024-04-18 20:21
本发明专利技术提供一种光源装置,其包括反射基板以及多个发光元件。反射基板具有多个反射槽。各个反射槽具有底部曲面与侧壁曲面。底部曲面由参考曲面定义而成。侧壁曲面围绕底部曲面,并由参考抛物面定义而成。参考曲面不同于参考抛物面。这些发光元件设置于反射基板上方,并用于对这些反射槽发出光线。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关一种光源装置,尤其是一种有关于一种包括多个发光元件的光源装置。


技术介绍

1、现有液晶显示器的直下式背光模组(direct type backlightmodule)已采用发光二极管(light emitting diode,led)来作为发光源。不过,目前常用的发光二极管,特别是次毫米发光二极管(mini led)与微型发光二极管(micro led),在发光的时候会朝四面八方发出光线,如同点光源,以至于发光二极管的光学准直度(optical collimation)不佳,导致发光二极管所发出的光线很多不会入射于液晶显示面板,降低直下式背光模组的效能。


技术实现思路

1、本专利技术至少一实施例提出一种光源装置,其所包括的反射基板能改善光学准直度。

2、本专利技术至少一实施例所提出的光源装置包括反射基板以及多个发光元件。反射基板具有多个反射槽,其中各个反射槽具有底部曲面与侧壁曲面。底部曲面由参考曲面定义而成。侧壁曲面围绕底部曲面,并由参考抛物面定义而成,其中参考曲面不同于参考抛物面本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光源装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述参考抛物面为旋转抛物面。

3.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述底部曲面的宽度与所述侧壁曲面的外径之间的比值介于0.3至0.8之间。

4.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述反射槽的最大宽度大于或等于100微米。

5.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述参考曲面为抛物面,并具有一第一焦点,而所述参考抛物面具有一第二焦点,其中在同一所述反射槽中,所述第一焦点与所述第二焦点不重叠。

6.如权利要求5所述的光源装置,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种光源装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述参考抛物面为旋转抛物面。

3.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述底部曲面的宽度与所述侧壁曲面的外径之间的比值介于0.3至0.8之间。

4.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述反射槽的最大宽度大于或等于100微米。

5.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述参考曲面为抛物面,并具有一第一焦点,而所述参考抛物面具有一第二焦点,其中在同一所述反射槽中,所述第一焦点与所述第二焦点不重叠。

6.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,所述参考曲面具有一第一焦距,而所述参考抛物面具有一第二焦距,所述第一焦距大于所述第二焦距。

7.如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,所述参考曲面具有...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢尚玮
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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